JPH0125626Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0125626Y2 JPH0125626Y2 JP1544684U JP1544684U JPH0125626Y2 JP H0125626 Y2 JPH0125626 Y2 JP H0125626Y2 JP 1544684 U JP1544684 U JP 1544684U JP 1544684 U JP1544684 U JP 1544684U JP H0125626 Y2 JPH0125626 Y2 JP H0125626Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- liquid
- grid
- spray nozzle
- main body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は湿式脱硫装置等に用いる気液接触装
置に関するものである。
置に関するものである。
従来、この種の装置は一般にほぼ第1図に示す
ように形成されている。
ように形成されている。
同図においてaは本体であり、その下部にガス
入口bが形成され、その上部にガス出口cが形成
されている。dは液溜タンクであり、eはこのタ
ンクdと連通して設けられている吸収液の供給
管、fはノズル、gはポンプである。又hは丸棒
iを多数並設して形成した格子であり、jはミス
トエリミネータを示す。
入口bが形成され、その上部にガス出口cが形成
されている。dは液溜タンクであり、eはこのタ
ンクdと連通して設けられている吸収液の供給
管、fはノズル、gはポンプである。又hは丸棒
iを多数並設して形成した格子であり、jはミス
トエリミネータを示す。
ガスは入口bから、矢印Abに示すように流入
させられ、前記格子hの、丸棒i間を通過し上昇
する。その際有害ガスを吸収する吸収液は前記ス
プレーノズルfから下方に向け散布され、吸収液
は丸棒i間等において気液接触を行い有害ガスの
吸収を行う。この装置は広く用いられている。処
がこの装置は次のような問題点を有している。
させられ、前記格子hの、丸棒i間を通過し上昇
する。その際有害ガスを吸収する吸収液は前記ス
プレーノズルfから下方に向け散布され、吸収液
は丸棒i間等において気液接触を行い有害ガスの
吸収を行う。この装置は広く用いられている。処
がこの装置は次のような問題点を有している。
それは、吸収液が、ガスとの反応生成物の溶解
度が低い場合、丸棒iの下部に、第2図に示すよ
うにスケールkが生じ、それは次第に生長して目
詰りを起す。
度が低い場合、丸棒iの下部に、第2図に示すよ
うにスケールkが生じ、それは次第に生長して目
詰りを起す。
これは丸棒iの上から吸収液がかけられるため
丸棒iの下面にしずくとなつて液が溜り、次第に
大きくなるためである。このため、この丸棒iの
下面に溜つた液とガスが反応し、生成物が折出し
易くなり、スケールkとなるのである。
丸棒iの下面にしずくとなつて液が溜り、次第に
大きくなるためである。このため、この丸棒iの
下面に溜つた液とガスが反応し、生成物が折出し
易くなり、スケールkとなるのである。
この考案はこのような問題を解決するためにな
されたもので、この考案を図面について述べる
と、第3図において、本体1にガス入口2を設
け、又頂部にガスの出口3を形成し、かつ内部
に、上向きのスプレーノズル4を有する供給管5
と、丸棒6を並設して形成した格子7とを設けた
ことを特徴とする気液接触装置である。
されたもので、この考案を図面について述べる
と、第3図において、本体1にガス入口2を設
け、又頂部にガスの出口3を形成し、かつ内部
に、上向きのスプレーノズル4を有する供給管5
と、丸棒6を並設して形成した格子7とを設けた
ことを特徴とする気液接触装置である。
なお図中9はミストエリミネータ、10は液溜
めタンク、11は吸収液、12は連通管、13は
ポンプを示す。又図に示すように、前記スプレー
ノズル4を有する供給管5と格子7は一段のみな
らず、任意の段数で設けてよい。
めタンク、11は吸収液、12は連通管、13は
ポンプを示す。又図に示すように、前記スプレー
ノズル4を有する供給管5と格子7は一段のみな
らず、任意の段数で設けてよい。
又、図示のように、格子7の下から上向きに吸
収液11を噴出させるのみでなく、最上段に上向
きのスプレーノズル4を有する供給管5を設け、
吸収液11を上向きに噴出させ、有害ガスの吸収
をはかつている。
収液11を噴出させるのみでなく、最上段に上向
きのスプレーノズル4を有する供給管5を設け、
吸収液11を上向きに噴出させ、有害ガスの吸収
をはかつている。
吸収液11はスプレーノズル4から上向きに噴
出させられ、丸棒6の下面を洗浄する。又それか
ら下方に落下し、ガスを吸収しつつ落下し、各格
子7の、丸棒6間でもガス吸収を行う。こうして
吸収液11は循環させられる。
出させられ、丸棒6の下面を洗浄する。又それか
ら下方に落下し、ガスを吸収しつつ落下し、各格
子7の、丸棒6間でもガス吸収を行う。こうして
吸収液11は循環させられる。
この考案は前記のように構成されたことによ
り、次のような作用効果を奏する。
り、次のような作用効果を奏する。
即ち、スプレーノズル4が上向きに設けられて
あるため、スプレー液滴は初め上向きに上昇し次
に落下に転じる。従つて前記従来例に示すスプレ
ーノズルfのように初めから下向きに落下する液
滴に較べ、液滴の、本体内での滞溜時間が長くな
り、気液接触時間が長くなる。このため有害ガス
の吸収率を向上させることができる。又、丸棒6
から成る格子7の下面から液滴が衝突するため、
丸棒6下面における液の滞溜が防止され、スケー
ルの析出を防止することができる。又、前記供給
管5と格子7との間隔を前記従来例に示すものよ
り近くすることができるので、作業員が格子7の
上に乗り、スプレーノズル4の点検をすることが
できる。これについては、前記従来例に示すもの
は本体a内に特殊な足場を形成しなければならな
かつたものであり、それを省略することができ
る。
あるため、スプレー液滴は初め上向きに上昇し次
に落下に転じる。従つて前記従来例に示すスプレ
ーノズルfのように初めから下向きに落下する液
滴に較べ、液滴の、本体内での滞溜時間が長くな
り、気液接触時間が長くなる。このため有害ガス
の吸収率を向上させることができる。又、丸棒6
から成る格子7の下面から液滴が衝突するため、
丸棒6下面における液の滞溜が防止され、スケー
ルの析出を防止することができる。又、前記供給
管5と格子7との間隔を前記従来例に示すものよ
り近くすることができるので、作業員が格子7の
上に乗り、スプレーノズル4の点検をすることが
できる。これについては、前記従来例に示すもの
は本体a内に特殊な足場を形成しなければならな
かつたものであり、それを省略することができ
る。
第1図は従来の気液接触装置の概略断面図、第
2図は同じくその装置の部分の作用を説明する
図、第3図はこの考案の実施例を示し、気液接触
装置の概略断面図、第4図は同じくその装置の部
分の作用を説明する図である。 1……本体、2……ガス入口、3……出口、4
……スプレーノズル、5……供給管、6……丸
棒、7……格子。
2図は同じくその装置の部分の作用を説明する
図、第3図はこの考案の実施例を示し、気液接触
装置の概略断面図、第4図は同じくその装置の部
分の作用を説明する図である。 1……本体、2……ガス入口、3……出口、4
……スプレーノズル、5……供給管、6……丸
棒、7……格子。
Claims (1)
- 本体にガス入口を設け、又頂部にガスの出口を
形成し、かつ内部に、上向きのスプレーノズルを
有する供給管と、丸棒を並設して形成した格子と
を設けたことを特徴とする気液接触装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1544684U JPS60128721U (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1544684U JPS60128721U (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 気液接触装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60128721U JPS60128721U (ja) | 1985-08-29 |
JPH0125626Y2 true JPH0125626Y2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=30501297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1544684U Granted JPS60128721U (ja) | 1984-02-08 | 1984-02-08 | 気液接触装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60128721U (ja) |
-
1984
- 1984-02-08 JP JP1544684U patent/JPS60128721U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60128721U (ja) | 1985-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4039307A (en) | Countercurrent flow horizontal spray absorber | |
US3907526A (en) | High velocity spray scrubber | |
DE69828815T2 (de) | Gas-flüssigkeit-kontaktapparat mit einer flüssigkeits-wiederverteilungsvorrichtung | |
US4164399A (en) | Wet scrubbing device | |
JP3035624B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び装置 | |
CN103706237B (zh) | 烟气脱硫系统 | |
DE2649180C2 (de) | Wirbelstromkolonne zum Reinigen von Gasen | |
CA2204876A1 (en) | Flue gas scrubbing apparatus | |
US4968335A (en) | Gas absorption tower | |
CN109069978A (zh) | 从气体流中去除亚微米颗粒 | |
CN106422633A (zh) | 一种脱硫塔喷淋冷凝放大除尘除雾一体化装置 | |
CN108246028A (zh) | 一种氨法脱硫超净排放装置及工艺 | |
CN206121501U (zh) | 含有分布式双层多孔性分布器的脱硫吸收塔 | |
JPH0125626Y2 (ja) | ||
CN209406036U (zh) | 有机废气净化喷淋塔 | |
US2856171A (en) | Benzol scrubbing apparatus | |
JP3870375B2 (ja) | 空気浄化装置 | |
JP2004237258A (ja) | 湿式排煙脱硫装置 | |
US4392875A (en) | Smog eliminator | |
JP3289342B2 (ja) | スクラバー式除塵装置 | |
IE43264B1 (en) | Gas scrubbing apparatus | |
DE10118961B4 (de) | Wäscher und Verfahren zum Reinigen von Gasen | |
CN208553516U (zh) | 低阻力的尿素造粒塔粉尘回收装置 | |
DE2450719A1 (de) | Verfahren zur reinigung von gasen und waschturm zur durchfuehrung des verfahrens | |
US3751882A (en) | Gas scrubber with moisture eliminator |