JPH0125405Y2 - - Google Patents
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- JPH0125405Y2 JPH0125405Y2 JP1980115829U JP11582980U JPH0125405Y2 JP H0125405 Y2 JPH0125405 Y2 JP H0125405Y2 JP 1980115829 U JP1980115829 U JP 1980115829U JP 11582980 U JP11582980 U JP 11582980U JP H0125405 Y2 JPH0125405 Y2 JP H0125405Y2
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- cathode
- insulating stone
- insulating
- tube
- stone
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- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は陰極線管電子銃に用いられる陰極構体
に関し、特に陰極と第1制御電極、又は複数の陰
極が同一平面に配列された場合の陰極相互の絶縁
性を良好にするための陰極構体の改良に関するも
のである。
に関し、特に陰極と第1制御電極、又は複数の陰
極が同一平面に配列された場合の陰極相互の絶縁
性を良好にするための陰極構体の改良に関するも
のである。
第1図は従来一般に用いられている陰極構体1
0を示す第1制御電極を含む部分断面図である。
アルミナ、ステアタイト等のセラミツクで形成さ
れ、円筒部11Cと開孔の穿設された底面を持つ
た絶縁石11の底面に外側陰極支持筒12がカシ
メ縁12A,12Bでカシメ固定される等の方法
で固着され、その下端部には頂部に熱電子放射物
質層が被着された帽状筒体の陰極筒13の下端部
が溶接固定されている。陰極筒13を支持した絶
縁石11は閉塞面に透孔が穿設された有底円筒状
の第1制御電極14の内側底面に円筒部11Cの
上端を突き当てて、その下面は固定子15で押圧
接して、固定子15を第1制御電極14の筒側面
に溶接して支持固定される。この際絶縁石11の
円筒部11Cから所定距離下がつた位置に陰極筒
13の頂部があるように外側陰極支持筒12に対
する陰極筒13の位置が決定される。
0を示す第1制御電極を含む部分断面図である。
アルミナ、ステアタイト等のセラミツクで形成さ
れ、円筒部11Cと開孔の穿設された底面を持つ
た絶縁石11の底面に外側陰極支持筒12がカシ
メ縁12A,12Bでカシメ固定される等の方法
で固着され、その下端部には頂部に熱電子放射物
質層が被着された帽状筒体の陰極筒13の下端部
が溶接固定されている。陰極筒13を支持した絶
縁石11は閉塞面に透孔が穿設された有底円筒状
の第1制御電極14の内側底面に円筒部11Cの
上端を突き当てて、その下面は固定子15で押圧
接して、固定子15を第1制御電極14の筒側面
に溶接して支持固定される。この際絶縁石11の
円筒部11Cから所定距離下がつた位置に陰極筒
13の頂部があるように外側陰極支持筒12に対
する陰極筒13の位置が決定される。
通常陰極筒13の電子放射面側の絶縁石11の
上面11Bには外側陰極支持筒12を取囲む溝1
1Aが穿設されている。これは陰極線管動作時に
陰極筒13に挿入された加熱線条の熱で陰極頂部
電子放射面より還元生成された金属Baが蒸発し、
この蒸発物が絶縁石11の上面11Bに付着して
も陰極筒13と第1制御電極14間の絶縁性が劣
化することのないように、陰極頂部から溝11A
を見込む角度内に死角を作るようになつている。
上面11Bには外側陰極支持筒12を取囲む溝1
1Aが穿設されている。これは陰極線管動作時に
陰極筒13に挿入された加熱線条の熱で陰極頂部
電子放射面より還元生成された金属Baが蒸発し、
この蒸発物が絶縁石11の上面11Bに付着して
も陰極筒13と第1制御電極14間の絶縁性が劣
化することのないように、陰極頂部から溝11A
を見込む角度内に死角を作るようになつている。
然しながら上述の溝11Aによつて陰極頂部か
らの蒸発物に対する死角を形成する方法では、陰
極筒13と第1制御電極14間の絶縁性を高める
ためには溝11Aの深さは深い程、その幅は狭い
程よいが、通常絶縁石11の厚みは1〜2mm程度
であり、深くすると絶縁石の機械的強度を損うこ
とになり、一方幅を狭くすると粉体を押圧加工し
て絶縁石11を形成する際の溝成形が困難とな
り、必要十分な死角が得られない。特に陰極線管
ネツクの細い電子銃に用いられる陰極構体では全
体の寸法が縮小され、絶縁石11に環状溝11A
を穿設する寸法余裕がなくなり、溝11Aを形成
する絶縁石11の押出し型の加工が非常に困難で
あり、更に絶縁石11の押圧加工時には溝成形が
困難となり、精度も出なく、且つ寸法上の制約等
から有効な死角が得られなくなる欠点があつた。
らの蒸発物に対する死角を形成する方法では、陰
極筒13と第1制御電極14間の絶縁性を高める
ためには溝11Aの深さは深い程、その幅は狭い
程よいが、通常絶縁石11の厚みは1〜2mm程度
であり、深くすると絶縁石の機械的強度を損うこ
とになり、一方幅を狭くすると粉体を押圧加工し
て絶縁石11を形成する際の溝成形が困難とな
り、必要十分な死角が得られない。特に陰極線管
ネツクの細い電子銃に用いられる陰極構体では全
体の寸法が縮小され、絶縁石11に環状溝11A
を穿設する寸法余裕がなくなり、溝11Aを形成
する絶縁石11の押出し型の加工が非常に困難で
あり、更に絶縁石11の押圧加工時には溝成形が
困難となり、精度も出なく、且つ寸法上の制約等
から有効な死角が得られなくなる欠点があつた。
本考案は上述の欠点を除去して頂部に熱電子放
射物質層を被着された1つ以上の帽状陰極筒の下
端部を夫々溶接固定する絶縁石に固着された1つ
以上の外側陰極支持筒を備え、帽状陰極筒頂部側
にあつて絶縁石の外周部の少くとも一部が第1制
御電極の裏面に突き当てられる陰極構体に於て、
陰極筒頂部側で外側陰極支持筒の固着部がある絶
縁石上面に、その固着部より高い段部を夫々設
け、この段部に中空円筒状で絶縁性の遮蔽円筒の
下端部を夫々突き当て固定した陰極線管陰極構体
を提供することを目的とする。
射物質層を被着された1つ以上の帽状陰極筒の下
端部を夫々溶接固定する絶縁石に固着された1つ
以上の外側陰極支持筒を備え、帽状陰極筒頂部側
にあつて絶縁石の外周部の少くとも一部が第1制
御電極の裏面に突き当てられる陰極構体に於て、
陰極筒頂部側で外側陰極支持筒の固着部がある絶
縁石上面に、その固着部より高い段部を夫々設
け、この段部に中空円筒状で絶縁性の遮蔽円筒の
下端部を夫々突き当て固定した陰極線管陰極構体
を提供することを目的とする。
以下、本考案の実施例を図面に従がつて詳細に
説明する。
説明する。
第2図は本考案の一実施例に基づく陰極構体2
0の第1制御電極を含む側断面図を示し、以下説
明の簡略化のため従来と同一のものには第1図と
同一の符号をつける。円筒部11Cと開孔の穿設
された底面を持つた絶縁石11には、陰極筒13
の頂面側に面した外側陰極支持筒12のカシメ部
12A側に、カシメ部12Aの形成される面11
Bより少くともそのカシメ部12Aの厚みより高
い段部11Dを形成する。一方、絶縁石11の円
筒部11Cの内径に嵌合する外径と、外側陰極支
持筒12の外径以下の内径をもつたアルミナ、ス
テアタイト等のセラミツクで形成された絶縁性の
遮蔽円筒21がその下端部を絶縁石の段部11D
に突き当て絶縁石の円筒部11Cに嵌合させて固
定される。遮蔽円筒21の高さは絶縁石の円筒部
11C上端から外側陰極支持筒12の上部固着部
がある上面11B迄の距離以下であればよい。こ
の場合絶縁石11の上面には従来の様に陰極筒1
3の頂部からの蒸発物降着による外側陰極支持筒
12と第1制御電極14間の絶縁性低下防止の環
状溝は特に必要ない。
0の第1制御電極を含む側断面図を示し、以下説
明の簡略化のため従来と同一のものには第1図と
同一の符号をつける。円筒部11Cと開孔の穿設
された底面を持つた絶縁石11には、陰極筒13
の頂面側に面した外側陰極支持筒12のカシメ部
12A側に、カシメ部12Aの形成される面11
Bより少くともそのカシメ部12Aの厚みより高
い段部11Dを形成する。一方、絶縁石11の円
筒部11Cの内径に嵌合する外径と、外側陰極支
持筒12の外径以下の内径をもつたアルミナ、ス
テアタイト等のセラミツクで形成された絶縁性の
遮蔽円筒21がその下端部を絶縁石の段部11D
に突き当て絶縁石の円筒部11Cに嵌合させて固
定される。遮蔽円筒21の高さは絶縁石の円筒部
11C上端から外側陰極支持筒12の上部固着部
がある上面11B迄の距離以下であればよい。こ
の場合絶縁石11の上面には従来の様に陰極筒1
3の頂部からの蒸発物降着による外側陰極支持筒
12と第1制御電極14間の絶縁性低下防止の環
状溝は特に必要ない。
遮蔽円筒21を固定後頂部に熱電子放射物質層
を被着された帽状陰極筒13が従来と同様に外側
陰極支持筒12の下端部で溶接固定され、この陰
極筒13を支持した絶縁石11は第1制御電極1
4の閉塞面に円筒部11Cの上端を突き当て、次
にその下面は固定子15で押圧接し、固定子15
を第1制御電極14の筒側部に溶接して支持固定
される。
を被着された帽状陰極筒13が従来と同様に外側
陰極支持筒12の下端部で溶接固定され、この陰
極筒13を支持した絶縁石11は第1制御電極1
4の閉塞面に円筒部11Cの上端を突き当て、次
にその下面は固定子15で押圧接し、固定子15
を第1制御電極14の筒側部に溶接して支持固定
される。
本考案の実施例によれば、陰極筒13頂部より
の蒸発物降着による外側陰極支持筒12と第1制
御電極14間の絶縁性劣化防止用として従来行わ
れている絶縁石11の上面11Bに外側陰極支持
筒を取囲む様に形成された環状溝が特に形成され
ていなくても、絶縁石11の段部11Dと、円筒
部11Cに嵌合させた遮蔽円筒21の下端とで形
成される遮蔽部21Bにより、蒸発物降着に対し
て十分な死角が得られる。従がつて、従来の様に
環状溝で陰極頂部からの蒸発物降着の死角を形成
するのに対し、本考案では十分な死角を作つて遮
蔽出来るため、絶縁石11の強度と、その加工性
を犠性にしてその溝を深く、その幅を狭くする必
要がなくなる。或いは絶縁石11に必要十分な環
状溝を形成する寸法余裕が少ない、特に陰極構体
20が小型化された場合でも、本考案を適用すれ
ば環状溝が不要のため、絶縁石11の上面11B
の形状が一層単純となり、その成形型加工や、製
造が極めて容易となる。
の蒸発物降着による外側陰極支持筒12と第1制
御電極14間の絶縁性劣化防止用として従来行わ
れている絶縁石11の上面11Bに外側陰極支持
筒を取囲む様に形成された環状溝が特に形成され
ていなくても、絶縁石11の段部11Dと、円筒
部11Cに嵌合させた遮蔽円筒21の下端とで形
成される遮蔽部21Bにより、蒸発物降着に対し
て十分な死角が得られる。従がつて、従来の様に
環状溝で陰極頂部からの蒸発物降着の死角を形成
するのに対し、本考案では十分な死角を作つて遮
蔽出来るため、絶縁石11の強度と、その加工性
を犠性にしてその溝を深く、その幅を狭くする必
要がなくなる。或いは絶縁石11に必要十分な環
状溝を形成する寸法余裕が少ない、特に陰極構体
20が小型化された場合でも、本考案を適用すれ
ば環状溝が不要のため、絶縁石11の上面11B
の形状が一層単純となり、その成形型加工や、製
造が極めて容易となる。
又陰極線管動作時に陰極筒13の頂部から還元
生成された金属Baはその頂部からの見透し角度
内で直線的に絶縁石11上面11Bに垂直に降着
するものがあるが、これらに対しても本考案実施
例は十分な死角を形成出来て、特に絶縁石11の
段部11Dと、円筒部11Cに嵌合させた遮蔽円
筒21の下端とで形成される遮蔽部21Bは陰極
頂部に対して完全な死角に入つている。
生成された金属Baはその頂部からの見透し角度
内で直線的に絶縁石11上面11Bに垂直に降着
するものがあるが、これらに対しても本考案実施
例は十分な死角を形成出来て、特に絶縁石11の
段部11Dと、円筒部11Cに嵌合させた遮蔽円
筒21の下端とで形成される遮蔽部21Bは陰極
頂部に対して完全な死角に入つている。
或いは第3図の本考案の他の実施例に示す様
に、同一平面内に三つの陰極筒13がインライン
配列されて絶縁石31に固定されたインライン型
陰極構体30では、中央と両外側陰極支持筒12
の間には両側の陰極筒13から蒸発物が降着する
が、これに対して従来の外側陰極支持筒12の
夫々の周囲に形成する環状溝だけでは十分な死角
が得られなかつた。然るに本実施例では絶縁石3
1の陰極頂部側の夫々の外側陰極支持筒12のカ
シメ縁12Aがある面に段部31Dが形成されて
いて、これに三つの絶縁性の遮蔽円筒21が突き
当て固定されているため、絶縁石31の段部31
Dと遮蔽円筒21の下端とで夫々遮蔽部21Bが
形成されて、陰極構体30が収納される第1制御
電極(図示せず)と夫々の陰極間は勿論のこと、
隣接陰極相互間の絶縁性も劣化することが有効に
防止される。
に、同一平面内に三つの陰極筒13がインライン
配列されて絶縁石31に固定されたインライン型
陰極構体30では、中央と両外側陰極支持筒12
の間には両側の陰極筒13から蒸発物が降着する
が、これに対して従来の外側陰極支持筒12の
夫々の周囲に形成する環状溝だけでは十分な死角
が得られなかつた。然るに本実施例では絶縁石3
1の陰極頂部側の夫々の外側陰極支持筒12のカ
シメ縁12Aがある面に段部31Dが形成されて
いて、これに三つの絶縁性の遮蔽円筒21が突き
当て固定されているため、絶縁石31の段部31
Dと遮蔽円筒21の下端とで夫々遮蔽部21Bが
形成されて、陰極構体30が収納される第1制御
電極(図示せず)と夫々の陰極間は勿論のこと、
隣接陰極相互間の絶縁性も劣化することが有効に
防止される。
以上の説明では、絶縁石の上端部を第1制御電
極面に突き当てる陰極構体について説明したが、
本考案はこれに限定されることなく、例えば絶縁
石上面と第1制御電極面間に所定の間隔子を入れ
て固定する陰極構体に用いても上述の説明と全く
同様の効果が得られることは明らかである。或い
は説明では絶縁石の上面に環状溝が形成されてい
ない場合について述べたが、従来の様に環状溝と
本考案を併用してもよく、この場合外側陰極支持
筒の陰極頂面側にあるカシメ縁の周囲で、段部近
くに環状溝を形成すれば、環状溝は遮蔽円筒で覆
われ、陰極頂部よりの蒸発物降着に対し一層有効
な遮蔽効果が得られる。
極面に突き当てる陰極構体について説明したが、
本考案はこれに限定されることなく、例えば絶縁
石上面と第1制御電極面間に所定の間隔子を入れ
て固定する陰極構体に用いても上述の説明と全く
同様の効果が得られることは明らかである。或い
は説明では絶縁石の上面に環状溝が形成されてい
ない場合について述べたが、従来の様に環状溝と
本考案を併用してもよく、この場合外側陰極支持
筒の陰極頂面側にあるカシメ縁の周囲で、段部近
くに環状溝を形成すれば、環状溝は遮蔽円筒で覆
われ、陰極頂部よりの蒸発物降着に対し一層有効
な遮蔽効果が得られる。
又、外側陰極支持筒の絶縁石への固着法はカシ
メ固定について述べたが、これに限定されること
なく、例えば硝子材を用いた接着固定であつても
よいことはいうまでもない。
メ固定について述べたが、これに限定されること
なく、例えば硝子材を用いた接着固定であつても
よいことはいうまでもない。
第1図は従来用いられている陰極構体を示す第
1制御電極を含む部分断面図、第2図は本考案の
一実施例に基づく陰極構体を示す第1制御電極を
含む断面図、第3図は本考案の他の実施例に基づ
くインライン型陰極構体の断面図を夫々示す。 11,31……絶縁石、11A……環状溝、1
1C……絶縁石の円筒部、12……外側陰極支持
筒、13……帽状陰極筒、14……第1制御電
極、15……固定子、21……遮蔽円筒、11
D,31D……絶縁石の段部。
1制御電極を含む部分断面図、第2図は本考案の
一実施例に基づく陰極構体を示す第1制御電極を
含む断面図、第3図は本考案の他の実施例に基づ
くインライン型陰極構体の断面図を夫々示す。 11,31……絶縁石、11A……環状溝、1
1C……絶縁石の円筒部、12……外側陰極支持
筒、13……帽状陰極筒、14……第1制御電
極、15……固定子、21……遮蔽円筒、11
D,31D……絶縁石の段部。
Claims (1)
- 頂部に熱電子放射物質層を被着された1つ以上
の帽状陰極筒の下端部を夫々溶接固定する、絶縁
石に固着された1つ以上の外側陰極支持筒を備
え、帽状陰極筒頂部側にあつて絶縁石の外周部の
少くとも一部が第1制御電極の裏面に突き当てら
れる陰極構体に於て、前記陰極筒頂部側で外側陰
極支持筒の固着部がある絶縁石上面に、その固着
部より高い段部を夫々設け、この段部に中空円筒
状で絶縁性の遮蔽円筒の下端部を夫々突き当てて
固定したことを特徴とする陰極線管陰極構体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1980115829U JPH0125405Y2 (ja) | 1980-08-14 | 1980-08-14 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1980115829U JPH0125405Y2 (ja) | 1980-08-14 | 1980-08-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5738565U JPS5738565U (ja) | 1982-03-01 |
JPH0125405Y2 true JPH0125405Y2 (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=29476729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1980115829U Expired JPH0125405Y2 (ja) | 1980-08-14 | 1980-08-14 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0125405Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60124538U (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | 株式会社新潟鐵工所 | 内燃機関 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS553640U (ja) * | 1978-06-21 | 1980-01-11 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5814509Y2 (ja) * | 1977-09-29 | 1983-03-23 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 傍熱型陰極 |
-
1980
- 1980-08-14 JP JP1980115829U patent/JPH0125405Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS553640U (ja) * | 1978-06-21 | 1980-01-11 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5738565U (ja) | 1982-03-01 |
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