JPH01258690A - ホスホベタイン - Google Patents
ホスホベタインInfo
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- JPH01258690A JPH01258690A JP20508388A JP20508388A JPH01258690A JP H01258690 A JPH01258690 A JP H01258690A JP 20508388 A JP20508388 A JP 20508388A JP 20508388 A JP20508388 A JP 20508388A JP H01258690 A JPH01258690 A JP H01258690A
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- ethyl phosphate
- phosphobetaine
- ammonio
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
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- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/005—Antimicrobial preparations
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、医薬品基剤、化粧料及びペンキ、インク等の
乳化剤、可溶化剤。分散剤、洗浄基剤。
乳化剤、可溶化剤。分散剤、洗浄基剤。
増粘荊等に適用可能であると共に、抗菌性に優れる後記
の一般式(11で示す2−(トリアルキルアンモニオ)
エチルホスフェートからなるホスホベタインに間する。
の一般式(11で示す2−(トリアルキルアンモニオ)
エチルホスフェートからなるホスホベタインに間する。
(従来の技術及び問題点)
皮膚刺激の少ない界面活性剤の開発が一般的に望まれて
いる一方、広範囲に強い抗菌スペクトルを有する物質を
有効成分とする抗菌剤も常に求められている。米国特許
広報3,856,893号に示されている如く、リン脂
質類似構造を有するリン酸エステル系界面活性剤が提案
されている。この界面活性剤につき詳細に調べると、本
物質は、優れた界面活性能を持つが坑口性については必
ずしも充分でなかった。
いる一方、広範囲に強い抗菌スペクトルを有する物質を
有効成分とする抗菌剤も常に求められている。米国特許
広報3,856,893号に示されている如く、リン脂
質類似構造を有するリン酸エステル系界面活性剤が提案
されている。この界面活性剤につき詳細に調べると、本
物質は、優れた界面活性能を持つが坑口性については必
ずしも充分でなかった。
(問題点を解決するための手段)
そこで、この問題点を解決するために、鋭意検討を行っ
た結果、後記一般式で示されるホスホベタイン系界面活
性剤は、界面活性に優れると同時に、広範囲に強い抗菌
スペクトルを有することを見出し、本発明を完成した。
た結果、後記一般式で示されるホスホベタイン系界面活
性剤は、界面活性に優れると同時に、広範囲に強い抗菌
スペクトルを有することを見出し、本発明を完成した。
従って、本発明の目的は、後記一般式で示される2−(
トリアルキルアンモニオ)エチルホスフェートからなる
ホスホベタインを提供することにある。
トリアルキルアンモニオ)エチルホスフェートからなる
ホスホベタインを提供することにある。
すなはち、本発明は、下記一般式(1)(式中、R′は
炭素数10〜18、R“、R”は炭素数1〜6からなる
アルキル基)で表される2−(トリアルキルアンモニオ
)エチルホスフェートからなるホスホベタインに関する
。
炭素数10〜18、R“、R”は炭素数1〜6からなる
アルキル基)で表される2−(トリアルキルアンモニオ
)エチルホスフェートからなるホスホベタインに関する
。
(発明の詳細な説明)
本発明の前記−・綴代(11で表される2−(トリアル
キルアンモニオ)エチルホスフェートからなるホスホベ
タインは、2− (デシルジメチルアンモニオ)エチル
ホスフェート、2−(ジメチルドデシルアンモニオ)エ
チルホスフェート92−(ジエチルドデシルアンモニオ
)エチルホスフェート。
キルアンモニオ)エチルホスフェートからなるホスホベ
タインは、2− (デシルジメチルアンモニオ)エチル
ホスフェート、2−(ジメチルドデシルアンモニオ)エ
チルホスフェート92−(ジエチルドデシルアンモニオ
)エチルホスフェート。
2−(ドデシルエチルプロピルアンモニオ)エチルホス
フを一ト、2−(ジブチルドデシルアンモニオ)エチル
ホスフェート、2−(ジメチルテトラデシルアンモニオ
)エチルホスフェート、2−(ジエチルテトラデシルア
ンモニオ)エチルホスフェート、2−(エチルプロピル
テトラデシルアンモ二オ)エチルホスフェート、2−(
ジブチルテトラデシルアンモニオ)エチルホスフェ−1
−。
フを一ト、2−(ジブチルドデシルアンモニオ)エチル
ホスフェート、2−(ジメチルテトラデシルアンモニオ
)エチルホスフェート、2−(ジエチルテトラデシルア
ンモニオ)エチルホスフェート、2−(エチルプロピル
テトラデシルアンモ二オ)エチルホスフェート、2−(
ジブチルテトラデシルアンモニオ)エチルホスフェ−1
−。
2−(ジメチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェート、2−(ジエチルヘキサデシルアンモニオ)エチ
ルホスフェート、2−(ジプロピルヘキサデシルアンモ
ニオ)エチルホスフェート。
ェート、2−(ジエチルヘキサデシルアンモニオ)エチ
ルホスフェート、2−(ジプロピルヘキサデシルアンモ
ニオ)エチルホスフェート。
2−(ジブチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェ−)、2−(ジメチルオクタデシルアンモニ1)エチ
ルホスフェート等であるが、これらに限られるものでは
ない0本発明の前記−綴代f1+で表される2−(トリ
アルキルアンモニオ)エチルホスフェートからなるホス
ホベタインは、例えば、次のように製造される0次式 %式% (式中、R′は叡ユ炭素数10〜18、R“。
ェ−)、2−(ジメチルオクタデシルアンモニ1)エチ
ルホスフェート等であるが、これらに限られるものでは
ない0本発明の前記−綴代f1+で表される2−(トリ
アルキルアンモニオ)エチルホスフェートからなるホス
ホベタインは、例えば、次のように製造される0次式 %式% (式中、R′は叡ユ炭素数10〜18、R“。
R′は炭素数1〜6からなるアルキル基、Xは塩素、ヨ
ウ素、臭素或いはフッ素)で表されるハロゲン化(2−
ヒドロキシエチル)トリアルキルア撹拌しながら室温下
で徐々に加えた後、そのまま攪拌を2〜30時間続ける
。その後、反応液から溶媒を留去し、水を溶媒として室
温下で2〜10時間撹拌する9反応後、塩基を用いて反
応液のpHを6.0に調整する。その後、水を除去し、
脱塩すると目的とするホスホベタインが得られる。
ウ素、臭素或いはフッ素)で表されるハロゲン化(2−
ヒドロキシエチル)トリアルキルア撹拌しながら室温下
で徐々に加えた後、そのまま攪拌を2〜30時間続ける
。その後、反応液から溶媒を留去し、水を溶媒として室
温下で2〜10時間撹拌する9反応後、塩基を用いて反
応液のpHを6.0に調整する。その後、水を除去し、
脱塩すると目的とするホスホベタインが得られる。
尚、前記の塩基としては、水酸化ナトリウム。
水酸化カリウム、アンモニア水及びトリエタノールアミ
ン等が適用される。
ン等が適用される。
また、脱塩には、イオン交換膜或いはイオン交換樹脂を
使用することが一般的であるが、目的によっては脱塩処
理を施さずに、使用することも可能である。
使用することが一般的であるが、目的によっては脱塩処
理を施さずに、使用することも可能である。
前記−綴代filで表され且つ後記の実施例で得られた
本発明のホスホベタインは、後記第1表に示す分析値を
有し、同定された。
本発明のホスホベタインは、後記第1表に示す分析値を
有し、同定された。
(実施例)
以下、実施例によって本発明を詳述する。
なお、実施例に示した部とは重量部を意味する。
実施例1
2−(ジメチルドデシルアンモニオ)エチルホスフェー
トの合成 撹拌機を備えた0、51のフラスコにヨウ化ジメチルド
デシル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム3.9g
(0,01モル)をベンゼン20 Qm/に溶解し、オ
キシ塩化リン4.6g(0,03モル)を室温下撹拌し
ながら、徐々に滴下する0滴下終了後、そのまま20時
間撹拌を続ける。この後、エバポレーターによって溶媒
を除去し、残さに水を加えて室温下5時間撹拌する0反
応後、水酸化ナトリウムを用いてp Hを6.0に調整
し、エバポレーターで水を除去する。得られる残さを試
料として、エタノールを溶媒としてソックスレー抽出を
行い、エタノール抽出液から溶媒を留去する。
トの合成 撹拌機を備えた0、51のフラスコにヨウ化ジメチルド
デシル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム3.9g
(0,01モル)をベンゼン20 Qm/に溶解し、オ
キシ塩化リン4.6g(0,03モル)を室温下撹拌し
ながら、徐々に滴下する0滴下終了後、そのまま20時
間撹拌を続ける。この後、エバポレーターによって溶媒
を除去し、残さに水を加えて室温下5時間撹拌する0反
応後、水酸化ナトリウムを用いてp Hを6.0に調整
し、エバポレーターで水を除去する。得られる残さを試
料として、エタノールを溶媒としてソックスレー抽出を
行い、エタノール抽出液から溶媒を留去する。
更に、得られる残さを試料として、マイクロ・アシライ
ザー〇−1100(態化成製)を用いて無、機イオンを
完全除去した後、エタノールと酢酸エチルエステルの混
合液(2:、1)を溶媒として再結晶lすると白色粉末
2.9gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表
に示した分析結果から、目的化合物の2−(ジメチルド
デシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを確
認した。
ザー〇−1100(態化成製)を用いて無、機イオンを
完全除去した後、エタノールと酢酸エチルエステルの混
合液(2:、1)を溶媒として再結晶lすると白色粉末
2.9gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表
に示した分析結果から、目的化合物の2−(ジメチルド
デシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを確
認した。
(収率:85%)
実施例2
2−(ジメチルテトラデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチル(2−ヒドロキシエ
チル)テトラデシルアンモニウム110、 O1モルを
用いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.
0gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示
した分析結果から、目的化合物の2−(ジメチルテトラ
デシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを1
,1 Bした。
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチル(2−ヒドロキシエ
チル)テトラデシルアンモニウム110、 O1モルを
用いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.
0gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示
した分析結果から、目的化合物の2−(ジメチルテトラ
デシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを1
,1 Bした。
(収率:82%)
実施例3
2−(ジメチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末2.9gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジメチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることを確認した
。(収率ニア3%) 実施例4 2−(ジメチルオクタデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチルオクタデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.3gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジメチルドデシルアン
モニオ)エチルホスフェートであることを確認した。(
収率: 78 %) 実施例5 2−(ジエチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジエチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.5gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジエチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることを[ilし
た。(収率!83%) 実施例6 2−(ジプロピルヘキサデシルアンモニオ)エチルホス
フェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジプロピルヘキサデシル(2
−ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用い
る他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.6g
を得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した
分析結果から、目的化合物の2−(ジプロピルヘキサデ
シルアンモニオ)エチルホスフェートであることを確認
した。
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末2.9gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジメチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることを確認した
。(収率ニア3%) 実施例4 2−(ジメチルオクタデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジメチルオクタデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.3gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジメチルドデシルアン
モニオ)エチルホスフェートであることを確認した。(
収率: 78 %) 実施例5 2−(ジエチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジエチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.5gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジエチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることを[ilし
た。(収率!83%) 実施例6 2−(ジプロピルヘキサデシルアンモニオ)エチルホス
フェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジプロピルヘキサデシル(2
−ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用い
る他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.6g
を得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した
分析結果から、目的化合物の2−(ジプロピルヘキサデ
シルアンモニオ)エチルホスフェートであることを確認
した。
(収率ニア5%)
実施例7
2−(ジブチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホスフ
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジブチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末4.0gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジブチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることをfll
aした。(収率:83%) 実施例8 2−(エチルヘキサデシルフゝロピルアンモニオ)エチ
ルホスフェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化エチルヘキサデシル(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピルアンモニウム0.01モルを
用いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.
5gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示
した分析結果から、目的化合物の2−(エチルヘキサデ
シルプロビルアンモニオ)エチルホスフェートであるこ
とを確認した。(収率:80%) 実施例9 2−(ブチルエチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホ
スフェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ブチルエチルヘキサデシル(
2−ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用
いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.6
gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示し
た分析結果から、目的化合物の2−(ブチルエチルヘキ
サデシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを
確認した。(収率:80%) 実験例! 本実験例は、本発明に係るホスホベタインの1面活性特
性を説明するためのものである。
ェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ジブチルヘキサデシル(2−
ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用いる
他は実施例1と同様の操作によって白色粉末4.0gを
得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示した分
析結果から、目的化合物の2−(ジブチルヘキサデシル
アンモニオ)エチルホスフェートであることをfll
aした。(収率:83%) 実施例8 2−(エチルヘキサデシルフゝロピルアンモニオ)エチ
ルホスフェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化エチルヘキサデシル(2−ヒ
ドロキシエチル)プロピルアンモニウム0.01モルを
用いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.
5gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示
した分析結果から、目的化合物の2−(エチルヘキサデ
シルプロビルアンモニオ)エチルホスフェートであるこ
とを確認した。(収率:80%) 実施例9 2−(ブチルエチルヘキサデシルアンモニオ)エチルホ
スフェートの合成 ヨウ化ジメチルドデシル(2−ヒドロキシエチル)アン
モニウムの代わりにヨウ化ブチルエチルヘキサデシル(
2−ヒドロキシエチル)アンモニウム0.01モルを用
いる他は実施例1と同様の操作によって白色粉末3.6
gを得た。得られたこの白色粉末は、後記第1表に示し
た分析結果から、目的化合物の2−(ブチルエチルヘキ
サデシルアンモニオ)エチルホスフェートであることを
確認した。(収率:80%) 実験例! 本実験例は、本発明に係るホスホベタインの1面活性特
性を説明するためのものである。
実施例1〜9で得たホスホベタインについて表面張力低
下能及び起泡力の測定を行った。比較の対象物質として
米国特許公報3,856.893号に記載のホスホベタ
イン(R−ドデシル)を使用して、同様の測定を行った
0表面張力の測定はフィッシャー表面張力針を使用し、
結果を23.5℃におけるダイン/ c m単位で表1
に示した0本発明のホスホベタインの表面張力は、比較
の対象物質よりも10%はど小さい、泡高さ(起泡力)
の測定は、ロスマイルズ法(ASTMD I 178−
53)によって行った。測定結果を後記第2表に示した
。高い値は起泡力が優れていることを示す。
下能及び起泡力の測定を行った。比較の対象物質として
米国特許公報3,856.893号に記載のホスホベタ
イン(R−ドデシル)を使用して、同様の測定を行った
0表面張力の測定はフィッシャー表面張力針を使用し、
結果を23.5℃におけるダイン/ c m単位で表1
に示した0本発明のホスホベタインの表面張力は、比較
の対象物質よりも10%はど小さい、泡高さ(起泡力)
の測定は、ロスマイルズ法(ASTMD I 178−
53)によって行った。測定結果を後記第2表に示した
。高い値は起泡力が優れていることを示す。
実験例2
本実験例は、本発明に係るホスホベタインの抗菌活性を
説明するためのものである。
説明するためのものである。
抗菌試験は日本化学療法学会指定の方法に準じて実施し
た。その結果を第3表に示した。
た。その結果を第3表に示した。
(発明の効果)
以上のように、本発明のホスホベタインは、界面化学的
性質に優れると共に、抗菌活性に優れ、洗浄基剤、乳化
剤、可溶化剤1分散剤としてシャンツー、洗顔クリーム
、スキンクリーム7ヘアークリーム、ヘアートリートメ
ント、ファンデージタン、クリーム、軟膏剤等医薬品基
剤及び化粧料に、更に、口腔衛生剤、抗菌繊維、抗菌性
塗料。
性質に優れると共に、抗菌活性に優れ、洗浄基剤、乳化
剤、可溶化剤1分散剤としてシャンツー、洗顔クリーム
、スキンクリーム7ヘアークリーム、ヘアートリートメ
ント、ファンデージタン、クリーム、軟膏剤等医薬品基
剤及び化粧料に、更に、口腔衛生剤、抗菌繊維、抗菌性
塗料。
抗菌性洗浄剤、水虫治療薬の薬剤及び化粧料の薬手続補
正書(自発) 昭和63年10月11日 1、事件の表示 昭和63年特許願第205083号 2、発明の名称 ホスホベタイン 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都墨田区墨田五丁目17番4号〒534
大阪市部島区友淵町1丁目5番90号鐘紡株式会社
特許部 、21、−1 電話(06)921−1251 :、 4、補正命令
の日付 自 発 5、補正により増加する請求項の数 なし方式の 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 (1)明細書第16頁においてrヒビテン中のグルコン
酸クロロヘキシジン(20%)1とあるを、rグルコン
酸クロロヘキシジン1と訂正する。
正書(自発) 昭和63年10月11日 1、事件の表示 昭和63年特許願第205083号 2、発明の名称 ホスホベタイン 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都墨田区墨田五丁目17番4号〒534
大阪市部島区友淵町1丁目5番90号鐘紡株式会社
特許部 、21、−1 電話(06)921−1251 :、 4、補正命令
の日付 自 発 5、補正により増加する請求項の数 なし方式の 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 (1)明細書第16頁においてrヒビテン中のグルコン
酸クロロヘキシジン(20%)1とあるを、rグルコン
酸クロロヘキシジン1と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼……(1) (式中、R′は炭素数10〜18、R″、R′″は炭素
数1〜6からなるアルキル基)で表される2−(トリア
ルキルアンモニオ)エチルホスフェートからなるホスホ
ベタイン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20508388A JPH0657714B2 (ja) | 1987-12-26 | 1988-08-18 | ホスホベタイン |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-331637 | 1987-12-26 | ||
JP33163787 | 1987-12-26 | ||
JP20508388A JPH0657714B2 (ja) | 1987-12-26 | 1988-08-18 | ホスホベタイン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01258690A true JPH01258690A (ja) | 1989-10-16 |
JPH0657714B2 JPH0657714B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=26514843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20508388A Expired - Lifetime JPH0657714B2 (ja) | 1987-12-26 | 1988-08-18 | ホスホベタイン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0657714B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001262184A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Toyobo Co Ltd | 界面活性剤 |
-
1988
- 1988-08-18 JP JP20508388A patent/JPH0657714B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001262184A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Toyobo Co Ltd | 界面活性剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0657714B2 (ja) | 1994-08-03 |
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