JP3035624B2 - 排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents

排ガスの処理方法及び装置

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、粉塵及び化学汚染物を含有する排ガスの処
理方法及び装置に関するものである。
〔従来の技術及びその問題点〕
従来、湿式排煙脱硫法においては、亜硫酸ガスの吸収
脱硫段階より以前に排ガスを冷却することが不可欠であ
り、従来の脱硫装置では、亜硫酸ガスの吸収反応させる
脱硫装置本体とは別に、冷却流循環ポンプを有する除塵
塔を設け、ここで排ガスの冷却と除塵を行っている。そ
の結果、装置全体が大型化し、かつ設備、用役等の費用
もこれに付随して増大する等の欠点があった。
そこで、本発明者らは、先に、除塵塔を省略するため
に、亜硫酸ガスを吸収反応させる脱硫装置本体内におい
て高温排ガスに冷却液微粒子と吸収液微粒子を接触させ
て排ガス中の汚染物をそれら液体微粒子に捕捉させると
ともに、排ガスの増湿冷却を行わせ、その後、冷却され
た排ガスをガス分散管を介して吸収液中に導入し、ここ
で排ガス中の亜硫酸ガスを吸収除去し、清浄化された排
ガスを得る方法を提案した(特開昭64−18427号公
報)。
しかし、この方法は、吸収液中に導入する排ガスが、
冷却液微粒子と吸収液微粒子を含み、しかも、これらの
微粒子は排ガス中の粉塵、HCl、HF、Al等の汚染物を含
有するため、級数液の希釈化が起るとともに、それらの
汚染物の混入により、脱硫副生物、例えば石コウの品質
が低下するという問題や、さらには、冷却液微粒子の混
入による吸収液の希釈化や吸収液中への汚染物の混入が
原因となって、装置の脱硫性能そのものにも悪影響が生
じる等の問題点を包含し、未だ満足し得るものではなか
った。
〔発明の課題〕
本発明は、前記した如き従来技術に見られる問題を解
決し、排ガスの冷却と排ガス中に含まれる粉塵及び化学
汚染物の除去を1つの装置で達成することができ、かつ
吸収液中への排ガス中の粉塵の混入や、排ガスの冷却に
用いた冷却液の混入の著しく減少された排ガスの処理方
法及び装置を提供することをその課題とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ね
た結果、排ガスに冷却液を微粒子状に噴霧させて排ガス
を冷却させるとともに、排ガス中の粉塵を冷却微粒子に
捕捉させ、そしてこの粉塵を捕捉した冷却液微粒子を含
む排ガスの流れを水平流から上昇流に変換させるととも
に、上昇する排ガスから粉塵を捕捉した冷却液微粒子を
その重力により落下させて分離し、この冷却液微粒子の
分離された排ガスを吸収液と接触させて、排ガス中の化
学汚染物を吸収液中に吸収させて排ガスから分離するこ
とによって、前記課題を解決し得ることを見出し、本発
明を完成するに至った。
即ち、本発明によれば、排ガス中に冷却液を微粒子状
に噴霧する工程、該排ガスを上昇流に変換させるととも
に該上昇する排ガスから排ガス中の粉塵を捕捉した冷却
液微粒子をその重力により落下させ、排ガスから分離す
る工程、該排ガスから分離された該冷却液微粒子を捕集
し、系外へ排出する工程、該冷却液微粒子の分離された
排ガスを吸収液と接触させ、排ガス中の化学汚染物を吸
収液中に吸収させて排ガスから分離する工程からなり、
前記各工程を1つの装置で行うことを特徴とする粉塵及
び化学汚染物を含有する排ガスの処理方法が提供され
る。
また、本発明によれば、排ガス中の冷却液を微粒子状
に噴出させる冷却液噴霧器と、内部空間に垂直管を、底
部に排ガスから分離された排ガス中の粉塵を捕捉した冷
却液微粒子を捕集する冷却液捕集板を有する排ガス除塵
室と、該排ガス除塵室の垂直管から排出される排ガスを
吸収液と接触させ、排ガス中の化学汚染物を吸収液中に
吸収させて排ガスから分離する排ガス化学処理室と、該
排ガス除塵室で冷却液捕集板に捕集された粉塵を捕捉し
た冷却液を排ガス除塵室の外部へ排出する排出管を1つ
の装置に備えたことを特徴とする粉塵及び化学汚染物を
含有する排ガスの処理装置が提供される。
次に、本発明を図面により説明する。第1図は本発明
の装置の1つの実施例についての縦断面概要図を示す。
第1図に示した本発明の装置本体は、その全体が密閉
容器構造に形成され、冷却液捕集板105の上方に形成さ
れた排ガス除塵室Aと、下方に形成された排ガス化学処
理室Bとからなっている。排ガス除塵室Aと排ガス化学
処理室Bとの間には、垂直管109が上下に貫通する冷却
液捕集板105が水平に配設されている。垂直管の水平断
面形状は、円形、半円形、正方形、長方形等の各種の形
状であることができる。排ガス除塵室Aの側壁には、ガ
ス導入口が配設され、このガス導入口には排ガス導入管
112が連結される。ガス導入口の開口最上端は、垂直管1
09の上端より下方に位置し、一方、ガス導入口の開口最
下端は冷却液捕集板105より上方に位置する。冷却液捕
集板105上には、冷却液排出管110を開口させる。排ガス
導入管112は、容器側壁に対して接線方向になるように
配設することもできる。このように配設した排ガス導入
管では、排ガスが回転しながら除塵室内を上昇するの
で、冷却液微粒子と排ガスとの接触時間が長くなり、高
められた排ガス除塵効果及び冷却効果が得られる。
排ガス除塵室Aと、排ガス化学処理室Bとは、冷却液
捕集板105に貫通させた垂直管109を介して連絡してい
る。冷却液捕集板105より上方の垂直管部分は排ガス化
学処理室Bへのガス排出管として作用し、それより下方
の垂直管部分108は吸収液中へのガス分散管として作用
する。垂直管109の下端は底板102から間隔を置いた上方
に位置する。また、この垂直管119の下端部には、下端
から一定の距離(約5〜50cm)の位置の周面に排ガス吹
出し用透孔を多数穿設し、排ガスをその下端部周面から
水平方向に噴出させる構造のものにするのが好ましい。
128の垂直管を支持するための格子型サポートを示す。
排ガス導入管112の内部又は排ガス除塵室内の冷却液
捕集板105の上方あるいはその両方に冷却液噴霧器113を
配設する。冷却液噴霧器113を冷却液を微粒子として噴
霧できればいかなるものであってもよく、例えば、旋回
型のスプレー、ジェット型のスプレー又は二流体ノズル
等を挙げることができる。
冷却液捕集板105上に開口する冷却液排出管110は貯液
タンク115に連結し、この貯液タンク115は循環ポンプ及
び配管117を介して冷却液噴霧器113を連結する。また、
配管117には配管118が連結し、これは粉塵分離器119に
連結する。配管120は排液管である。
排ガス化学処理室Bの側壁には、吸収剤供給用の配管
126及び吸収液排出用の配管127が配設されている。
排ガス化学処理室Bには、吸収液Lが充填される。吸
収液は、排ガスの種類に対応して適当に選定され、従来
公知の各種のものが用いられる。このようなものとして
は、例えば、排ガス中の汚染物がSO2、SO3、NO、N2N3
NO2、N2O4、N2O5、HCl、HF等の酸性物質である場合、ア
ルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等のアルカ
リ性物質を含む溶液やスラリーが用いられ、特に水酸化
カルシウムスラリーや、炭酸カルシウムスラリーが用い
られる。また、吸収液として炭酸カルシウムスラリーや
水酸化カルシウムスラリーを用いる場合、これらのカル
シウム化合物は亜硫酸ガスと反応して亜硫酸カルシウム
を形成するが、この場合、吸収液中に空気や酸素を導入
することにより、亜硫酸カルシウムを硫酸カルシウム
(石コウ)に変換することができる。また、排ガス中の
汚染物がアンモニア等のアルカリ性物質である場合に
は、酸性水溶液を吸収液として用いればよい。冷却液と
しては、通常の水や、アルカリ性又は酸性水溶液が排ガ
スの種類に応じて適当に用いられる。
第1図に示された装置を用いて粉塵及び化学汚染物を
含む排ガスの処理を行うには、例えば、排煙等の高温排
ガスをガス導入管112を介して排ガス除塵室Aに導入す
る。ガス導入管112内及び又は除塵室A内には冷却液噴
霧器113から冷却液が噴霧され、高温排ガスは、この微
粒子状の冷却液と接触し、これによって冷却及び増湿さ
れる。また、同時に、排ガス中の粉塵の大部分は、この
冷却液微粒子に捕捉される。この冷却液微粒子を含む排
ガスは、垂直管109に接触するとともにその流れを上昇
流に変える。一方、排ガス中の冷却液微粒子は、排ガス
の上昇流れ方向とは逆に、除塵室Aの空間を下方に落下
し、冷却液捕集板105上に捕集され、ここに滞溜して滞
溜液125を形成する。高温排ガスに含まれる粉塵の一部
は、除塵室A内におけるガスの上昇流速が、通常、1〜
5m/secと小さいため、重力により冷却液微粒子と共に落
下し、滞溜液125に捕捉される。高温排ガス中の微粒子
状の粉塵は、一般には、排ガスに同伴され、排ガスから
分離するのは通常困難であるが、本発明の場合は、冷却
液噴霧により形成された冷却液微粒子と接触して、液滴
に捕捉され、粗大化されるため、その重力により排ガス
中を容易に落下し、滞溜液125のなかに取り込まれる。
除塵室Aでは水平方向のガス流速も通常、1〜5m/secと
小さいので、冷却液微粒子の再飛散はほとんどなく、冷
却液微粒子は排ガスから効率良く分離される。冷却液噴
霧器から噴霧して形成する冷却液微粒子の平均粒径は、
排ガスとの接触効率及び排ガスからの分離効率を考え
て、400〜4000μmの範囲に規定するのがよい。
前記のようにして冷却され、除塵され、さらに冷却液
微粒子の除去された排ガス129は、垂直管109の上部開口
部に至り、垂直管109を下方に流通し、化学処理室Bの
吸収液L中に吹込まれ、吸収液と接触する。吸収液と排
ガス中の化学汚染物との反応により化学汚染物が除去さ
れ、化学汚染物の除去された清浄化排ガスは、吸収液の
表面から放散し、排ガス排出管106を通って系外に排出
される。吸収液Lに導入される排ガスは、それ以前に十
分に冷却され、かつ除塵されたもので、しかもその冷却
に際して接触させた冷却液微粒子も除去されていること
から、排ガスの吸収液による処理はその排ガスによって
は悪影響を何ら受けない。
冷却液捕集板105上の滞溜液125は、冷却液排出管110
を通って貯液タンク115に導入され、ここから循環ポン
プ116及び配管117を通って冷却液噴霧器113に循環され
る。また、その冷却液の一部は配管118を通って抜出さ
れ、粉塵分離器119に送られ、ここで冷却液中の粉塵が
除去される。粉塵分離器119からは、粉塵の除去された
排液が配管120を通って排出され、また粉塵121が除去さ
れる。貯液タンク115には、配管120を通って抜出される
排液量及び蒸発により減少した冷却液量に応じて、新し
い冷却液が補給される。
本発明において、高温排ガスを冷却液微粒子と接触さ
せる場合、種々の変更を行なうことができる。例えば、
冷却液は、必ずしも排ガス導入管112内と除塵室A内の
両方に噴霧させる必要はなく、そのいずれか一方のみに
噴霧させることができる。また、排ガスの冷却の大部分
を排ガス導入管112内で行なうことによって、除塵室A
内で用いる冷却液噴霧器の設置数を減らすこともでき
る。しかもこの場合には、排ガスの温度低下により、垂
直管109をプラスチックで構成することもできる。さら
に、本発明においては、除塵室A内における冷却液微粒
子の排ガスからの落下分離を促進させるために、金網や
多孔板等をその上部空間に水平配置することもできる。
除塵室Aにおける冷却液の噴霧は、単に排ガスの冷却
のみでなく、排ガス中から分離された粉塵を含む粘稠な
液が垂直管109に付着して生じた固形分を洗浄するため
にも用いられる。冷却液微粒子が、この垂直管109の表
面に万遍なくかかることによって、垂直管109は、清浄
に保たれる。特に、垂直管の上部開口を洗浄し、固形分
の付着を防止するには、冷却液噴霧器のスプレーノズル
を垂直管より上部へ配置し、例えば、100mmだけ垂直管
の開口部より離しておくのが有利である。
排ガスを冷却するための全冷却液噴霧量は、供給され
る高温排ガス量、排ガス温度、冷却液温度等との関係に
おいて適宜選択することができるが、噴霧液量/高温排
ガス量の比は、重量基準で約0.5〜5の範囲が適当であ
る。また、高温排ガス中の粉塵と冷却液微粒子とを緊密
に接触させ、粉塵を十分捕捉するとともに、ガスを十分
冷却するためには、垂直管109の上部開口は、排ガス導
入口の開口最上端より250mm以上及び1500mm以下の上方
に位置させるのが好ましい。また垂直管109の上部開口
は、上方開口ばかりでなく、その周面に開口部を設けた
側方開口とすることもでき、その側方開口部の形状は、
円形、三角形、四角形などいかなる形状にもすることが
できる。さらに、垂直管109の上部開口の位置は、容器
の天板103から下方に300mm以上、3000mm以下の間隔を置
いて位置させるのがよい。
また、第1図に示した排ガス処理装置において、排ガ
スの冷却効率及び排ガス中からの冷却液微粒子の分離効
率を高度に維持するとともに、装置全体をコンパクト化
するためには、冷却液捕集板105を貫通する垂直管109の
横断面積の合計Pと、垂直管貫通部の開口面積を除いた
冷却液捕集板105の面積Qとの比P/Qは、1/20〜1/1の範
囲に規定するのがよい。この面積比P/Qが前記範囲より
大きくなると、除塵室Aにおける排ガスの上昇速度が過
大となり、排ガスからの冷却液微粒子の分離効率が悪化
し、相当量の冷却液微粒子が排ガスに同伴し、吸収液L
中に混入するようになる。一方、面積比P/Qが前記範囲
より小さくなると、垂直管109を下降するガス流速が過
大となり、ガス圧力の損失が増大するようになる。垂直
管109の直径は、通常、5〜50cm程度である。
第2図に本発明の装置の他の実施例についての縦断面
概要図を示す。装置本体は、全体的には第1図に示した
装置と同様の構造に構成されたものであるが、この場合
には、排ガス導入管112が長く形成され、ここで排ガス
中の冷却と除塵の大部分が行われる。このような装置
は、特公昭60−4726号公報に記載された排煙脱硫法の実
施装置として有利に適用される。また、第2図におい
て、第1図に示した符号と同一の各符号は同一の意味を
有する。
第3図は、垂直管109を冷却液補集板105に取付ける際
の説明図を示す。第3図において、垂直管109の表面に
はネジ山131が設けてあり、垂直管109は冷却液捕集板10
5の開口に、ワッシャー133及びネジ山付ディスク132を
介して支持されている。この例では、垂直管の109の上
下方向の移動が自由なので、垂直管の冷却液捕集板上の
高さや吸収液への垂直管の浸液深さの調節を行うことが
可能である。従って、冷却除塵の程度を加減したり、化
学汚染物の除去率を任意に設定したりすることが可能と
なる。
〔発明の効果〕
本発明の方法によれば、1つの装置において、排ガス
の冷却、粉塵及び吸収反応(例えば、脱硫反応)の三者
を同時にかつ効率よく実施することができる。また、本
発明の装置は、排ガスの冷却、除塵及び吸収反応の三者
を同時に実施し得る機能を有するので、脱硫装置本体か
ら独立した除塵塔を備えた従来一般の脱硫装置と比較
し、著しく小型化されたものである。
本発明の装置においては、排ガス導入口の開口最上端
の上方にその上部開口が位置する垂直管109が設けられ
ているので、排ガス中の粉塵を捕捉した冷却液微粒子
は、排ガスが垂直管109のその上部開口に至るまでの間
に重力により落下し、排ガスから分離される。これによ
って排ガスからの冷却液微粒子と粉塵の除去が同時に達
成される。また、本発明装置では、排ガス導入管112を
通って導入された排ガスは垂直管109の表面と衝突する
ように構成されているので、排ガス中に含まれる冷却液
微粒子及び粉塵の分離は、この衝突によって促進され
る。本発明では、除塵室Aから化学処理室Bに入る排ガ
スに含まれる冷却液微粒子の割合は、通常、2重量%以
下という非常に低いものである。
また、本発明装置は、除塵室A内において、冷却液捕
集板105上に滞溜液125が形成されるように構成されてい
るので、滞溜液と衝突した排ガス中の粉塵はこの滞溜液
に取込まれて、排ガスからの粉塵が促進される。
さらに、本発明の装置においては、吸収液中に導入分
散される排ガスは、冷却液微粒子及び粉塵を実質上含有
しないので、吸収液が冷却液微粒子によって希釈される
ことがない上、吸収液が粉塵によって汚染されることも
ない。さらに、排ガス中に粉塵とともに含まれるHCl、H
F、Al等の不純物も冷却液微粒子との接触により除去さ
れる。従って、本発明においては、吸収液と化学汚染物
との反応により得られる反応生物、例えば石コウの純度
が高くなり、その製品価値が高められるという利点があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の実施例の1つについての縦断面
概要図を示す。 第2図は本発明の装置の他の実施例についての縦断面概
略図を示す。 第3図は垂直管を冷却液捕集板に取付ける際の説明図で
ある。 101……容器、105……冷却液捕集板、106……排ガス排
出管、109……垂直管、110……冷却液排出管、112……
排ガス導入管、113……冷却液噴霧器、125……滞溜液、
131……ネジ山、132……ネジ山ディスク、133……ワッ
シャー、G……排ガス、L……吸収液。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−196718(JP,A) 特開 昭50−21375(JP,A) 実開 昭58−43925(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/50,53/77,53/34 B01D 47/06

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】排ガス中に冷却液を微粒子状に噴霧する工
    程、該排ガスを上昇流に変換させるとともに該上昇する
    排ガスから排ガス中の粉塵を捕捉した冷却液微粒子をそ
    の重力により落下させ、排ガスから分離する工程、該排
    ガスから分離された該冷却液微粒子を捕集し、系外へ排
    出する工程、該冷却液微粒子の分離された排ガスを吸収
    液と接触させ、排ガス中の化学汚染物を吸収液中に吸収
    させて排ガスから分離する工程からなり、前記各工程を
    1つの装置で行うことを特徴とする粉塵及び化学汚染物
    を含有する排ガスの処理方法。
  2. 【請求項2】該排ガスが硫黄酸化物を含み、吸収液が脱
    硫液である請求項1の方法。
  3. 【請求項3】排ガス中に冷却液を微粒子状に噴出させる
    冷却液噴霧器と、内部空間に垂直管を、底部に排ガスか
    ら分離された排ガス中の粉塵を捕捉した冷却液微粒子を
    捕集する冷却液捕集板を有する排ガス除塵室と、該排ガ
    ス除塵室の垂直管から排出される排ガスを吸収液と接触
    させ、排ガス中の化学汚染物を吸収液中に吸収させて排
    ガスから分離する排ガス化学処理室と、該排ガス除塵室
    で冷却液捕集板に捕集された粉塵を捕捉した冷却液を排
    ガス除塵室の外部へ排出する排出管を1つの装置に備え
    たことを特徴とする粉塵及び化学汚染物を含有する排ガ
    スの処理装置。
  4. 【請求項4】該冷却液噴霧器が、該排ガス除塵室のガス
    導入口に連結する排ガス導入管内及び!又は排ガス除塵
    室内に配設されている請求項3の装置。
  5. 【請求項5】該排ガス除塵室が、該排ガス化学処理室の
    上方に設置され、該排ガス除塵室と該排ガス化学処理室
    とが冷却液捕集板を貫通する垂直管を介して連絡してい
    る請求項3又は4の装置。
  6. 【請求項6】側壁にガス導入口を有する排ガス除塵室と
    一該排ガス除塵室の下方に配設された側壁にガス排出口
    を有する排ガス化学処理室と、該両室の間に水平に配設
    された冷却液捕集板と、該冷却液捕集板を上下に貫通
    し、上端が天板より間隔を置いた下方でかつ該ガス導入
    口の開口最上端より上方に位置し、下端が底板より間隔
    を置いた上方でかつ該ガス排出口の開口最下端より下方
    に位置する垂直管と、該ガス導入口に連結する排ガス導
    入管と、該排ガス排出口に連結する清浄化排ガス排出管
    と、該排ガス導入管内及び!又は該冷却液捕集板の上方
    に配設された冷却液噴霧器と、該冷却液捕集板に開口す
    る冷却液排出管を1つの装置に備えていることを特徴と
    する粉塵及び化学汚染物を含有する排ガス処理装置。
JP02115607A 1989-05-02 1990-05-01 排ガスの処理方法及び装置 Expired - Lifetime JP3035624B2 (ja)

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