JPH01260751A - 荷電ビーム装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、イオンビームや電子ビームなどの荷電ビーム
を対象上に照射する荷電ビーム装置に関し、特に複数の
荷電ビーム源を備えた装置に関する。

［従来技術］ 近時、イオンビームで試料をエツチングした後、電子ビ
ームを使って二次電子像や反射電子像を取得したり、微
小部Ｘ線分析やオージェ分析を行うことの可能な装置が
注目されている。第２図は、特開昭５９−６８１５９号
公報に記載されているそのような装置の概略図である。

第２図において、電子銃１から発生した電子ビームは、
集束レンズ２．対物レンズ３上によって試料４上に細く
集束されると共に、偏向器５によって試料上でラスク走
査きれる。試料から発生する二次電子を検出器６により
検出して表示装置へ送れば、二次電子像を得るこ゛とが
できる。

また、イオン源７から発生しレンズ８によってビーム径
や電流などが制御されたイオンビームは、電子ビームの
通過する電子光学系の中間に設置された偏向部９へ入射
し、電子ビーム軸に沿って進行するように偏向される。

このイオンビームも、対物レンズ３によって試料４上に
細く集束され、偏向器５によりラスク走査すれば、試料
上の広い範囲をエツチングすることができる。

［発明が解決しようとする課題］ 上述した従来例では、偏向部９においてビームを偏向す
る際、イオンビームのエネルギーにばらつきがあると、
ビームが偏向部９において広がってしまい、電子ビーム
とイオンビームを切換えたときに、集束性が大巾に変化
する。そのため、電子ビームとイオンビームを切換えた
ときに、対物レンズ強度を大巾に調節しなければならず
、切換えを短時間に行うことは困難であった。

本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、ビ
ームのエネルギーにばらつきが多少あっても、ビームが
偏向部において広がらず、ビーム切換え時に集束性が大
巾に変化することのない荷電粒子ビーム装置を提供する
ことを目的としている。

［課題を解決するための手段］ この目的を達成するため、本発明は、複数の荷電ビーム
源と、該複数の荷電ビーム源に付属して設けられ、各荷
電ビーム源からの荷電ビームが同一点にクロスオーバー
を結ぶように各ビームを集束させる集束レンズと、上記
点を偏向中心とするように設置される偏向器と、該偏向
器を通過した荷電ビームが入射するアパーチュアと、該
アパーチュアを通過した荷電ビームを対象上に集束させ
るための対物レンズとから構成されることを特徴として
いる。

［作用］ 本発明においては、各荷電ビーム源からの荷電ビームは
同一点にクロスオーバーを結び、このクロスオーバー点
において偏向されるため、ビームのエネルギー幅による
広がりは完全に抑えられ、ビームを切換えても集束性の
変化はない。

以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳説する。

［実施例］ 第１図は本発明の一実施例を示す概略図であり、第２図
と同一の構成要素には、同一番号が付されている。第１
図においてイオン源７から発生したイオンビームは、レ
ンズ８によりＡ点にクロスオーバーを結ぶように集束さ
れた後、アパーチュア１０を介して対物レンズ３へ入射
し、対物レンズ３により試料４上に細く集束される。

一方、電子銃１から発生した電子ビームも、集束レンズ
２によってＡ点にクロスオーバーを結ぶように集束され
る。１１はこのＡ点が偏向中心となるように設置された
静電偏向器で、そのすぐ下方に前記アパーチュア１０が
配置されている。

上記構成において、偏向器１１に偏向信号が供給されな
い図示の状態では、イオンビームがアパーチュア１０を
通過し試料４上に照射され、電子ビームはアパーチュア
により遮断される。

一方、偏向器１１に適宜な偏向信号を供給すれば、電子
ビーム及びイオンビームは偏向を受け、イオンビームは
破線で示すようにアパーチュア１０により遮断され、電
子ビームはアパーチュアを通過し、試料４へ照射される
。

本発明では、各ビームは、最も細く集束されるクロスオ
ーバー点において偏向されるため、ビームのエネルギー
幅による広がりは完全に抑えられ、ビームを切換えても
集束性の変化はない。

尚、上記実施例は例示であり、本発明は変形して実施す
ることができる。例えば、上記実施例では電子ビームと
イオンビームを用いたが、両方ともイオンビームでも良
いし、荷電粒子ビーム源の数も３つ以上であっても良い
。

更に、偏向器１１としては、平行平板型のものに限らず
、例えば８極偏向器のようにビームを任意の方向に偏向
できるものを用いても良く、これは特に荷電ビーム源が
３つ以上ある場合に用いて好適である。

［効果］ 以上詳述した如く、本発明によれば、ビームのエネルギ
ーにばらつきが多少あっても、ビーム切換え時に集束性
が大巾に変化することのない荷電ビーム装置が実現され
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略図であり、第２図
は従来例の概略図である。 １：電子銃　　　２，８：集束レンズ ３：対物レンズ　４：試料 ７：イオン源　　１０：アパーチュア １１：偏向器

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）複数の荷電ビーム源と、該複数の荷電ビーム源に
   付属して設けられ、各荷電ビーム源からの荷電ビームが
   同一点にクロスオーバーを結ぶように各ビームを集束さ
   せる集束レンズと、上記点を偏向中心とするように設置
   される偏向器と、該偏向器を通過した荷電ビームが入射
   するアパーチュアと、該アパーチュアを通過した荷電ビ
   ームを対象上に集束させるための対物レンズとから構成
   されることを特徴とする荷電ビーム装置。
2. （２）前記複数の荷電ビーム源のうち１つは電子ビーム
   を発生する電子銃で、１つはイオンビームを発生するイ
   オン源である請求項１記載の荷電ビーム源。