JPH01253439A - ゴム積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はゴム積層体に関する。さらに詳しくはクロロス
ルフォン化ポリエチレンとジエン系ゴムから成るゴム積
層体に閃するものである。本発明のゴム積層体はゴムラ
イニング、ゴムロール、ゴムライニング、ゴムマット、
ゴムケーブル、ゴム磁石等のゴム製品として使用される
。

（従来の技術） クロロスルフォン化ポリエチレンは、ジエン系ゴムに比
べて、耐油性、耐候性、耐熱老化性、耐オゾン性、難燃
性等の物理的性質の優れたゴムであるが、ジエン系ゴム
に比べて高価である。このために、安価で、且つクロロ
スルフォン化ポリエチレンの優れた物理的性質を供えた
ゴノ、製品を得るために、クロロスルフォン化ポリエチ
レンを外側の保護層とし、安価なジエン系ゴムを内層と
したゴム積層体のゴム製品が製造されている。またゴム
製品に特殊な物理的あるいは機械的性質を持たせるたる
ために、クロロスルフォン化ポリエチレンとジエン系ゴ
ムの多層から成るゴノ、積層体製品が製造されている。

しかしながら、クロロスルフォン化ポリエチレンの加硫
系は金属酸化物と加硫促進剤の系で加硫される。ジエン
系ゴムは一般に硫黄と加硫促進剤を配合して加硫される
。この加硫系の異なるクロロスルフォン化ポリエチレン
層とジエン系ゴム層の層間は加硫接着を示さず、ゴム製
品を加硫成形する際の熱により融着した状態程度で、層
間のノリ離強度は嵌めて弱い。

また、クロロスルフォン化ポリエチレンおよびジエン系
ゴムは有機過酸化物によっても加硫される。そこで、ク
ロロスルフォン化ポリエチレン層とジエン系ゴム層の両
者を過酸化物加硫することにより、層間を加硫接着する
試みも行われて来たが、加硫接着を示さす、層間は融着
した状態程度で、剥離強度は極めて弱い。

このため積層体の層間の！ｌＩ離によりゴム製品の物理
的あるいは機械的性質が劣り、ゴム積層体製品として満
足されるものは得られていない。斯かることから、クロ
ロスルフォン化ポリエチレン層とジエン系ゴム層が加硫
接着し、層間のｉＡＩ＋離強度の強いゴム積層体の出現
が強く望まれているのか現状である。

（発明が解決しようとする課題） 本発明名らは、上記問題点の解消と要望に答えるべく鋭
意研究の結果、本発明のゴム積層体を提供するものであ
る。

本発明は上述したごとく、従来から加硫接着を示さなか
ったクロロスルフォン（ヒポリエチレン組成物とジエン
系ゴム組成物の層間の加硫接着を可能ならしめ、層間の
、Ａｌｌノリ離強度いゴム積層体を提（、！ｔするもの
である。

（課題を解決するための手段） 本発明は、クロロスルフォン化ポリエチレンに金属化合
物、加硫促進剤およびポリアミン系化合物を配合した組
成物とジエン系ゴムに有機過酸化物およびポリアミン系
化合物を配合した組成物からなるゴム積層体にある。そ
して本発明のゴム積層体は加圧成形および加硫接着され
、ゴム積層体ゴム製品として市場に供給される。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明において使用されるクロロスルフォン化ポリエチ
レンとは、ポリエチレン、エチレン−ブテン−１共匝合
体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体等に塩素とクロロスルフォニル基を導入し
ゴム状にしたものであればよい。これら市販のグレード
としては、東ソー（株）製ＴＯ３Ｏ−Ｃ８ＭのＴＳ−５
３０、ＴＳ−４３０、ＴＳ−９３０、ＴＳ−７４０、Ｔ
Ｓ−３２０、ＴＳ−２２０、ＴＳ−３２０等がある。

本発明においてクロロスルフォン化ポリエチレンに配合
される金属化合物とはクロロスルフォン化ポリエチレン
の架橋剤および／または加硫時に遊離する脱塩酸捕捉剤
として作用するものであって、金属酸化物、ｑ機船化合
物、金属水酸化物類があ　リ、例えば酸化マグネシウム
、酸化カルシウム、酸化亜鉛、−酸化鉛、四三酸化鉛、
三塩基性マレイン酸鉛、二塩基性フタル酸鉛、三塩基性
硫酸　鉛、二塩基性亜燐酸鉛、二塩基性ステアリン酸　
鉛、ステアリン酸鉛、水酸化カルシウム等が挙げられる
。これらは単独もしくは混合して配合される。配合され
る瓜はクロロスルフォン化ポリエチレン１００重量部当
たり１〜３０重量部、好ましくは５〜２０重量部が配合
される。

本発明においてクロロスルフォン化ポリエチレンに配合
される加硫促進剤とは、クロロスルフォン化ポリエチレ
ンの加硫速度を速めるために配合されるものであって、
ジペンタメチレンチウラムテトラサルファイド、テトラ
メチルチウラムダイサルファイド、テトラエチルチウラ
ムダイサルファイド、テトラブチルチウラムダイサルフ
ァイド、ジベンゾチアジルダイサルファイド、ジオルソ
トリルグアニジン等があげられる。これらは単独もしく
は混合して配合される。そして配合される量はクロロス
ルフォン化ポリエチレン１００重二部当たり０．１〜］
Ｏ重量部、好ましくは０．５〜５重量部、更に好ましく
は１〜３重量部か配合される。

本発明で云うクロロスルフォン化ポリエチレンおよびジ
エン系ゴムに配合されるポリアミン系化合物とは、分子
（１１１−進中に、アミノ基、イミノ基およびニトリロ
基から選ばれる基を２個以上持つＨ機化合物であって、
例えばジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミ
ン、ジメチルアミノブロピルアミン、ジエチルアミノプ
ロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、トリメ
チルへキサメチレンジアミン、ビス−（ヘキサメチレン
）−トリアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、メンタ
ンジアミン、イソホロンジアミン、エチレンジアミン、
ｍ−フェニレンジアミン、ｐ、ｐ’　　−ジアミノジフ
ェニルメタン、ｐ、ｐ’　−ジアミノジフェニルスルフ
ォン、メタキシレンジアミン、１゜３−ビス（アミノメ
チル）シクロヘキサン、ジシアンジアミド、ヘキサエチ
レンジアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレ
ンジアミンカーバメート、エチレンジアミンカーバメイ
ト、Ｎ。

Ｎ′−ジシンナミリデンー１．６−ヘキサンジアミン、
４，４゛　−メチレン−ビス−（２−クロロアニリン）
、トリエチレンジアミン、ジフェニルグアニジン、ジオ
ルソトリルグアニジン、ヘキサメチレンテトラミン、ア
セトアルデヒドアンモニア、Ｎ、Ｎ”　−ジフェニルチ
オウレア、エチレンチオウレア、ジエチルチオウレア、
ジブチルチオウレア、トリメチルチオウレア、テトラメ
チルチオウレア、Ｎ、　　Ｎ’　　−ジフェニルエチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ’　　−ジフェニルプロピレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ’　　−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ゛−フェニル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ、　Ｎ’　−ジー２−ナフチル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−シクロへキシル−Ｎ。

−フェニル−ルーフユニレンジアミン、Ｎ、　Ｎ’−ビ
ス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ、Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フ
ェニレンジアミン、ヒンダードジアリル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、フェニルヘキシル−ｐ−フェニレンジアミ
ン等が挙げられる。

これらは単独もしくは混合して使用される。配合される
瓜は各々の使用ゴム１００重量部当たりポリアミン系化
合物０．０１〜１０重量部が配合される。好ましくは０
．１〜５玉量部が配合される。

更に好ましくは０．３〜２重量部が配合される。

０．０１重量部未満では配合されたポリアミン系化合物
の効果が小さく加硫接着しない。また１０重量部を越え
て配合するとゴム積層体の機械的強度が劣り好ましくな
い。

本発明においては、クロロスルフォン化ポリエチレンの
架橋効率を高めるために加硫助剤として一般に配合され
ているトリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、トリ
メチルプロパントリメタアクリレート、Ｎ、Ｎ’　　−
ｍ−フェニレンビスマレイミド等を配合しても差し支え
ない。

本発明におけるジエン系ゴムとは一般に硫黄と加硫促進
剤によって加硫される硫黄加硫可能なジエン系ゴムであ
って、これらには天然ゴムおよび共役二重結合をもつ単
量体を主体として造られた正合体および共重合体、例え
ばイソプレンゴム、スチレン−ブタジェンゴム、ブタジ
ェンゴム、イソブチレン−イソプレンゴム、アクリルニ
トリル−ブタジェンゴム、アクリレート−ブタジェンゴ
ム等がある。

本発明においてジエン系ゴムに配合される有機過酸化物
としては、ケトンパーオキサイド、ハイドロパーオキサ
イド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサ
イド、パーオキシエステル類等であって、例えばメチル
エチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサンパーオキ
サイド、ケトンパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジ−イ
ソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、Ｐ−メタ
ンハイドロパーオキサイド、２．５−ジ−メチルヘキサ
ン−２，５−シバイドロバ−オキサイド、ジ−ｔ−ブチ
ルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、
ジ−クミルパーオキサイド、２，５−ジーメチルージ（
ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、アセチルパーオキサ
イド、プロピオニルパーオキサイド、イソ−ブチルパー
オキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイル
パーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロ
イルパーオキサイド、３，３．５−トリーメチルヘキサ
ノイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｐ
−クロロベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジ−クロ
ロベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシア
セテート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−
ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシラ
ウレート等が挙げられる。これらはジエン系ゴムにｌｉ
独または混合して配合される。配合される有機過酸化物
の量は、ジエン系ゴム１００重量部当たり０．０１〜１
．０重量部、好ましくは０．５〜５重量部、更に好まし
くは１〜３重二部の範囲において使用される。有機過酸
化物０．０〕重ヱ部未満ては硫黄加硫可能なジエン系ゴ
ムと接着加硫しない。１０重量部を越えて配合した場合
、ジエン系ゴムの機械的性質か劣り好ましくない。

本発明における各々の組成物には、必要に応じてゴム用
配合剤、例えば加硫剤、加硫促進剤、老化防止剤、粘む
付与剤、可塑剤、軟化剤、補強剤、増量剤等が配合され
る。本発明のゴム積層体の製造法は特に制限されるもの
ではない。例えば練りロール機、インターナルミキサー
、双腕型ニーダ−等の混練機で混練配合され、次に加圧
成形機、例えばロール成形機、押出成形機、圧縮成形機
、射出成形機、カレンダーロール等で積層され、得られ
たゴム積層体は高温下の加硫機、例えば加硫缶、熱風循
環加硫機、圧縮成形加硫機、射出成形加硫機、流動床加
硫機等で成形および／または加硫接着される。

（実施例） 次に、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例のみに限定されるものではない。

実施例−１〜４および比較例−１〜３ 表−１に実施例および比較例に使用した配合を示す。表
中の実施例および比較例の配合Ａはクロロスルフォン化
ポリエチレンの配合であり、配合Ｂはジエン系ゴムの配
合である。配合Ａおよび配合Ｂを、（株）東洋精機製作
所製８インチロールを使用して混練り後、厚さ１■のシ
ートに分出し、縦１５ｃｍ、横１５ｃｍのシート　に裁
断した。裁断した配合Ａのシートと配合Ｂのシートを重
ね合せ、この配合Ａと配合Ｂから成る積層体をキャビィ
ティか縦１５ｃｍ、横１５ｃｍ、厚さ２止　の加硫用金
型に入れ、圧縮成形加硫機を使用して圧力５０Ｋｇ　／
　ｃ　ｍ　２　、温度１５（〕で３３０分間加硫接着を
行った。

次に、得られた積層体を巾１１ｎｃｈのタンザク状に裁
断し、ＪＩＳ　　Ｋ　　６３０１に従って、引張速度５
０ｃｍ／ｍｉｎ、　試験温度２３℃で１８０度ｉ１１離
試験を行った。実施例】−〜４および比較例１〜３の試
験結果表−１に示す。

表−１から分るように、実施例は比較例に比べて、剥離
強度が大きい値を示し、クロロスルフォン化ポリエチレ
ンとジエン系ゴムのゴム積層体の層間が加硫接着してい
ることが分る。

比較例−１は実施例−１の配合Ａおよび配合Ｂからポリ
アミン系化合物（ヘキサメチレンテトラミンおよびエチ
レンチオウレア）を除いたゴム積層体のＡｌｌ離強度で
あり、比較例−２は実施例−１の配合Ａを有機過酸化物
の加硫系とし、配合Ｂを硫黄加硫系としたゴム積層体の
剥離強度である。

比較例−３は実施例−４の配合Ａおよび配合Ｂからポリ
アミン系化合物（Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニレン
ジアミン）を除いたゴム積層体の剥離強度である。即ち
、実施例に示すように、クロロスルフォン化ポリエチレ
ンを金属酸化物の加硫系としてポリアミン系化合物を配
合し、ジエン系ゴムを有機過酸化物加硫系としてポリア
ミン系化合物を配合することにより、本発明の目的とす
る加硫接着の優れたゴム積層体が得られるのである。

（発明の効果） 以上の説明から明らかなように、本発明は、従来から加
硫接着を示さなかったクロロスルフォン化ポリエチレン
層とジエン系ゴム層の層間の加硫接るを可能ならしめた
ことにあり、層間の剥離強度の強いゴム積層体であるこ
とが分る。このことから、物理的あるいは機械的性質の
優れた安価で且つ寿命の長いゴム製品、あるいは特殊な
機能を有するゴム製品を市場に提供出来る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　クロロスルフォン化ポリエチレン１００重量部当た
   り金属化合物１〜３０重量部、加硫促進剤０．１〜１０
   重量部およびポリアミン系化合物０．１〜１０重量部を
   配合した組成物とジエン系ゴム１００重量部当たり有機
   過酸化物０．１〜１０重量部およびポリアミン系化合物
   ０．１〜１０重量部を配合した組成物から成るゴム積層
   体。