JPH0699137B2 - 改善された特性を有する沈降シリカ - Google Patents
改善された特性を有する沈降シリカInfo
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- JPH0699137B2 JPH0699137B2 JP1046706A JP4670689A JPH0699137B2 JP H0699137 B2 JPH0699137 B2 JP H0699137B2 JP 1046706 A JP1046706 A JP 1046706A JP 4670689 A JP4670689 A JP 4670689A JP H0699137 B2 JPH0699137 B2 JP H0699137B2
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- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ この発明は、熱加硫し得るシリコーンエラストマー用の
組成物の製造に特に用いることのできる沈降シリカ及び
この種の沈降シリカの製造方法に関する。
組成物の製造に特に用いることのできる沈降シリカ及び
この種の沈降シリカの製造方法に関する。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］ 熱分解法シリカから熱加硫し得るシリコーンエラストマ
ー用の組成物を製造することは公知である。一般的に、
熱分解法シリカはこの用途について技術的に満足できる
ものであり、これらは該組成物中に導入する前にポリシ
ロキサンで、好ましくはシクロポリシロキサン、特にシ
クロテトラシロキサン、より特定的にはオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）によって約400℃において
処理される。この種の処理を記載した特許は公知であ
り、特に仏国特許第1,234,245号の例２においては熱分
解法シリカが375℃においてD4で処理されており、仏国
特許第1,520,663号においてはこの操作が500℃の温度に
おいて実施されている（例１）。
ー用の組成物を製造することは公知である。一般的に、
熱分解法シリカはこの用途について技術的に満足できる
ものであり、これらは該組成物中に導入する前にポリシ
ロキサンで、好ましくはシクロポリシロキサン、特にシ
クロテトラシロキサン、より特定的にはオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）によって約400℃において
処理される。この種の処理を記載した特許は公知であ
り、特に仏国特許第1,234,245号の例２においては熱分
解法シリカが375℃においてD4で処理されており、仏国
特許第1,520,663号においてはこの操作が500℃の温度に
おいて実施されている（例１）。
現時点においては、沈降シリカがより廉価であるので、
熱分解法シリカ（全部又は一部）の代わりにできる限り
沈降シリカを使用する試みが為されている。しかしなが
ら、熱分解法シリカとは対照的に、現在商品として入手
できる沈降シリカは特に400℃においてオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）で処理した場合に初期の白
さを損失して灰色になるということがわかっっている。
このことは、このような沈降シリカを含有する組成物か
ら得られるエラストマーがそれ自体灰色になり、無色で
あることができず、またこのような組成物中に顔料を導
入した場合に純粋な色を有することもできないので不都
合である。
熱分解法シリカ（全部又は一部）の代わりにできる限り
沈降シリカを使用する試みが為されている。しかしなが
ら、熱分解法シリカとは対照的に、現在商品として入手
できる沈降シリカは特に400℃においてオクタメチルシ
クロテトラシロキサン（D4）で処理した場合に初期の白
さを損失して灰色になるということがわかっっている。
このことは、このような沈降シリカを含有する組成物か
ら得られるエラストマーがそれ自体灰色になり、無色で
あることができず、またこのような組成物中に顔料を導
入した場合に純粋な色を有することもできないので不都
合である。
［発明の目的］ 従って、本発明の目的は、熱加硫し得て且つ灰色の色彩
が望まれない場合には灰色の色彩を持たないエラストマ
ーを得ることを可能にする組成物中に特に導入すること
のできる沈降シリカにある。より特定的には、本発明の
目的は、熱加硫し得て且つ純粋な色を有するエラストマ
ーを得ること又は透明なエラストマーを得ることを可能
にする沈降シリカにある。
が望まれない場合には灰色の色彩を持たないエラストマ
ーを得ることを可能にする組成物中に特に導入すること
のできる沈降シリカにある。より特定的には、本発明の
目的は、熱加硫し得て且つ純粋な色を有するエラストマ
ーを得ること又は透明なエラストマーを得ることを可能
にする沈降シリカにある。
本発明の他の目的は、熱分解法シリカを用いて得られる
『熱加硫し得るエラストマー（HVE）』と同様の機械的
特性を有するHVEを得ることを可能にするシリカにあ
る。
『熱加硫し得るエラストマー（HVE）』と同様の機械的
特性を有するHVEを得ることを可能にするシリカにあ
る。
本発明の他の目的は、冷時加硫し得るエラストマー（CV
E）であって且つ良好な機械的特性を有すると同時に着
色された又は透明な前記エラストマーを製造するのに特
に用いることのできる沈降シリカにある。
E）であって且つ良好な機械的特性を有すると同時に着
色された又は透明な前記エラストマーを製造するのに特
に用いることのできる沈降シリカにある。
本発明の他の目的は、ポリマー、特にシロキサンポリマ
ー、より特定的には熱加硫し得るエラストマーを補強す
ることのできる沈降シリカにある。
ー、より特定的には熱加硫し得るエラストマーを補強す
ることのできる沈降シリカにある。
また、本発明の他の目的は、このような沈降シリカの簡
単な製造方法にもある。
単な製造方法にもある。
［発明の概要］ 従って、シロキサン組成物の製造のための、より特定的
には熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造のため
の充填剤として特に用いることのできる沈降シリカが見
出され、これが本発明の主題を形成する。この沈降シリ
カは、以下のことを特徴とする： ａ）少なくとも90のＹ輝度を有すること、 ｂ）窒素流下で400℃において４時間処理した場合にそ
のＹ輝度の低下が5.5％以下であること、 並びに ｃ）400℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン流で１時間30分処理した場合にそのＹ輝度の低下が5.
5％以下であること。
には熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造のため
の充填剤として特に用いることのできる沈降シリカが見
出され、これが本発明の主題を形成する。この沈降シリ
カは、以下のことを特徴とする： ａ）少なくとも90のＹ輝度を有すること、 ｂ）窒素流下で400℃において４時間処理した場合にそ
のＹ輝度の低下が5.5％以下であること、 並びに ｃ）400℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン流で１時間30分処理した場合にそのＹ輝度の低下が5.
5％以下であること。
また、本発明の主題は、この種の沈降シリカを得ること
のできる方法にもある。
のできる方法にもある。
本発明の他の主題は、この種のシリカを含有する熱加硫
し得るエラストマー用の組成物並びにこの種の沈降シリ
カを含有する冷時加硫し得るエラストマー用の組成物に
ある。
し得るエラストマー用の組成物並びにこの種の沈降シリ
カを含有する冷時加硫し得るエラストマー用の組成物に
ある。
［発明の具体的な説明］ 本発明に従う沈降シリカは、有利には、 ａ）Ｙ輝度が少なくとも92であること、 ｂ）窒素流下で400℃において４時間処理した場合にそ
の輝度の低下が４％以下であること、 並びに ｃ）400℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン流で１時間30分処理した場合にそのＹ輝度の低下が5.
5％以下であること を特徴とする。
の輝度の低下が４％以下であること、 並びに ｃ）400℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン流で１時間30分処理した場合にそのＹ輝度の低下が5.
5％以下であること を特徴とする。
本発明に従う沈降シリカのＹ輝度は、以下の方法で測定
した。散乱反射（拡散光/0°観察）を測定できるカール
・ツァイス（Carl Zeiss）社製の商品名ELREPHOのTRIST
IMULUS光比色計を使用した。この装置は比色分析に携わ
る者によく知られており、積分球と２つの光源（タング
ステンフィラメントランプ）とを含み、この光源はこの
積分球の下部に置かれた容器中に配置された分析すべき
試料を照らす。この装置はこの位置に直径35mmの測定用
の窓を有する。この試料がこの光を反射して、積分球の
上部に配置されたＹフィルターに通す。この装置の検流
計の針を０に合わせることによって、この光の強さ（試
料の緑色成分）をこの光がＹフィルターを通過した後に
目盛付回転式ドラムによって測定する。このドラムは、
分析すべき試料を測定する前に、例えばＹ輝度が100で
ある硫酸バリウムと比較したＹ輝度値が知られている第
２の標準物質（VITROLITHE）を用いて目盛付けしてある
ので、目盛付ドラムについて得られた数値を読み取るだ
けでよく、それがその試料のＹ輝度に相当する。しかし
て、この装置を用いると、硫酸バリウムと同程度に白い
試料のＹ輝度は100であり、一方完全な黒色の試料のＹ
輝度は０であり、これら２つの極限点の中間の値が全て
の灰色の色彩に相当する。Ｙ輝度を測定すべき試料を配
置させる容器はカール・ツァイス社よりELREPHO装置と
共に提供される。これら容器は直径40mm、高さ３〜5mm
の試料（粉末）を得ることを可能にする。しかして、測
定すべき試料は全て同じ寸法を有する。
した。散乱反射（拡散光/0°観察）を測定できるカール
・ツァイス（Carl Zeiss）社製の商品名ELREPHOのTRIST
IMULUS光比色計を使用した。この装置は比色分析に携わ
る者によく知られており、積分球と２つの光源（タング
ステンフィラメントランプ）とを含み、この光源はこの
積分球の下部に置かれた容器中に配置された分析すべき
試料を照らす。この装置はこの位置に直径35mmの測定用
の窓を有する。この試料がこの光を反射して、積分球の
上部に配置されたＹフィルターに通す。この装置の検流
計の針を０に合わせることによって、この光の強さ（試
料の緑色成分）をこの光がＹフィルターを通過した後に
目盛付回転式ドラムによって測定する。このドラムは、
分析すべき試料を測定する前に、例えばＹ輝度が100で
ある硫酸バリウムと比較したＹ輝度値が知られている第
２の標準物質（VITROLITHE）を用いて目盛付けしてある
ので、目盛付ドラムについて得られた数値を読み取るだ
けでよく、それがその試料のＹ輝度に相当する。しかし
て、この装置を用いると、硫酸バリウムと同程度に白い
試料のＹ輝度は100であり、一方完全な黒色の試料のＹ
輝度は０であり、これら２つの極限点の中間の値が全て
の灰色の色彩に相当する。Ｙ輝度を測定すべき試料を配
置させる容器はカール・ツァイス社よりELREPHO装置と
共に提供される。これら容器は直径40mm、高さ３〜5mm
の試料（粉末）を得ることを可能にする。しかして、測
定すべき試料は全て同じ寸法を有する。
本発明に従う沈降シリカのＹ輝度の最大値は100であ
る。一般にそのＹ輝度は少なくとも90であり且つ多くと
も99である。
る。一般にそのＹ輝度は少なくとも90であり且つ多くと
も99である。
沈降シリカを400℃において４時間処理するための装置
は、例えば、以下のものから成る： ・内径66mmのガラス製又はステンレス鋼製円筒状装置。
この装置は下部においてフリットガラス（No.2）と窒素
を連続的に注入するための少なくとも１つの管とを含
む。400℃において４時間窒素を作用させることが意図
される沈降シリカがこのフリットガラス上に配置され
る。機械式撹拌機がこのシリカを撹拌する（回転速度90
rpm）。この装置（その縦軸は垂直に配置される）はそ
の頂部において、ガラスサイクロン中に窒素を流入させ
る管を有する。このサイクロンに窒素が接面的に入って
行き、円を描いて移動し、窒素流によって伴出されるこ
とのある少量のシリカをこのサイクロンの下部に付着さ
せる。このサイクロンの上部（及びその中間部）には、
20℃の水を通した凝縮器（冷却器）中に窒素を流通させ
る管がある。微量の凝縮物が凝縮器の出口において採集
されて大気開放された受管（大気圧）内に入る。
は、例えば、以下のものから成る： ・内径66mmのガラス製又はステンレス鋼製円筒状装置。
この装置は下部においてフリットガラス（No.2）と窒素
を連続的に注入するための少なくとも１つの管とを含
む。400℃において４時間窒素を作用させることが意図
される沈降シリカがこのフリットガラス上に配置され
る。機械式撹拌機がこのシリカを撹拌する（回転速度90
rpm）。この装置（その縦軸は垂直に配置される）はそ
の頂部において、ガラスサイクロン中に窒素を流入させ
る管を有する。このサイクロンに窒素が接面的に入って
行き、円を描いて移動し、窒素流によって伴出されるこ
とのある少量のシリカをこのサイクロンの下部に付着さ
せる。このサイクロンの上部（及びその中間部）には、
20℃の水を通した凝縮器（冷却器）中に窒素を流通させ
る管がある。微量の凝縮物が凝縮器の出口において採集
されて大気開放された受管（大気圧）内に入る。
この円筒状装置の周囲に配置された炉は、沈降シリカを
400℃に加熱する。
400℃に加熱する。
この円筒状装置には例えば沈降シリカ30gが装入され、
窒素流は５〜20l/時間の範囲で循環される。
窒素流は５〜20l/時間の範囲で循環される。
本発明に従う沈降シリカの特性検査は、一般にシリカ30
gについて15l/時間の窒素流量を用いて実施される。
gについて15l/時間の窒素流量を用いて実施される。
上記の装置及び操作を用いると、本発明の主題を形成す
る沈降シリカであって特徴ｂ）を有する前記沈降シリカ
を測定するのが容易である。実際、一般に商品として入
手できる沈降シリカは、400℃において４時間窒素処理
にかけると全て初期値（これは処理前には一般的に90よ
り高い）と比較して5.5％より多くのＹ輝度を損失す
る。
る沈降シリカであって特徴ｂ）を有する前記沈降シリカ
を測定するのが容易である。実際、一般に商品として入
手できる沈降シリカは、400℃において４時間窒素処理
にかけると全て初期値（これは処理前には一般的に90よ
り高い）と比較して5.5％より多くのＹ輝度を損失す
る。
前記したのと同じ装置を本発明に従うシリカの特徴ｃ）
を測定するのに使用することができる。シリカ30gをフ
リットガラス上に置き、撹拌し、温度が400℃に達した
時にフリットガラスの下に窒素及びオクタメチルシクロ
テトラシロキサン（D4）を窒素流量15l/時間及びD4流量
20cm3／時間で１時間30分注入する（D4は装置内に注入
されるとすぐに気化する）。本発明に従う沈降シリカに
おいては、この処理の後のＹ輝度の低下が5.5％以下で
ある。
を測定するのに使用することができる。シリカ30gをフ
リットガラス上に置き、撹拌し、温度が400℃に達した
時にフリットガラスの下に窒素及びオクタメチルシクロ
テトラシロキサン（D4）を窒素流量15l/時間及びD4流量
20cm3／時間で１時間30分注入する（D4は装置内に注入
されるとすぐに気化する）。本発明に従う沈降シリカに
おいては、この処理の後のＹ輝度の低下が5.5％以下で
ある。
窒素下で400℃において４時間処理した後のＹ輝度の変
化が5.5％より小さいシリカであって且つこのシリカを4
00℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサン流で
１時間30分処理した場合のＹ輝度の低下が5.5％以下で
ある前記沈降シリカを得るために、本出願人は、通常市
販されている沈降シリカ（その輝度は一般に90以上であ
る）を酸化処理にかけた。この酸化処理は、酸素によっ
て又は酸素含有気体混合物によって実施することがで
き、経費及び安全性の理由から、空気によって実施する
のが有利である。この処理は250℃以上の温度、一般的
には300〜900℃の範囲の温度において実施され、１分〜
５時間続けられる。この処理は温度を高くするにつれて
短い時間で実施される。
化が5.5％より小さいシリカであって且つこのシリカを4
00℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサン流で
１時間30分処理した場合のＹ輝度の低下が5.5％以下で
ある前記沈降シリカを得るために、本出願人は、通常市
販されている沈降シリカ（その輝度は一般に90以上であ
る）を酸化処理にかけた。この酸化処理は、酸素によっ
て又は酸素含有気体混合物によって実施することがで
き、経費及び安全性の理由から、空気によって実施する
のが有利である。この処理は250℃以上の温度、一般的
には300〜900℃の範囲の温度において実施され、１分〜
５時間続けられる。この処理は温度を高くするにつれて
短い時間で実施される。
工業的規模において、この酸化処理は、他の気体状成分
による充填剤の処理用にすでに用いられている慣用の装
置を用いて送風下での処理を用いて又は流動床中で実施
される。実験室においては、この酸化処理は、シリカを
400℃において窒素によって４時間処理するのに前記し
たのと同じガラス製又はステンレス鋼製の装置中で実施
することができる。空気流量は一般に10〜100gの範囲の
処理すべき沈降シリカについて５〜20lである。
による充填剤の処理用にすでに用いられている慣用の装
置を用いて送風下での処理を用いて又は流動床中で実施
される。実験室においては、この酸化処理は、シリカを
400℃において窒素によって４時間処理するのに前記し
たのと同じガラス製又はステンレス鋼製の装置中で実施
することができる。空気流量は一般に10〜100gの範囲の
処理すべき沈降シリカについて５〜20lである。
酸化処理にかけられる沈降シリカは、一般に0.1〜20μ
の範囲、好ましくは0.5〜10μの範囲の平均粒径を有
し、そのBET比表面積は50m2/g以上、好ましくは50〜350
m2/gの範囲である。平均粒径とは、粒子の平均直径を意
味する。
の範囲、好ましくは0.5〜10μの範囲の平均粒径を有
し、そのBET比表面積は50m2/g以上、好ましくは50〜350
m2/gの範囲である。平均粒径とは、粒子の平均直径を意
味する。
前記の酸化処理をされた沈降シリカは、そのままポリマ
ー中、特にオルガノポリシロキサンポリマー中の補強用
充填剤として、例えば周囲温度において加硫するエラス
トマーを得ることのできる組成物の製造に使用すること
ができる。これら沈降シリカ（この酸化処理をしたも
の）は、熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造に
有利に使用することができる。この用途において、これ
ら沈降シリカは前記の酸化処理の後に250℃以上、有利
には300〜550℃の範囲の温度においてポリシロキサン、
シクロポリシロキサン又はシクロポリシロキサン（類）
及び（若しくは）ポリシロキサン（類）の混合物で処理
される。
ー中、特にオルガノポリシロキサンポリマー中の補強用
充填剤として、例えば周囲温度において加硫するエラス
トマーを得ることのできる組成物の製造に使用すること
ができる。これら沈降シリカ（この酸化処理をしたも
の）は、熱加硫し得るエラストマー用の組成物の製造に
有利に使用することができる。この用途において、これ
ら沈降シリカは前記の酸化処理の後に250℃以上、有利
には300〜550℃の範囲の温度においてポリシロキサン、
シクロポリシロキサン又はシクロポリシロキサン（類）
及び（若しくは）ポリシロキサン（類）の混合物で処理
される。
用いられるシクロポリシロキサンは、有利にはシクロテ
トラシロキサンであり、特にテトラメチルテトラビニル
シクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラ
シロキサンから選択される。線状ポリシロキサンを用い
る場合、これは例えばデカメチルテトラシロキサンであ
ってよい。このようなシロキサン化合物によるシリカの
処理は、特に仏国特許第1,234,245号及び同第1,520,663
号から知られている。所望ならばこの処理のための温度
は550℃を越えてもよいが、経済上の理由から550℃を越
えないのが好ましい。
トラシロキサンであり、特にテトラメチルテトラビニル
シクロテトラシロキサン及びオクタメチルシクロテトラ
シロキサンから選択される。線状ポリシロキサンを用い
る場合、これは例えばデカメチルテトラシロキサンであ
ってよい。このようなシロキサン化合物によるシリカの
処理は、特に仏国特許第1,234,245号及び同第1,520,663
号から知られている。所望ならばこの処理のための温度
は550℃を越えてもよいが、経済上の理由から550℃を越
えないのが好ましい。
400℃において１時間30分オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン（D4）で処理された本発明に従う沈降シリカ
は、そのＹ輝度の低下が5.5％以下である。このD4によ
る処理はD4と窒素との混合物を通じることによって実施
され、この場合例えば、導入窒素の流量は15l/時間であ
り、前記のガラス製又はステンレス鋼製装置の底部にお
いて注入されるD4の量は20cm3／時間であり、SiO2の量
は30gである。
ロキサン（D4）で処理された本発明に従う沈降シリカ
は、そのＹ輝度の低下が5.5％以下である。このD4によ
る処理はD4と窒素との混合物を通じることによって実施
され、この場合例えば、導入窒素の流量は15l/時間であ
り、前記のガラス製又はステンレス鋼製装置の底部にお
いて注入されるD4の量は20cm3／時間であり、SiO2の量
は30gである。
オルガノポリシロキサン又はオルガノシクロポリシロキ
サンで追加的に処理された本発明に従う沈降シリカを用
いて得られる熱加硫されたシリコーンエラストマーは、
組成物に顔料を添加した時に純粋な即ち非「灰色系」の
色を有し、また、組成物が顔料を含有しない場合には半
透明又は透明である（灰色でない）。本発明に従う沈降
シリカであって且つ１〜７μの平均粒径を有する前記沈
降シリカによって、これら熱加硫されたエラストマー
（これはまた加硫製品とも称する）の最良の機械的特性
が得られるということがわかった。
サンで追加的に処理された本発明に従う沈降シリカを用
いて得られる熱加硫されたシリコーンエラストマーは、
組成物に顔料を添加した時に純粋な即ち非「灰色系」の
色を有し、また、組成物が顔料を含有しない場合には半
透明又は透明である（灰色でない）。本発明に従う沈降
シリカであって且つ１〜７μの平均粒径を有する前記沈
降シリカによって、これら熱加硫されたエラストマー
（これはまた加硫製品とも称する）の最良の機械的特性
が得られるということがわかった。
400℃においてポリシロキサンで追加的に処理された本
発明に従う沈降シリカを用いて得られる熱加硫されたエ
ラストマー（加硫製品）は、酸化熱処理を実施せずに40
0℃においてポリシロキサンによる処理を実施した沈降
シリカを用いて同じ条件下で得られる加硫製品のＹ輝度
と比較して少なくとも5.5％高いＹ輝度を有する。これ
らのＹ輝度の測定は、前記のELREPHO光度計を用いて同
じ検量線法に従って、それぞれが目盛付けされた支持体
（VITROLITHE Y＝77.85）上に配置された厚さ2mmの加硫
製品について実施され、その測定は加硫製品を離型し且
つ冷却したらすぐに実施される。
発明に従う沈降シリカを用いて得られる熱加硫されたエ
ラストマー（加硫製品）は、酸化熱処理を実施せずに40
0℃においてポリシロキサンによる処理を実施した沈降
シリカを用いて同じ条件下で得られる加硫製品のＹ輝度
と比較して少なくとも5.5％高いＹ輝度を有する。これ
らのＹ輝度の測定は、前記のELREPHO光度計を用いて同
じ検量線法に従って、それぞれが目盛付けされた支持体
（VITROLITHE Y＝77.85）上に配置された厚さ2mmの加硫
製品について実施され、その測定は加硫製品を離型し且
つ冷却したらすぐに実施される。
上記の特性を有する熱加硫されたエラストマー（加硫製
品）を得ることのできるシロキサン組成物は、 ａ）25℃において1,000,000mpa・ｓより大きい粘度を有
するジオルガノポリシロキサン樹脂： 100重量部 ｂ）有機過酸化物： 0.1〜７重量部 ｃ）酸化熱処理及び続いてのポリシロキサンによる処理
を実施した本発明に従う沈降シリカ： ５〜150重量部 を含有する。
品）を得ることのできるシロキサン組成物は、 ａ）25℃において1,000,000mpa・ｓより大きい粘度を有
するジオルガノポリシロキサン樹脂： 100重量部 ｂ）有機過酸化物： 0.1〜７重量部 ｃ）酸化熱処理及び続いてのポリシロキサンによる処理
を実施した本発明に従う沈降シリカ： ５〜150重量部 を含有する。
25℃において1,000,000mpa・ｓより大きい粘度を有する
ジオルガノポリシロキサン樹脂ａ）は、式R2SiOの単位
の連鎖から成り、鎖部の各末端を式R3SiO0.5の単位及び
（又は）式OR′の基でブロックされている。これらの式
中、記号Ｒは同一であっても異なっていてもよく、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、フェニル、ビニル及び3,3,
3−トリフルオルメチル基であり、但し、これらの基の
少なくとも60％がメチル基であり且つ３％以下がビニル
基であるものとし、記号Ｒ′は水素原子、１〜４個の炭
素原子を有するアルキル基又はβ−メトキシエチル基を
表わす。
ジオルガノポリシロキサン樹脂ａ）は、式R2SiOの単位
の連鎖から成り、鎖部の各末端を式R3SiO0.5の単位及び
（又は）式OR′の基でブロックされている。これらの式
中、記号Ｒは同一であっても異なっていてもよく、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、フェニル、ビニル及び3,3,
3−トリフルオルメチル基であり、但し、これらの基の
少なくとも60％がメチル基であり且つ３％以下がビニル
基であるものとし、記号Ｒ′は水素原子、１〜４個の炭
素原子を有するアルキル基又はβ−メトキシエチル基を
表わす。
これらの組成物は好ましくは追加的に ｄ）25℃において5,000mpa・ｓを越えない粘度を有し、
式Ｒ″２SiOの単位の連鎖より成り且つ鎖部の各末端を
式OR′の基でブロックされたジオルガノポリシロキサン
オイル （これらの式中、記号Ｒ″は同一であっても異なってい
てもよく、メチル、フェニル又はビニル基を表わし、但
し、これらの基の少なくとも40％がメチル基であるもの
とし、 記号Ｒ′はａ）において前記した意味を持つ）： 0.5〜15部 を含有する。
式Ｒ″２SiOの単位の連鎖より成り且つ鎖部の各末端を
式OR′の基でブロックされたジオルガノポリシロキサン
オイル （これらの式中、記号Ｒ″は同一であっても異なってい
てもよく、メチル、フェニル又はビニル基を表わし、但
し、これらの基の少なくとも40％がメチル基であるもの
とし、 記号Ｒ′はａ）において前記した意味を持つ）： 0.5〜15部 を含有する。
これら組成物の各成分を以下により詳細に説明する。
25℃において1,000,000mpa・ｓより大きい、好ましくは
25℃において2,000,000mpa・ｓより大きい粘度を有する
ジオルガノポリシロキサン樹脂ａ）は、そのジオルガノ
ポリシロキサン鎖が前記の式R2SiOの単位から実質的に
成り且つこの鎖の各末端を式R3SiO0.5の単位及び（又
は）式OR′の基でブロックされた、高分子量の線状ポリ
マーである。ジオルガノポリシロキサン鎖中にR2SiO以
外の単位、例えば式RSiO0.5及び（又は）SiO2の単位が
少量存在することも除外されないが、しかしながら、R2
SiO単位の数に対して２％を越えない割合であるものと
する。基Ｒ及びＲ′の意味は前記の通りであるが、アル
キル基はC1〜C4のアルキル基、特にメチル、エチル、ｎ
−プロピル及びｎ−ブチル基を意味するものと解される
べきである。
25℃において2,000,000mpa・ｓより大きい粘度を有する
ジオルガノポリシロキサン樹脂ａ）は、そのジオルガノ
ポリシロキサン鎖が前記の式R2SiOの単位から実質的に
成り且つこの鎖の各末端を式R3SiO0.5の単位及び（又
は）式OR′の基でブロックされた、高分子量の線状ポリ
マーである。ジオルガノポリシロキサン鎖中にR2SiO以
外の単位、例えば式RSiO0.5及び（又は）SiO2の単位が
少量存在することも除外されないが、しかしながら、R2
SiO単位の数に対して２％を越えない割合であるものと
する。基Ｒ及びＲ′の意味は前記の通りであるが、アル
キル基はC1〜C4のアルキル基、特にメチル、エチル、ｎ
−プロピル及びｎ−ブチル基を意味するものと解される
べきである。
式R2SiO及びR3SiO0.5の単位並びに式OR′の基の具体例
としては、以下の式のものを挙げることができる： (CH3)2SiO CH3(CH2=CH)SiO CH3(C6H5)SiO (C6H5)2SiO CH3(C2H5)SiO (CH3CH2CH2)CH3SiO CH3(n-C3H7)SiO (CH3)(C6H5)(CH2=CH)SiO0.5 −OH −OCH3 −OC2H5 −Ｏ−ｎ−C3H7 −Ｏ−イソ−C3H7 −Ｏ−ｎ−C4H9 −OCH2CH2OCH3。
としては、以下の式のものを挙げることができる： (CH3)2SiO CH3(CH2=CH)SiO CH3(C6H5)SiO (C6H5)2SiO CH3(C2H5)SiO (CH3CH2CH2)CH3SiO CH3(n-C3H7)SiO (CH3)(C6H5)(CH2=CH)SiO0.5 −OH −OCH3 −OC2H5 −Ｏ−ｎ−C3H7 −Ｏ−イソ−C3H7 −Ｏ−ｎ−C4H9 −OCH2CH2OCH3。
これらの樹脂ａ）は、混合物として、本発明に従う組成
物中に樹脂100部を占めるようにして用いることがで
き、一般的に３％以下であるビニル基を含有し、大抵の
場合、これらビニル基は珪素原子に結合した基の数の0.
005〜1.5％を占める。
物中に樹脂100部を占めるようにして用いることがで
き、一般的に３％以下であるビニル基を含有し、大抵の
場合、これらビニル基は珪素原子に結合した基の数の0.
005〜1.5％を占める。
樹脂ａ）は、シリコーン製造業者によって市販されてお
り、さらに、既知の方法に従って製造することができ
る。
り、さらに、既知の方法に従って製造することができ
る。
ジオルガノポリシロキサンオイルｄ）は、樹脂ａ）100
部につき０〜15部、好ましくは0.3〜12部の割合で用い
られる。このオイルは25℃において5,000mpa・ｓを越え
ない、好ましくは25℃において4,000mpa・ｓを越えない
比較的小さい粘度を有し、ジオルガノポリシロキサン鎖
が前記の式Ｒ″２SiOの単位から実質的に成り且つこの
鎖部の各末端を前記の式OR′の基でブロックされた線状
ポリマーである。基Ｒ″の少なくとも40％、好ましくは
少なくとも45％はメチル基であるものとする。
部につき０〜15部、好ましくは0.3〜12部の割合で用い
られる。このオイルは25℃において5,000mpa・ｓを越え
ない、好ましくは25℃において4,000mpa・ｓを越えない
比較的小さい粘度を有し、ジオルガノポリシロキサン鎖
が前記の式Ｒ″２SiOの単位から実質的に成り且つこの
鎖部の各末端を前記の式OR′の基でブロックされた線状
ポリマーである。基Ｒ″の少なくとも40％、好ましくは
少なくとも45％はメチル基であるものとする。
記号Ｒ″及びＲ′の意味は、前に説明されている。
式Ｒ″２SiOの単位及び式OR′の基の具体例としては、
以下の式のものを挙げることができる： (CH3)2SiO CH3(CH2=CH)SiO CH3(C6H5)SiO (C6H5)2SiO C6H5(CH2=CH)SiO −OH −OCH3 −OC2H5 −Ｏ−ｎ−C3H7 −OCH2CH2OCH3。
以下の式のものを挙げることができる： (CH3)2SiO CH3(CH2=CH)SiO CH3(C6H5)SiO (C6H5)2SiO C6H5(CH2=CH)SiO −OH −OCH3 −OC2H5 −Ｏ−ｎ−C3H7 −OCH2CH2OCH3。
好ましくは次のものを使用する： ・鎖部の各末端をヒドロキシル、メトキシ又はβ−メト
キシエトキシ基でブロックされ且つ25℃において10〜20
0mpa・ｓの粘度を有するジメチルポリシロキサンオイ
ル、 ・CH3(C6H5)SiO単位から成り、鎖部の各末端をヒドロキ
シル及び（又は）メトキシ基でブロックされ且つ25℃に
おいて40〜2,000mpa・ｓの粘度を有するメチルフェニル
ポリシロキサンオイル。
キシエトキシ基でブロックされ且つ25℃において10〜20
0mpa・ｓの粘度を有するジメチルポリシロキサンオイ
ル、 ・CH3(C6H5)SiO単位から成り、鎖部の各末端をヒドロキ
シル及び（又は）メトキシ基でブロックされ且つ25℃に
おいて40〜2,000mpa・ｓの粘度を有するメチルフェニル
ポリシロキサンオイル。
このオイルｄ）は、本発明の組成物が貯蔵中に変化を起
こすのを、より正確には構造化及び硬化するのを防止す
るために使用される。従って、これらは「耐構造化（an
tistructuring）」剤である。特に、補強用シリカｃ）
の量が多い、例えば樹脂ａ）100部につき30〜40部より
多い場合には、このオイルｄ）を使用することが推奨さ
れる。
こすのを、より正確には構造化及び硬化するのを防止す
るために使用される。従って、これらは「耐構造化（an
tistructuring）」剤である。特に、補強用シリカｃ）
の量が多い、例えば樹脂ａ）100部につき30〜40部より
多い場合には、このオイルｄ）を使用することが推奨さ
れる。
前記オイルｄ）の一部又は全部を、他の耐構造化剤、例
えばジフェニルシランジオール並びに次式： 及び のシランで置き換えることができる。
えばジフェニルシランジオール並びに次式： 及び のシランで置き換えることができる。
しかしながら、これらは多くの場合オイルｄ）より高価
であり且つ（又は）本発明の組成物中に分散させるのに
より多くの作業を必要とする。
であり且つ（又は）本発明の組成物中に分散させるのに
より多くの作業を必要とする。
有機過酸化物ｂ）は、樹脂ａ）100部につき0.1〜７部、
好ましくは0.2〜５部の割合で用いられる。これらは専
門家によく知られており、より特定的には、過酸化ベン
ゾイル、過酸化2,4−ジクロルベンゾイル、過酸化ジク
ミル、2,5−ビス‐（ｔ−ブチルペルオキシ）‐2,5−ジ
メチルヘキサン、過安息香酸ｔ−ブチル、ｔ−ブチルペ
ルオキシイソプロピルカーボネート、過酸化ジ−ｔ−ブ
チル及び1,1−ビス‐（ｔ−ブチルペルオキシ）‐3,3,5
−トリメチルシクロヘキサンを包含する。
好ましくは0.2〜５部の割合で用いられる。これらは専
門家によく知られており、より特定的には、過酸化ベン
ゾイル、過酸化2,4−ジクロルベンゾイル、過酸化ジク
ミル、2,5−ビス‐（ｔ−ブチルペルオキシ）‐2,5−ジ
メチルヘキサン、過安息香酸ｔ−ブチル、ｔ−ブチルペ
ルオキシイソプロピルカーボネート、過酸化ジ−ｔ−ブ
チル及び1,1−ビス‐（ｔ−ブチルペルオキシ）‐3,3,5
−トリメチルシクロヘキサンを包含する。
これら各種過酸化物は、往々にして異なる温度及び速度
で分解する。これらは、要求される硬化条件に従って選
択される。
で分解する。これらは、要求される硬化条件に従って選
択される。
これら組成物は、珪素原子に結合した少なくとも１個の
アクリロイルオキシアルキレン又はメタクリロイルオキ
シアルキレン基を含有する次式： （式中、記号Ｒ″はメチル、フェニル又はビニル基を表
わし、 記号R3は水素原子又はメチル基を表わし、 記号R4はメチル、エチル、ｎ−プロピル又はβ−メトキ
シエチル基を表わし、 記号ｗは１〜５の数を表わし、 記号ｕは０〜２の数を表わす） の有機シリコーン化合物を樹脂ａ）100部につき0.02〜
４部、好ましくは0.03〜３部の割合で追加的に含有し得
る非灰色系加硫製品を得ることを可能にする。
アクリロイルオキシアルキレン又はメタクリロイルオキ
シアルキレン基を含有する次式： （式中、記号Ｒ″はメチル、フェニル又はビニル基を表
わし、 記号R3は水素原子又はメチル基を表わし、 記号R4はメチル、エチル、ｎ−プロピル又はβ−メトキ
シエチル基を表わし、 記号ｗは１〜５の数を表わし、 記号ｕは０〜２の数を表わす） の有機シリコーン化合物を樹脂ａ）100部につき0.02〜
４部、好ましくは0.03〜３部の割合で追加的に含有し得
る非灰色系加硫製品を得ることを可能にする。
この種の化合物は、例えば、米国特許第3,567,497号に
記載されている。その具体例としては、以下の式を有す
る化合物を挙げることができる： CH2=CH-COOCH2Si(OCH3)3 CH2=CH-COOCH2Si(OCH2CH2OCH3)2C6H5 CH2=CH-COO(CH2)3Si(OCH2H5)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3SiCH3(OCH3)2 CH2=C(CH3)COO(CH2)5Si(OCH3)3。
記載されている。その具体例としては、以下の式を有す
る化合物を挙げることができる： CH2=CH-COOCH2Si(OCH3)3 CH2=CH-COOCH2Si(OCH2CH2OCH3)2C6H5 CH2=CH-COO(CH2)3Si(OCH2H5)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3SiCH3(OCH3)2 CH2=C(CH3)COO(CH2)5Si(OCH3)3。
これらの組成物の製造は、既知の機械的装置、例えばニ
ーダー、ロールミル又はスクリューミキサーを用いて実
施される。各種成分は、任意の順でこれらの装置中に導
入される。しかしながら、樹脂ａ）及び本発明に従う沈
降シリカｃ）を初めに、次いで最後に過酸化物ｂ）を装
入することが推奨される。
ーダー、ロールミル又はスクリューミキサーを用いて実
施される。各種成分は、任意の順でこれらの装置中に導
入される。しかしながら、樹脂ａ）及び本発明に従う沈
降シリカｃ）を初めに、次いで最後に過酸化物ｂ）を装
入することが推奨される。
［実施例］ 以下の実施例は、現在商品として入手できる２種の沈降
シリカ及びローヌープーラン（Rhne-Poulenc）社製の
沈降シリカに対する本発明に従う処理の有用性を、この
ようなシリカのＹ輝度を測定することによって示す。ま
た、これらの実施例は、本発明に従うシリカ及び酸化熱
処理されていない商品として入手できる沈降シリカから
得られる加硫製品のＹ輝度をも示す。
シリカ及びローヌープーラン（Rhne-Poulenc）社製の
沈降シリカに対する本発明に従う処理の有用性を、この
ようなシリカのＹ輝度を測定することによって示す。ま
た、これらの実施例は、本発明に従うシリカ及び酸化熱
処理されていない商品として入手できる沈降シリカから
得られる加硫製品のＹ輝度をも示す。
研究したシリカは、下記のものである： ・デグッサ（Degussa）社より市販されている商品名FK1
60の平均粒径６μ及びBET非表面積160m2/gを有する沈降
シリカ、 ・日本シリカ（Nippon Silica）社より市販されている
商品名「Nipsil LP」の平均粒径10μ及びBET比表面積15
0m2/gを有する沈降シリカ、 ・仏国特許第2,471,947号の例１に従うローヌープーラ
ン社製の平均粒径1.5μ及びBET比表面積175m2/gを有す
る沈降シリカ。
60の平均粒径６μ及びBET非表面積160m2/gを有する沈降
シリカ、 ・日本シリカ（Nippon Silica）社より市販されている
商品名「Nipsil LP」の平均粒径10μ及びBET比表面積15
0m2/gを有する沈降シリカ、 ・仏国特許第2,471,947号の例１に従うローヌープーラ
ン社製の平均粒径1.5μ及びBET比表面積175m2/gを有す
る沈降シリカ。
下記の表１は、これら３種の沈降シリカのＹ輝度を、初
めに何ら処理を実施せずに、次いで１の処理後、２の処
理後、２の処理に次いで実施した３の処理後及び２の処
理に次いで実施した３′の処理（３の処理とまさに同じ
ようにして）後について示す。
めに何ら処理を実施せずに、次いで１の処理後、２の処
理後、２の処理に次いで実施した３の処理後及び２の処
理に次いで実施した３′の処理（３の処理とまさに同じ
ようにして）後について示す。
表１から明らかに、本発明に従う沈降シリカが90より大
きいＹ輝度を有すること（２を参照されたい）、窒素流
下で400℃において４時間処理した場合にそのＹ輝度の
低下が5.5％より少ないこと（３を参照されたい）及び4
00℃においてD4で１時間30分処理した場合にそれらのＹ
輝度の低下が5.5％より少ないこと（３′を参照された
い）が示される。
きいＹ輝度を有すること（２を参照されたい）、窒素流
下で400℃において４時間処理した場合にそのＹ輝度の
低下が5.5％より少ないこと（３を参照されたい）及び4
00℃においてD4で１時間30分処理した場合にそれらのＹ
輝度の低下が5.5％より少ないこと（３′を参照された
い）が示される。
対照的に、従来の沈降シリカ（なんら処理していないも
の）は窒素流下で400℃において４時間処理した場合に
そのＹ輝度低下が６％より多く（１を参照されたい）且
つD4により400℃において１時間30分処理した場合にそ
のＹ輝度低下が６％より多い（１′を参照されたい）。
の）は窒素流下で400℃において４時間処理した場合に
そのＹ輝度低下が６％より多く（１を参照されたい）且
つD4により400℃において１時間30分処理した場合にそ
のＹ輝度低下が６％より多い（１′を参照されたい）。
３本ロールミルを用いて周囲温度において下記のものを
混合することによって加硫製品を製造した： ・25℃において1,000,000〜10,000,000mpa・ｓの粘度を
有し、鎖部の各末端をトリメチルシロキサン単位でブロ
ックされ且つその鎖部中に0.2モル％のメチルビニルシ
ロキサン基を有するジオルガノポリシロキサン樹脂： 100重量部 ・表２に従う沈降シリカ： 40重量部 ・25℃において40mpa・ｓの粘度を有し、鎖部の各末端
を末端珪素原子と結合したヒドロキシル基でブロックさ
れたジメチルポリシロキサンオイル： 1.4重量部 ・2,5−ジメチル−2,5−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘ
キサン： 0.5重量部 次いで、得られた混合物を170℃で150バールにおいて10
分間加硫させて、厚さ2mmの試料が得られた。
混合することによって加硫製品を製造した： ・25℃において1,000,000〜10,000,000mpa・ｓの粘度を
有し、鎖部の各末端をトリメチルシロキサン単位でブロ
ックされ且つその鎖部中に0.2モル％のメチルビニルシ
ロキサン基を有するジオルガノポリシロキサン樹脂： 100重量部 ・表２に従う沈降シリカ： 40重量部 ・25℃において40mpa・ｓの粘度を有し、鎖部の各末端
を末端珪素原子と結合したヒドロキシル基でブロックさ
れたジメチルポリシロキサンオイル： 1.4重量部 ・2,5−ジメチル−2,5−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘ
キサン： 0.5重量部 次いで、得られた混合物を170℃で150バールにおいて10
分間加硫させて、厚さ2mmの試料が得られた。
下記の表２は、上記の操作方法に従って得られた加硫製
品の輝度を、使用した出発のシリカの関数として及びそ
れらについて実施した処理の関数として示す。
品の輝度を、使用した出発のシリカの関数として及びそ
れらについて実施した処理の関数として示す。
この表２から、400℃においてD4で１時間30分処理され
た本発明に従う沈降シリカを用いて得られる加硫製品
が、同じD4による処理を実施ししかし酸化熱処理を実施
していない同じシリカを用いた場合のＹ輝度と比較して
少なくとも４％大きいＹ輝度を有するということがわか
る。
た本発明に従う沈降シリカを用いて得られる加硫製品
が、同じD4による処理を実施ししかし酸化熱処理を実施
していない同じシリカを用いた場合のＹ輝度と比較して
少なくとも４％大きいＹ輝度を有するということがわか
る。
空気流下で400℃において１時間30分処理し、次いで400
℃においてD4で１時間30分処理した後のRP 175 MSシリ
カを用いて得られる加硫製品の機械的特性を以下に示
す。
℃においてD4で１時間30分処理した後のRP 175 MSシリ
カを用いて得られる加硫製品の機械的特性を以下に示
す。
この加硫製品はＹ輝度55を有し（表２を参照された
い）、後硬化されていない状態におけるその機械的特性
は、以下の通りである： ・SH（Ａ）:46 ・TS（MPa）:5.2 ・EB（％）:420 ・TrS（kN/m）:16 略号は以下の意味を持つ： ・SH（Ａ）:ASTM規格2240に従うショアー（Ａ）硬度 ・TS:ANFOR規格T 46002（ASTM規格D 412に対応する）に
従う引張強さ（MPa） ・EB:ANFOR規格T 46002に従う破断点伸び（％） ・TrS:ASTM規格D 624に従う引裂強さ（kN/m）。
い）、後硬化されていない状態におけるその機械的特性
は、以下の通りである： ・SH（Ａ）:46 ・TS（MPa）:5.2 ・EB（％）:420 ・TrS（kN/m）:16 略号は以下の意味を持つ： ・SH（Ａ）:ASTM規格2240に従うショアー（Ａ）硬度 ・TS:ANFOR規格T 46002（ASTM規格D 412に対応する）に
従う引張強さ（MPa） ・EB:ANFOR規格T 46002に従う破断点伸び（％） ・TrS:ASTM規格D 624に従う引裂強さ（kN/m）。
Claims (10)
- 【請求項１】シロキサン組成物の製造用、特に熱加硫し
得るエラストマー用の組成物の製造用の充填剤として特
に使用することのできる沈降シリカであって、 ａ）少なくとも90のＹ輝度を有すること、 ｂ）窒素流下で400℃において４時間処理した場合にそ
のＹ輝度の低下が5.5％以下であること、 並びに ｃ）400℃においてオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン流で１時間30分処理した場合にそのＹ輝度の低下が5.
5％以下であること を特徴とする前記沈降シリカ。 - 【請求項２】BET比表面積が50m2/g以上であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の沈降シリカ。 - 【請求項３】平均粒径が0.1〜20μの範囲、好ましくは
0.5〜10μの範囲であることを特徴とする特許請求の範
囲第１又は２項記載の沈降シリカ。 - 【請求項４】任意の沈降シリカを酸化気体状処理にかけ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１〜３項のいずれ
かに記載の沈降シリカの製造方法。 - 【請求項５】250℃以上の温度においてシリカに空気を
通じることによって酸化気体状処理を実施することを特
徴とする特許請求の範囲第４項記載の方法。 - 【請求項６】特許請求の範囲第４又は５項記載の方法に
従って得られるシリカから成る、ポリマー用補強剤。 - 【請求項７】特許請求の範囲第４又は５項記載の方法に
従って得られるシリカをさらに250℃以上、好ましくは3
00〜550℃の範囲の温度においてオルガノポリシロキサ
ンで、より特定的にはシクロポリシロキサン、特にオク
タメチルシクロテトラシロキサンで処理したものから成
る、シロキサン組成物用、より特定的には熱加硫し得る
エラストマー用の組成物用の補強剤。 - 【請求項８】特許請求の範囲第１〜３項のいずれかに記
載の沈降シリカを含有することを特徴とするオルガノポ
リシロキサン組成物。 - 【請求項９】ａ）25℃において1,000,000mpa・ｓより大
きい粘度を有するジオルガノポリシロキサン樹脂： 100
重量部 ｂ）有機過酸化物： 0.1〜７重量部 ｃ）250℃以上、好ましくは300〜550℃の範囲の温度に
おいてオルガノポリシロキサンで、好ましくはオルガノ
シクロポリシロキサンで追加的に処理した特許請求の範
囲第１〜５項のいずれかに記載の沈降シリカ： ５〜150重量部 ｄ）25℃において5,000mpa・ｓを越えない粘度を有し、
式Ｒ″２SiOの単位の連鎖より成り且つ鎖部の各末端を
式OR′の基でブロックされたジオルガノポリシロキサン
オイル （これらの式中、記号Ｒ″は同一であっても異なってい
てもよく、メチル、フェニル又はビニル基を表わし、但
し、これらの基の少なくとも40％がメチル基であるもの
とし、 記号Ｒ′は水素原子、１〜４個の炭素原子を有するアル
キル基又はβ−メトキシエチル基を表わす）： ０〜15重量部 を含有することを特徴とする、熱加硫性シロキサン組成
物。 - 【請求項１０】オルガノシクロポリシロキサンによる処
理を400℃において１時間30分実施した特許請求の範囲
第９項記載の組成物を用いて得られる加硫製品であっ
て、そのＹ輝度が、同じ沈降シリカでありしかし酸化熱
処理を実施せずに400℃においてポリシロキサンによる
処理を実施した前記沈降シリカを用いて同じ条件下で得
られる加硫製品のＹ輝度と比較して少なくとも5.5％高
いことを特徴とする前記加硫製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8802985A FR2628116B1 (fr) | 1988-03-03 | 1988-03-03 | Silice de precipitation a proprietes ameliorees |
| FR88/02985 | 1988-03-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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