JPH0125626Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は湿式脱硫装置等に用いる気液接触装
置に関するものである。

従来、この種の装置は一般にほぼ第１図に示す
ように形成されている。

同図においてａは本体であり、その下部にガス
入口ｂが形成され、その上部にガス出口ｃが形成
されている。ｄは液溜タンクであり、ｅはこのタ
ンクｄと連通して設けられている吸収液の供給
管、ｆはノズル、ｇはポンプである。又ｈは丸棒
ｉを多数並設して形成した格子であり、ｊはミス
トエリミネータを示す。

ガスは入口ｂから、矢印Abに示すように流入
させられ、前記格子ｈの、丸棒ｉ間を通過し上昇
する。その際有害ガスを吸収する吸収液は前記ス
プレーノズルｆから下方に向け散布され、吸収液
は丸棒ｉ間等において気液接触を行い有害ガスの
吸収を行う。この装置は広く用いられている。処
がこの装置は次のような問題点を有している。

それは、吸収液が、ガスとの反応生成物の溶解
度が低い場合、丸棒ｉの下部に、第２図に示すよ
うにスケールｋが生じ、それは次第に生長して目
詰りを起す。

これは丸棒ｉの上から吸収液がかけられるため
丸棒ｉの下面にしずくとなつて液が溜り、次第に
大きくなるためである。このため、この丸棒ｉの
下面に溜つた液とガスが反応し、生成物が折出し
易くなり、スケールｋとなるのである。

この考案はこのような問題を解決するためにな
されたもので、この考案を図面について述べる
と、第３図において、本体１にガス入口２を設
け、又頂部にガスの出口３を形成し、かつ内部
に、上向きのスプレーノズル４を有する供給管５
と、丸棒６を並設して形成した格子７とを設けた
ことを特徴とする気液接触装置である。

なお図中９はミストエリミネータ、１０は液溜
めタンク、１１は吸収液、１２は連通管、１３は
ポンプを示す。又図に示すように、前記スプレー
ノズル４を有する供給管５と格子７は一段のみな
らず、任意の段数で設けてよい。

又、図示のように、格子７の下から上向きに吸
収液１１を噴出させるのみでなく、最上段に上向
きのスプレーノズル４を有する供給管５を設け、
吸収液１１を上向きに噴出させ、有害ガスの吸収
をはかつている。

吸収液１１はスプレーノズル４から上向きに噴
出させられ、丸棒６の下面を洗浄する。又それか
ら下方に落下し、ガスを吸収しつつ落下し、各格
子７の、丸棒６間でもガス吸収を行う。こうして
吸収液１１は循環させられる。

この考案は前記のように構成されたことによ
り、次のような作用効果を奏する。

即ち、スプレーノズル４が上向きに設けられて
あるため、スプレー液滴は初め上向きに上昇し次
に落下に転じる。従つて前記従来例に示すスプレ
ーノズルｆのように初めから下向きに落下する液
滴に較べ、液滴の、本体内での滞溜時間が長くな
り、気液接触時間が長くなる。このため有害ガス
の吸収率を向上させることができる。又、丸棒６
から成る格子７の下面から液滴が衝突するため、
丸棒６下面における液の滞溜が防止され、スケー
ルの析出を防止することができる。又、前記供給
管５と格子７との間隔を前記従来例に示すものよ
り近くすることができるので、作業員が格子７の
上に乗り、スプレーノズル４の点検をすることが
できる。これについては、前記従来例に示すもの
は本体ａ内に特殊な足場を形成しなければならな
かつたものであり、それを省略することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の気液接触装置の概略断面図、第
２図は同じくその装置の部分の作用を説明する
図、第３図はこの考案の実施例を示し、気液接触
装置の概略断面図、第４図は同じくその装置の部
分の作用を説明する図である。 １……本体、２……ガス入口、３……出口、４
……スプレーノズル、５……供給管、６……丸
棒、７……格子。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 本体にガス入口を設け、又頂部にガスの出口を
   形成し、かつ内部に、上向きのスプレーノズルを
   有する供給管と、丸棒を並設して形成した格子と
   を設けたことを特徴とする気液接触装置。