JPH01220352A - 走査電子顕微鏡及びその類似装置 - Google Patents
走査電子顕微鏡及びその類似装置Info
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- JPH01220352A JPH01220352A JP63041986A JP4198688A JPH01220352A JP H01220352 A JPH01220352 A JP H01220352A JP 63041986 A JP63041986 A JP 63041986A JP 4198688 A JP4198688 A JP 4198688A JP H01220352 A JPH01220352 A JP H01220352A
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J2237/24507—Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、走査電子顕微鏡及びその類似装置に係り、特
に低加速電圧から高加速電圧まで高分解能を保持するの
に好適な走査電子顕微鏡及びその類似装置に関する。
に低加速電圧から高加速電圧まで高分解能を保持するの
に好適な走査電子顕微鏡及びその類似装置に関する。
走査電子顕微鏡などに使用される二次電子検出器には二
次電子を効率良く検出するために、検出器に高電圧（約
１０ｋＶ）が印加されている。この高電圧による電界は
、−次電子線の通路に染みだしているために、−次電子
線を偏向させる。高加速電圧の時にはこの偏向量は少な
いために問題にならなくとも、低加速電圧のときには偏
向量が大きくなり、問題となる。特に、試料をレンズの
内部に配置し、レンズの上方に二次電子検出器を配置し
た構成の場合には、分解能の低下を招く。
次電子を効率良く検出するために、検出器に高電圧（約
１０ｋＶ）が印加されている。この高電圧による電界は
、−次電子線の通路に染みだしているために、−次電子
線を偏向させる。高加速電圧の時にはこの偏向量は少な
いために問題にならなくとも、低加速電圧のときには偏
向量が大きくなり、問題となる。特に、試料をレンズの
内部に配置し、レンズの上方に二次電子検出器を配置し
た構成の場合には、分解能の低下を招く。
これは−吹型子線が偏向されるために、レンズの軸外収
差を受けるために生じる。
差を受けるために生じる。
この問題を解決するために、特開昭６２−１８６４５１
に記載されているように（第２図参照）、二次電子検出
器と光軸との距離を変えた二次電子検出器を複数個設け
た構成のものが考案されている。
に記載されているように（第２図参照）、二次電子検出
器と光軸との距離を変えた二次電子検出器を複数個設け
た構成のものが考案されている。
上記従来例においては複数個の検出器を配置するための
空間が必要となる問題があるために、低加速電圧から高
加速電圧まで連続的に変化させることが困難であり、従
って低加速電圧から高加速電圧まで一様に良好な分解能
を保持できないという問題があった。
空間が必要となる問題があるために、低加速電圧から高
加速電圧まで連続的に変化させることが困難であり、従
って低加速電圧から高加速電圧まで一様に良好な分解能
を保持できないという問題があった。
本発明の課題は低加速電圧から高加速電圧に至るまで高
分解能を保持しうる走査型電子顕微鏡を提供することに
ある。
分解能を保持しうる走査型電子顕微鏡を提供することに
ある。
上記課題は、低加速電圧から高加速電圧まで連続的に一
次電子線に影響を与えない二次電子検出器を走査電子顕
微鏡に採用することで達成される。
次電子線に影響を与えない二次電子検出器を走査電子顕
微鏡に採用することで達成される。
すなわち、−吹型子線の通路に染みだしている二次電子
検出器の電界を電気的に制御すればよい。
検出器の電界を電気的に制御すればよい。
この場合、検出器は一個で可能となり、配置空間の問題
も解決する。
も解決する。
（作用〕
一次電子線の通路に染みだしている二次電子検出器の電
界を制御するためには、検出器に印加されている高電圧
を制御するかもしくはこの電界を制御するための電極を
配置すれば可能となる。−般に二次電子検出器耗は、電
子が衝突すると光を放射するシンチレータ、この光を高
感度で検知するホトマルにより構成されている。このシ
ンチレータには約１０ｋＶの高電圧が印加されているが
。
界を制御するためには、検出器に印加されている高電圧
を制御するかもしくはこの電界を制御するための電極を
配置すれば可能となる。−般に二次電子検出器耗は、電
子が衝突すると光を放射するシンチレータ、この光を高
感度で検知するホトマルにより構成されている。このシ
ンチレータには約１０ｋＶの高電圧が印加されているが
。
数ｋＶ以上で発光するので、前者の方式は、直接この印
加電圧を加速電圧と連動して制御するものである。後者
の方式は、シンチレータに印加されている高電圧を一定
にして、制御電極の電圧を加速電圧と連動して制御する
ものである。このようにすることにより、低加速電圧か
ら高加速電圧まで連続的に一次電子線に影響を与えない
二次電子検出器が可能となる。
加電圧を加速電圧と連動して制御するものである。後者
の方式は、シンチレータに印加されている高電圧を一定
にして、制御電極の電圧を加速電圧と連動して制御する
ものである。このようにすることにより、低加速電圧か
ら高加速電圧まで連続的に一次電子線に影響を与えない
二次電子検出器が可能となる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。電子
銃１から出た電子線２は、幾つかのレンズ（対物レンズ
４以外省略）により細く絞られて試料５上に照射されて
いる。この電子線２は偏向器３により、試料５上を二次
元的に走査される。
銃１から出た電子線２は、幾つかのレンズ（対物レンズ
４以外省略）により細く絞られて試料５上に照射されて
いる。この電子線２は偏向器３により、試料５上を二次
元的に走査される。
試料５から出てくる二次電子６は、二次電子検出器７の
電界７６により加速されてシンチレータ７４に衝突し１
発光した光をホトマル７５により検出する０本実施例で
は、電界７６を制御するための制御電極７３が、絶縁ス
ペーサ７２をはさんでシールド電極７１（接地電位）に
取り付けられている。
電界７６により加速されてシンチレータ７４に衝突し１
発光した光をホトマル７５により検出する０本実施例で
は、電界７６を制御するための制御電極７３が、絶縁ス
ペーサ７２をはさんでシールド電極７１（接地電位）に
取り付けられている。
このような構成において、加速電圧設定器８により加速
電圧を決めると、加速電圧発生器９により、所望の電圧
が電子銃１に印加される。このとき同時に制御電圧発生
器１０により加速電圧に対応した制御電圧が発生され、
制御電極７３に印加される。この制御電極７３に印加さ
れる制御電圧は、−吹型子線２をほとんど偏向させない
程度の電界７６を形成するように、制御電圧発生器１０
にあらかじめ設定されている。すなわち、−吹型子線２
は常に対物レンズ４の中心に入射させることができるの
で、レンズの軸外収差を受けず分解能の低下を防ぐこと
が可能となる。なお、加速電圧と制御電圧の関係は、あ
る関数で行ってもよいし、加速電圧の範囲に応じて階段
的に制御電圧を変化させるようにしてもよい、要は、加
速電圧に連動しておればよい。
電圧を決めると、加速電圧発生器９により、所望の電圧
が電子銃１に印加される。このとき同時に制御電圧発生
器１０により加速電圧に対応した制御電圧が発生され、
制御電極７３に印加される。この制御電極７３に印加さ
れる制御電圧は、−吹型子線２をほとんど偏向させない
程度の電界７６を形成するように、制御電圧発生器１０
にあらかじめ設定されている。すなわち、−吹型子線２
は常に対物レンズ４の中心に入射させることができるの
で、レンズの軸外収差を受けず分解能の低下を防ぐこと
が可能となる。なお、加速電圧と制御電圧の関係は、あ
る関数で行ってもよいし、加速電圧の範囲に応じて階段
的に制御電圧を変化させるようにしてもよい、要は、加
速電圧に連動しておればよい。
以上は本発明の一実施例である。〔作用〕で述べたよう
に、シンチレータの印加電圧１１を直接制御しても可能
である。この場合制御電極７３は不用となる。
に、シンチレータの印加電圧１１を直接制御しても可能
である。この場合制御電極７３は不用となる。
本実施例はレンズ４の中に試料６が配置された構成のも
のについて説明したが、これに限ることなく１例えば試
料５がレンズ４の下方にあっても同様にできる。また、
電子線について述べたが。
のについて説明したが、これに限ることなく１例えば試
料５がレンズ４の下方にあっても同様にできる。また、
電子線について述べたが。
イオン線のようなものでも同様に実施できることはいう
までもない。
までもない。
以上に述べたごとく、本発明によれば、二次電子検出器
の印加電圧により生じる電界を加速電圧に応じて制御す
るので、広範囲の加速電圧に対して一次電子線に偏向を
与えないようにできる。従って、レンズの軸外収差を受
けないので、高分解能観察に適した走査電子顕ｖＩ鏡が
提供できる効果がある。また、−個の二次電子検出器で
行なえるので、配置空間を節約でき装置がコンパクトと
なる効果もある。
の印加電圧により生じる電界を加速電圧に応じて制御す
るので、広範囲の加速電圧に対して一次電子線に偏向を
与えないようにできる。従って、レンズの軸外収差を受
けないので、高分解能観察に適した走査電子顕ｖＩ鏡が
提供できる効果がある。また、−個の二次電子検出器で
行なえるので、配置空間を節約でき装置がコンパクトと
なる効果もある。
第１図は、本発明の一実施例を示す基本断面図、第２図
は、従来方式の基本構成図。 １・・・電子銃、２・・・−吹型子線、３・・・偏向器
、４・・・対物レンズ、５・・・試料、６・・・二次電
子、７・・・二次電子検出機、７１・・・シールド電極
、７２・・・絶縁スペーサ、７３・・・制御電極、７４
・・・シンチレータ。
は、従来方式の基本構成図。 １・・・電子銃、２・・・−吹型子線、３・・・偏向器
、４・・・対物レンズ、５・・・試料、６・・・二次電
子、７・・・二次電子検出機、７１・・・シールド電極
、７２・・・絶縁スペーサ、７３・・・制御電極、７４
・・・シンチレータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電子線を発生させる電子銃と、上記電子線を細く絞
るレンズと、上記細く絞つた電子線を照射するための試
料と、該試料から発生する二次電子を検出する二次電子
検出器と、該二次電子検出器に電圧を印加する手段を有
する電子線装置において、上記二次電子検出器に印加さ
れた電圧により生じる電界を上記電子銃に印加された高
電圧に連動して変化させる手段を設けたことを特徴とす
る走査電子顕微鏡及びその類似装置。 ２、上記電界を変化させる手段は、上記二次電子検出器
に印加された電圧を変化させることを特徴とする請求項
１記載の走査電子顕微鏡及びその類似装置。 ３、上記電界を変化させる手段は、上記二次電子検出器
に設けた可変の電圧の印加される制御用電極によつてな
ることを特徴とする請求項１記載の走査電子顕微鏡及び
その類似装置。 ４、上記試料は、上記レンズの内部に配置され、上記二
次電子検出器は上記レンズの電子銃側に配置されること
を特徴とする請求項１記載の走査電子顕微鏡及その類似
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63041986A JPH01220352A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 走査電子顕微鏡及びその類似装置 |
| US07/310,920 US4893009A (en) | 1988-02-26 | 1989-02-16 | Scanning electron microscope and the like apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63041986A JPH01220352A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 走査電子顕微鏡及びその類似装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01220352A true JPH01220352A (ja) | 1989-09-04 |
Family
ID=12623522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63041986A Pending JPH01220352A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 走査電子顕微鏡及びその類似装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4893009A (ja) |
| JP (1) | JPH01220352A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH071685B2 (ja) * | 1990-09-06 | 1995-01-11 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
| JP3514070B2 (ja) * | 1997-04-25 | 2004-03-31 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
| US6365897B1 (en) | 1997-12-18 | 2002-04-02 | Nikon Corporation | Electron beam type inspection device and method of making same |
| JP4236742B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2009-03-11 | 株式会社日立製作所 | 走査形電子顕微鏡 |
| US6465783B1 (en) * | 1999-06-24 | 2002-10-15 | Nikon Corporation | High-throughput specimen-inspection apparatus and methods utilizing multiple parallel charged particle beams and an array of multiple secondary-electron-detectors |
| JP2003331770A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-21 | Seiko Instruments Inc | 電子線装置 |
| EP1619495A1 (en) * | 2004-07-23 | 2006-01-25 | Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Method and Apparatus for inspecting a specimen surface and use of fluorescent materials |
| GB2442027B (en) * | 2006-09-23 | 2009-08-26 | Zeiss Carl Smt Ltd | Charged particle beam instrument and method of detecting charged particles |
| EP2006881A3 (en) * | 2007-06-18 | 2010-01-06 | FEI Company | In-chamber electron detector |
| CN216161686U (zh) * | 2021-09-03 | 2022-04-01 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种电子显微镜 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3792263A (en) * | 1972-09-13 | 1974-02-12 | Jeol Ltd | Scanning electron microscope with means to remove low energy electrons from the primary electron beam |
| US4596929A (en) * | 1983-11-21 | 1986-06-24 | Nanometrics Incorporated | Three-stage secondary emission electron detection in electron microscopes |
| JPS60212953A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
| JPS62186451A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63041986A patent/JPH01220352A/ja active Pending
-
1989
- 1989-02-16 US US07/310,920 patent/US4893009A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4893009A (en) | 1990-01-09 |
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