JPH01256573A - 改善された特性を有する沈降シリカ - Google Patents

改善された特性を有する沈降シリカ

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JPH01256573A
JPH01256573A JP1046706A JP4670689A JPH01256573A JP H01256573 A JPH01256573 A JP H01256573A JP 1046706 A JP1046706 A JP 1046706A JP 4670689 A JP4670689 A JP 4670689A JP H01256573 A JPH01256573 A JP H01256573A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明に従う沈降シリカは、有利には、ａ）Ｙ輝度が少
なくとも９２であること、ｂ）窒素流下で４００℃にお
いて４時間処理した場合にその輝度の低下が４％以下で
あること、並びに ｃ）４００℃においてオクタメチルシクロテトラシロキ
サン流で１時間３０分処理した場合にそのＹ輝度の低下
が５．５％以下であることを特徴とする。
本発明に従う沈降シリカのＹ輝度は、以下の方法で測定
した。散乱反射（拡散光／○°観察）を測定できるカー
ル・ツアイス（Ｃａｒｌ　Ｚｅｉｓｓ）社製の商品名Ｅ
ＬＲＥＰＨＯのＴＲＩＳＴＩＭＵＬＵＳ光比色計を使用
した。この装置は比色分析に携わる者によく知られてお
り、積分球と２つの光源（タングステンフィラメントラ
ンプ）とを含み、この光源はこの積分球の下部に置かれ
た容器中に配置された分析すべき試料を照らす。この装
置はこの位置に直径３５ｍｍの測定用の窓を有する。こ
の試料がこの光を反射して、積分球の上部に配置された
Ｙフィルターに通す。この装置の検流計の針をＯに合わ
せることによって、この光の強さ（試料の緑色成分）を
この光がＹフィルターを通過した後に目盛付回転式ドラ
ムによって測定する。このドラムは、分析すべき試料を
測定する前に、例えばＹ輝度が１００である硫酸バリウ
ムと比較したＹ輝度値が知られている第２の標準物質（
ＶＩＴＲＯＬＩＴＨＥ）を用いて目盛付けしであるので
、目盛付ドラムについて得られた数値を読み取るだけで
よく、それがその試料のＹ輝度に相当する。しかして、
この装置を用いると、硫酸バリウムと同程度に白い試料
のＹ輝度は１００であり、一方完全な黒色の試料のＹ輝
度はＯであり、これら２つの極限点の中間の値が全ての
灰色の色彩に相当する。Ｙ輝度を測定すべき試料を配置
させる容器はカール・ツアイス社よりＥＬＲＥＰＨＯ装
置と共に提供される。これら容器は直径４０　ｍ　ｍ、
高さ３〜５ｍｍの試料（粉末）を得ることを可能にする
。しかして、測定すべき試料は全て同じ寸法を有する。
本発明に従う沈降シリカのＹ輝度の最大値は１００であ
る。一般にそのＹ輝度は少なくとも９０であり且つ多（
とも９９である。
沈降シリカを４００℃において４時間処理するための装
置は、例えば、以下のものから成る：・内径６６ｍｍの
ガラス製又はステンレス鋼製円筒状装置。この装置は下
部においてフリットガラス（Ｎｏ、２）と窒素を連続的
に注入するための少なくとも１つの管とを含む。４００
℃において４時間窒素を作用させることが意図される沈
降シリカがこのフリットガラス上に配置される。機械式
撹拌機がこのシワ力を撹拌する（回転速度９０ｒｐｍ）
。この装置（その縦軸は垂直に配置される）はその頂部
において、ガラスサイクロン中に窒素−を流入させる管
を有する。このサイクロンに窒素が接面的に入って行き
、円を描いて移動し、窒素流によって伴出されることの
ある少量のシリカをこのサイクロンの下部に付着させる
。このサイクロンの上部（及びその中間部）には、２０
℃の水を通した凝縮器（冷却器）中に窒素を流通させる
管がある。微量の凝縮物が凝縮器の出口において採集さ
れて大気開放された受器（大気圧）内に入る。
この円筒状装置の周囲に配置された炉は、沈降シリカを
４００℃に加熱する。
この円筒状装置には例えば沈降シリカ３０ｇが装入され
、窒素流は５〜２０β／時間の範囲で循環される。
本発明に従う沈降シリカの特性検査は、一般にシリカ３
０ｇについて１５Ｉ２／時間の窒素流量を用いて実施さ
れる。
上記の装置及び操作を用いると、本発明の主題を形成す
る沈降シリカであって特徴ｂ）を有する前記沈降シリカ
を測定するのが容易である。実際、一般に商品として入
手できる沈降シリカは、４００℃において４時間窒素処
理にかけると全て初期値（これは処理前には一般的に９
０より高い）と比較して５．５％より多くのＹ輝度を損
失する。
前記したのと同じ装置を本発明に従うシリカの特徴Ｃ）
を測定するのに使用することができる。
シリカ３０ｇをフリットガラス上に置き、撹拌し、温度
が４００℃に達した時にフリットガラスの下に窒素及び
オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）を窒素流
量１５β／時間及びＤ４流Ｍ２０Ｃボ／時間で１時間３
０分注入する（Ｄイは装置内に注入されるとすぐに気化
する）。本発明に従う沈降シリカにおいては、この処理
の後のＹ輝度の低下が５．５％以下である。
窒素下で４００℃において４時間処理した後のＹ輝度の
変化が５．５％より小さいシリカであって且つこのシリ
カを４００℃においてオクタメチルシクロテトラシロキ
サン流で１時間３０分処理した場合のＹ輝度の低下が５
．５％以下である前記沈降シリカを得るために、本出願
人は、通常市販されている沈降シリカ（その輝度は一般
に９０以上である）を酸化処理にかけた。この酸化処理
は、酸素によって又は酸素含有気体混合物によって実施
することができ、経費及び安全性の理由から、空気によ
って実施するのが有利である。この処理は２５０℃以上
の温度、−数的には３００〜９００℃の範囲の温度にお
いて実施され、１分〜５時間続けられる。この処理は温
度を高（するにつれて短い時間で実施される。
工業的規模において、この酸化処理は、他の気体状成分
による充填剤の処理用にすでに用いられている慣用の装
置を用いて送風下での処理を用いて又は流動床中で実施
される。実験室においては、この酸化処理は、シリカを
４００℃において窒素によって４時間処理するのに前記
したのと同じガラス製又はステンレス鋼製の装置中で実
施することかできる。空気流量は一般に１０〜１００ｇ
の範囲の処理すべき沈降シリカについて５〜２０℃であ
る。
酸化処理にかけられる沈降シリカは、一般に０．１〜２
０μの範囲、好ましくは０．５〜１０μの範囲の平均粒
径を有し、そのＢＥＴ比表面積は５０ゴ／ｇ以上、好ま
しくは５０〜３ｓＯｒｒｒ／ｇの範囲である。平均粒径
とは、粒子の平均直径を意味する。
前記の酸化処理をされた沈降シリカは、そのままポリマ
ー中、特にオルガノポリシロキサンポリマー中の補強用
充填剤として、例えば周囲温度において加硫するエラス
トマーを得ることのできる組成物の製造に使用すること
ができる。これら沈降シリカ（この酸化処理をしたもの
）は、熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造に有
利に使用することができる。この用途において、これら
沈降シリカは前記の酸化処理の後に２５０℃以上、有利
には３００〜５５０℃の範囲の温度においてポリシロキ
サン、シクロポリシロキサン又はシクロポリシロキサン
（類）及び（若しくは）ポリシロキサン（類）の混合物
で処理される。
用いられるシクロポリシロキサンは、有利にはシクロテ
トラシロキサンであり、特にテトラメチルテトラビニル
シクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラ
シロキサンから選択される。線状ポリシロキサンを用い
る場合、これは例えばデカメチルテトラシロキサンであ
ってよい。
このようなシロキサン化合物によるシリカの処理は、特
に仏国特許第１．２３４．２４５号及び同第１、５２０
．６６３号から知られている。所望ならばこの処理のた
めの温度は５５０℃を越えてもよいが、経済上の理由か
ら５５０℃を越えないのが好ましい。
４００℃において１時間３０分オクタメチルシクロテト
ラシロキサン（Ｄ４）で処理された本発明に従う沈降シ
リカは、そのＹ輝度の低下が５．５％以下である。この
Ｄ４による処理はＤ４と窒素との混合物を通じることに
よって実施され、この場合例えば、導入窒素の流量は１
５β／時間であり、前記のガラス製又はステンレス鋼製
装置の底部において注入されるＤ４の量は２０ｃｒｒ？
／時間であり、５ｉｎ２の量は３０ｇである。
オルガノポリシロキサン又はオルガノシクロポリシロキ
サンで追加的に処理された本発明に従う沈降シリカを用
いて得られる熱加硫し得るシリコーンエラストマーは、
組成物に顔料を添加した時に純粋な即ち非「灰色系」の
色を有し、また、組成物が顔料を含有しない場合には半
透明又は透明である（灰色でない）。本発明に従う沈降
シリカであって且つ１〜７μの平均粒径を有する前記沈
降シリカによって、これら熱加硫し得るエラストマー（
これはまた加硫製品とも称する）の最良の機械的特性が
得られるということがわかった。
４００℃においてポリシロキサンで追加的に処理された
本発明に従う沈降シリカを用いて得られる熱加硫し得る
エラストマー（加硫製品）は、酸化熱処理を実施せずに
４００℃においてポリシロキサンによる処理を実施した
沈降シリカを用いて同じ条件下で得られる加硫製品のＹ
輝度と比較して少なくとも５．５％高いＹ輝度を有する
。これらのＹ輝度の測定は、前記のＥＬＲＥＰＨＯ光度
計を用いて同じ検量線法に従って、それぞれが目盛付け
された支持体（ＶＩＴＲＯＬＩＴＨＥ　　Ｙ　＝　７７
．８５　）上に配置された厚さ２ｍｍの加硫製品につい
て実施され、その測定は加硫製品を離型し且つ冷却した
らすぐに実施される。
上記の特性を有する熱加硫されたエラストマー（加硫製
品）を得ることのできるシロキサン組成物は、 ａ）２５℃において１．０００．０００ｍＰａ・ｓより
大きい粘度を有するジオルガノポリシロキサン樹脂＝　
　　　　　　　　　　　　１００重量部ｂ）有機過酸化
物二０．１〜７重量部 Ｃ）酸化熱処理及び続いてのポリシロキサンによる処理
を実施した本発明に従う沈降シリカニ５〜１５０重量部 を含有する。
２５℃において１，０００．０００ｍＰａ・ｓより大き
い粘度を有するジオルガノポリシロキサン樹脂ａ）は、
式ＲｚＳｉＯの単位の連鎖から成り、鎖部の各末端を式
Ｒ３Ｓｉ　Ｏｏ、ｓの単位及び（又は）式ＯＲ’の基で
ブロックされている。これらの式中、記号Ｒは同一であ
っても異なっていてもよく、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、フェニル、ビニル及び３．３．３−トリフルオル
メチル基であり、但し、これらの基の少なくとも６０％
がメチル基であり且つ３％以下がビニル基であるものと
し、記号Ｒ°は水素原子、１〜４個の炭素原子を有する
アルキル基又はβ−メトキシエチル基を表わす。
これら組成物は好ましくは追加的に ｄ）２５℃において５．　ＯＯＯｍＰａ−５を越えない
粘度を有し、式Ｒ″２ｓｉｏの単位の連鎖より成り且つ
鎖部の各末端を式ＯＲ’の基でブロックされたジオルガ
ノポリシロキサンオイル （これらの式中、記号Ｒ”は同一であっても異なってい
てもよく、メチル、フェニル又はビニル基を表わし、但
し、これらの基の少なくとも４０％がメチル基であるも
のとし、 記号Ｒ゛はａ）において前記した意味を持つ）：　　　
　　　　　　　　　　０．５〜１５部を含有する。
これら組成物の各成分を以下により詳細に説明する。
２５℃において１，０００，０００ｍＰａ・ｓより大き
い、好ましくは２５℃において２．０００．０００ｍＰ
ａ・ｓより大きい粘度を有するジオルガノポリシロキサ
ン樹脂ａ）は、そのジオルガノポリシロキサン鎖が前記
の式Ｒ＊　Ｓｉ　Ｏの単位から実質的に成り且つこの鎖
の各末端を式Ｒ３Ｓｔ　Ｏｏ、ｓの単位及び（又は）式
ＯＲ’の基でブロックされた、高分子量の線状ポリマー
である。ジオルガノポリシロキサン鎖中にＲｚＳｔＯ以
外の単位、例えば式Ｒ５１ｏ１．ｉ及び（又は）Ｓｉ　
Ｏ２の単位が少量存在することも除外されないが、しか
しながら、Ｒｓ　Ｓｉ　Ｏ単位の数に対して２％を越え
ない割合であるものとする。基Ｒ及びＲ゛の意味は前記
の通りであるが、アルキル基は０１〜Ｃ４のアルキル基
、特にメチル、エチル、ｎ−プロピル及びｎ−ブチル基
を意味するものと解されるべきである。
式Ｒ２５ｔ　Ｏ及びＲｓ　Ｓｉ　Ｏｏ、の単位並びに式
ＯＲ’の基の具体例としては、以下の式のものを挙げる
ことができる： （ＣＨｓ）ｉ　Ｓｉ　０ ＣＨ−（Ｃ，Ｈ＊＝ＣＨ）　Ｓｘ　０ ＣＨｓ（Ｃ−Ｈｓ）Ｓｔ　０ （Ｃ６Ｈｓ）ｘ　Ｓｉ　０ ＣＨｓ（Ｃ−Ｈ−）Ｓｉ　０ （ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ，）ＣＨ，Ｓｔ　０ＣＨｓ（ｎ−Ｃ
ｓ　Ｈ？）ｓｉ　０ （ｃＨａ）　（ｃｓ　Ｈｓ）　（ＣＨ２＝ＣＨ）　Ｓｔ
　Ｏ，ＳＯＨ ＯＣＨ＊ 一０Ｃｔ　Ｈｓ −Ｏ−ｎ−ＣｓＨ？ 一〇−イソーＣ３Ｈ？ −０−ｎ−Ｃ４Ｈｓ −ＯＣＨ，ＣＨ２＝ＣＨ，。
これらの樹脂ａ）は、混合物として、本発明に従う組成
物中に樹脂１００部を占めるようにして用いることがで
き、−数的に３％以下であるビニル基を含有し、大抵の
場合、これらビニル基は珪素原子に結合した基の数の０
．００５〜１．５％を占める。
樹脂ａ）は、シリコーン製造業者によって市販されてお
り、さらに、既知の方法に従って製造することができる
。
ジオルガノポリシロキサンオイルｄ）は、樹脂ａ）１０
０部につき０〜１５部、好ましくは０．３〜１２部の割
合で用いられる。このオイルは２５℃において５．００
０　ｍＰａ−５を越えない、好ましくは２５℃において
４．　ＯＯＯｍＰａ−５を越えない比較的小さい粘度を
有し、ジオルガノポリシロキサン鎖が前記の式Ｒ″２Ｓ
ｆＯの単位から実質的に成り且つこの鎖部の各末端を前
記の式ＯＲ’の基でブロックされた線状ポリマーである
。基Ｒ”の少なくとも４０％、好ましくは少なくとも４
５％はメチル基であるものとする。
記号Ｒ“及びＲ゛の意味は、前に説明されている。
式Ｒ”ｚｓｉｏの単位及び式ＯＲ’の基の具体例として
は、以下の式のものを挙げることができる： （ＣＨ＝）２Ｓｉ　０ ＣＨｌ（ＣＨ２０ＣＨ）Ｓｉ　０ ＣＨ３（Ｃ，ＨＪＳｉ　０ ＣＣ８Ｈｓ）ｚ　Ｓｉ　Ｏ Ｃｓ　Ｈａ（ＣＨｉ”ＣＨ）　Ｓｆ　ＯＯＨ −〇ＣＨｓ −ＱＣ，Ｈ。
−０−ｎ−Ｃｓ　Ｈ−ｒ −ＯＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ，。
好ましくは次のものを使用する： ・鎖部の各末端をヒドロキシル、メトキシ又はβ−メト
キシエトキシ基でブロックされ且つ２５℃においてｌＯ
〜２００　ｍＰａ−５の粘度を有するジメチルポリシロ
キサンオイル、 ・ＣＨ−（Ｃ−Ｈｓ）Ｓｉ　Ｏ単位から成り、鎖部の各
末端をヒドロキシル及び（又は）メトキシ基でブロック
され且つ２５℃において４０〜２．　ＯＯ０ｍＰａ−５
の粘度を有するメチルフェニルポリシロキサンオイル。
このオイルｄ）は、本発明の組成物が貯蔵中に変化を起
こすのを、より正確には構造化及び硬化するのを防止す
るために使用される。従って、これらは「耐構造化（ａ
ｎｔｉｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）　Ｊ剤である。特に、
補強用シリカＣ）の量が多い、例えば樹脂ａ）１００部
につき３０〜４０部より多い場合には、このオイルｄ）
を使用することが推奨される。
前記オイルｄ）の一部又は全部を、他の耐構造化剤、例
えばジフェニルシランジオール並びに次式： ％式％ のシランで置き換えることができる。
しかしながら、これらは多くの場合オイルｄ）より高価
であり且つ（又は）本発明の組成物中に分散させるのに
より多くの作業を必要とする。
有機過酸化物ｂ）は、樹脂ａ）１００部につき０．１〜
７部、好ましくは０．２〜５部の割合で用いられる。こ
れらは専門家によく知られており、より特定的には、過
酸化ベンゾイル、過酸化２．４−ジクロルベンゾイル、
過酸化ジクミル、２．５−ビス−（ｔ−ブチルペルオキ
シ）−２，５−ジメチルヘキサン、過安息香酸ｔ−ブチ
ル、ｔ−ブチルペルオキシイソプロビルカーボネート、
過酸化ジ−ｔ−ブチル及び１．１−ビス−（ｔ−ブチル
ペルオキシ）−３、３，５−トリメチルシクロヘキサン
を包含する。
これら各種過酸化物は、往々にして異なる温度及び速度
で分解する。これらは、要求される硬化条件に従って選
択される。
これら組成物は、珪素原子に結合した少なくとも１個の
アクリロイルオキシアルキレン又はメタクリロイルオキ
シアルキレン基を含有する次式：％式％） （式中、記号Ｒ”はメチル、フェニル又はビニル基を表
わし、 記号Ｒ３は水素原子又はメチル基を表わし、記号Ｒ４は
メチル、エチル、ｎ−プロピル又はβ−メトキシエチル
基を表わし、 記号Ｗは１〜５の数を表わし、 記号ＵはＯ〜２の数を表わす） の有機シリコーン化合物を樹脂ａ）１００部につき０．
０２〜４部、好ましくは０．０３〜３部の割合で追加的
に含有し得る非灰色系加硫製品を得ることを可能にする
。
この種の化合物は、例えば、米国特許筒３，５６７．４
９７号に記載されている。その具体例としては、以下の
式を有する化合物を挙げることができる： Ｃ１１□＝　ＣＨ−Ｃ００ＣＩ□５Ｌ（ＯＣＨ３）３Ｃ
Ｈ２”ＣＨ−ＣＯＯ（：ＨａＳＬ（ＯＣＨ２ＣＨ２０Ｃ
Ｈｉ）ｉ（：６Ｈ＋。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＣｌ０（ＣＨ□）ｓＳｉ（ＯＣＪｓ）
ｓＣＨ□＝（：（ＣＨｓ）Ｃ００（（：Ｎ２）ｓＳｉ（
ＯＣＨ，）ｉＣＨｚ＝Ｃ（ＣＨｓ）Ｃｏｏ（ＧＨｚ）３
ｓｉｃＨ３（０（：ＨｉｔＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ−）ＣＯＯ
（ＣＨ−）ｓｓｘ（ＯＣＲ３１ｓ。
これら組成物の製造は、既知の機械的装置、例えばニー
グー、ロールミル又はスクリューミキサーを用いて実施
される。各種成分は、任免の順でこれらの装置中に導入
される。しかしながら、樹脂ａ）及び本発明に従う沈降
シリカＣ）を初めに、次いで最後に過酸化物ｂ）を装入
することが推奨される。
［実施例〕 以下の実施例は、現在商品として入手できる２種の沈降
シリカ及びローヌープ−ラン（Ｒｈδｎｅ−Ｐｏｕｌｅ
ｎｃ）社製の沈降シリカに対する本発明に従う処理の有
用性を、このようなシリカのＹ輝度を測定することによ
って示す。また、これらの実施例は、本発明に従うシリ
カ及び酸化熱処理されていない商品として入手できる沈
降シリカから得られる加硫製品のＹ輝度をも示す。
研究したシリカは、下記のものである：・デグッサ（Ｄ
ｅｇｕｓｓａ）社より市販されている商品名ＦＫ１６０
の平均粒径６μ及びＢＥＴ比表面積１６０ｒｒ？／ｇを
有する沈降シリカ、・日本シリカ（Ｎｉｐｐｏｎ　５ｉ
ｌｉｃａ）社より市販されている商品名ｒ　Ｎ１ｐｓｉ
ｌ　ＬＰ　Ｊの平均粒径ｌＯμ及びＢＥＴ比表面積１５
０ｒｒｒ／ｇを有する沈降シリカ、 ・仏国特許第２．４７１．９４７号の例１に従うローヌ
ープ−ラン社製の平均粒径１．５μ及びＢＥＴ比表面積
１７５ｒｒ？／ｇを有する沈降シリカ。
下記の表１は、これら３種の沈降シリカのＹ輝度を、初
めに何ら処理を実施せずに、次いで１の処理後、２の処
理後、２の処理に次いで実施した３の処理後及び２の処
理に次いで実施した３′の処理（３の処理とまさに同じ
ようにして）後について示す。
大−上 表１から明らかに、本発明に従う沈降シリカが９０より
大きいＹ輝度を有すること（２を参照されたい）、窒素
流下で４００℃において４時間処理した場合にそのＹ輝
度の低下が５．５％より少ないこと（３を参照されたい
）及び４００℃においてＤ４で１時間３０分処理した場
合にそれらのＹ輝度の低下が５．５％より少ないこと（
３゛を参照されたい）が示される。
対照的に、従来の沈降シリカ（なんら処理していないも
の）は窒素流下で４００℃において４時間処理した場合
にそのＹ輝度低下が６％より多く（１を参照されたい）
且つＤ４により４００℃において１時間３０分処理した
場合にそのＹ輝度低下が６％より多い（１°を参照され
たい）。
３本ロールミルを用いて周囲温度において下記のものを
混合することによって加硫製品を製造した： ・２５℃において１．０００．　ＯＯＯ〜１０．０００
．０００　ｍＰａ−５の粘度を有し、鎖部の各末端をト
リメチルシロキシ単位でブロックされ且つその鎖部中に
０．２モル％のメチルビニルシロキシ基を有するジオル
ガノポリシロキサン樹脂：１００重量部 ・表２に従う沈降シリカ：　　　　４０重量部・２５℃
において４０　ｍＰａ−５の粘度を有し、鎖部の各末端
を末端珪素原子と結合したヒドロキシル基でブロックさ
れたジメチルポリシロキサンオイル：１．４重量部 ・２．５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキ
シ）ヘキサン：０．５重量部 次いで、得られた混合物を１７０℃で１５０バールにお
いて１０分間加硫させて、厚さ２ｍｍの試料が得られた
。
下記の表２は、上記の操作方法に従って得られた加硫製
品の輝度を、使用した出発のシリカの関数として及びそ
れらについて実施した処理の関数として示す。
大−又 この表２から、４００℃においてＤ４で１時間３０分処
理された本発明に従う沈降シリカを用いて得られる加硫
製品が、同じＤ４による処理を実施ししかし酸化熱処理
を実施していない同じシリカを用いた場合のＹ輝度と比
較して少なくとも４％大きいＹ輝度を有するということ
がわかる。
空気流下で４００℃において１時間３０分処理し、次い
で４００℃においてＤ４で１時間３０分処理した後のＲ
Ｐ　１７５　ＭＳシリカを用いて得られる加硫製品の機
械的特性を以下に示す。
この加硫製品はＹ輝度５５を有しく表２を参照されたい
）、後硬化されていない状態におけるその機械的特性は
、以下の通りである： ・ＳＨ（Ａ）：４６ −　Ｔ　Ｓ　（ＭＰａ）　　：　５．２・ＥＢ（％）：
４２０ ・ＴｒＳ　（ｋＮ／ｍ）　　：　１６ 略号は以下の意味を持っ： ・ＳＨ（Ａ）　　：　　ＡＳＴＭ規格２２４０に従うシ
ョアー（Ａ）硬度 ・Ｔ　Ｓ　：　ＡＮＦＯＲ規格丁４６００２　　（ＡＳ
ＴＭ規格Ｄ　４１２に。
対応する）に従う引張強さ（ＭＰａ） ・Ｅ　Ｂ　：　ＡＮＦＯＲ規格Ｔ　４６００２に従う破
断点伸び（％） ・ＴｒＳ：ＡＳＴＭ規格Ｄ６２４に従う引裂強さ（ｋＮ
／ｍ）。
手系売ネ甫正書 平成元年４月１８日

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）シロキサン組成物の製造用、特に熱加硫し得るエ
    ラストマー用の組成物の製造用の充填剤として特に使用
    することのできる沈降シリカであって、 ａ）少なくとも９０のＹ輝度を有すること、ｂ）窒素流
    下で４００℃において４時間処理した場合にそのＹ輝度
    の低下が５．５％以下であること、 並びに ｃ）４００℃においてオクタメチルシクロテトラシロキ
    サン流で１時間３０分処理した場合にそのＹ輝度の低下
    が５．５％以下であること を特徴とする前記沈降シリカ。
  2. （２）ａ）Ｙ輝度が少なくとも９２であること、ｂ）窒
    素流下で４００℃において４時間処理した場合にその輝
    度の低下が４％以下であること、並びに ｃ）４００℃においてオクタメチルシクロテトラシロキ
    サン流で１時間３０分処理した場合にそのＹ輝度の低下
    が５．５％以下であること を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の沈降シリカ。
  3. （３）ＢＥＴ比表面積が５０ｍ＾２／ｇ以上であること
    を特徴とする特許請求の範囲第１又は２項記載の沈降シ
    リカ。
  4. （４）ＢＥＴ比表面積が５０〜３５０ｍ＾２／ｇの範囲
    であることを特徴とする特許請求の範囲第１〜３項のい
    ずれかに記載の沈降シリカ。
  5. （５）平均粒径が０．１〜２０μの範囲、好ましくは０
    ．５〜１０μの範囲であることを特徴とする特許請求の
    範囲第１〜４項のいずれかに記載の沈降シリカ。
  6. （６）任意の沈降シリカを酸化処理にかけることを特徴
    とする特許請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の沈
    降シリカの製造方法。
  7. （７）酸化処理が気体状処理であることを特徴とする特
    許請求の範囲第６項記載の方法。
  8. （８）２５０℃以上の温度においてシリカに空気を通じ
    ることによって酸化気体状処理を実施することを特徴と
    する特許請求の範囲第７項記載の方法。
  9. （９）酸化処理を３００〜９００℃の範囲において実施
    することを特徴とする特許請求の範囲第６〜８項のいず
    れかに記載の方法。
  10. （１０）酸化処理を１分間以上、好ましくは５分間〜５
    時間続けることを特徴とする特許請求の範囲第６〜９項
    のいずれかに記載の方法。
  11. （１１）酸化処理を流動床中で実施することを特徴とす
    る特許請求の範囲第６〜１０項のいずれかに記載の方法
    。
  12. （１２）特許請求の範囲第６〜１１項のいずれかに記載
    の方法に従って得られるシリカをポリマーの補強に使用
    する方法。
  13. （１３）特許請求の範囲第６〜１１項のいずれかに記載
    の方法に従って得られるシリカをオルガノポリシロキサ
    ンポリマーの補強に使用する方法。
  14. （１４）特許請求の範囲第６〜１１項のいずれかに記載
    の方法に従って得られるシリカをポリシロキサン組成物
    製造に使用する方法。
  15. （１５）特許請求の範囲第６〜１１項のいずれかに記載
    の方法に従って得られるシリカをシロキサン組成物の製
    造に、より特定的には、熱加硫し得るエラストマー用の
    組成物の製造に、このシリカを追加的に２５０℃以上、
    好ましくは３００〜５５０℃の範囲の温度においてオル
    ガノポリシロキサンで、より特定的にはシクロポリシロ
    キサン、特にオクタメチルシクロテトラシロキサンで処
    理した後に使用する方法。
  16. （１６）特許請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の
    沈降シリカを含有することを特徴とするオルガノポリシ
    ロキサン組成物。
  17. （１７）ａ）２５℃において１，０００，０００ｍＰａ
    ・ｓより大きい粘度を有するジオルガノポリシロキサン
    樹脂：１００重量部 ｂ）有機過酸化物：０．１〜７重量部 ｃ）２５０℃以上、好ましくは３００〜５５０℃の範囲
    の温度においてオルガノポリシロキサンで、好ましくは
    オルガノシクロポリシロキサンで追加的に処理した特許
    請求の範囲第１〜１１項のいずれかに記載の沈降シリカ
    ： ５〜１５０重量部 ｄ）２５℃において５，０００ｍＰａ・ｓを越えない粘
    度を有し、式Ｒ”＿２ＳｉＯの単位の連鎖より成り且つ
    鎖部の各末端を式ＯＲ’の基でブロックされたジオルガ
    ノポリシロキサンオイル （これらの式中、記号Ｒ”は同一であっても異なってい
    てもよく、メチル、フェニル又はビニル基を表わし、但
    し、これらの基の少なくとも４０％がメチル基であるも
    のとし、 記号Ｒ’は水素原子、１〜４個の炭素原子を有するアル
    キル基又はβ−メトキシエチル基を表わす）：０〜１５
    重量部 を含有することを特徴とする、熱加硫性シロキサン組成
    物。
  18. （１８）オルガノシクロポリシロキサンによる処理を４
    ００℃において１時間３０分実施した特許請求の範囲第
    １７項記載の組成物を用いて得られる加硫製品であって
    、そのＹ輝度が、同じ沈降シリカでありしかし酸化熱処
    理を実施せずに４００℃においてポリシロキサンによる
    処理を実施した前記沈降シリカを用いて同じ条件下で得
    られる加硫製品のＹ輝度と比較して少なくとも５．５％
    高いことを特徴とする前記加硫製品。
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