JPH01251615A - 紫外線光源の熱線をカットした有機物処理装置 - Google Patents
紫外線光源の熱線をカットした有機物処理装置Info
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- JPH01251615A JPH01251615A JP7617588A JP7617588A JPH01251615A JP H01251615 A JPH01251615 A JP H01251615A JP 7617588 A JP7617588 A JP 7617588A JP 7617588 A JP7617588 A JP 7617588A JP H01251615 A JPH01251615 A JP H01251615A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アッシャ等において、強力な紫外線を用い熱
線をカットして、低温処理を可能にする紫外線光源の熱
線をカットした有機物処理装置に関するものである。
線をカットして、低温処理を可能にする紫外線光源の熱
線をカットした有機物処理装置に関するものである。
基板上に被着した有機物を除去するために、上記基板表
面にオゾンを含む酸素ガスを流して紫外線を照射し、上
記オゾンを分解して有機物と反応させ、上記有機物を除
去する方法が行われている。
面にオゾンを含む酸素ガスを流して紫外線を照射し、上
記オゾンを分解して有機物と反応させ、上記有機物を除
去する方法が行われている。
上記有機物除去方法においては、高密度な紫外線照射が
要求され、さらに、低温処理を行うためには、紫外線光
源から発生する熱線を除去することが要望されていた。
要求され、さらに、低温処理を行うためには、紫外線光
源から発生する熱線を除去することが要望されていた。
一方、紫外線光源から発生する熱線を除去する方法とし
ては、照明学会照明普及会発行の照明教室徹６２、「光
放射の応用（ＩＩ）ノｐ、１２〜ｐ、１４に、二重管を
用いた赤外放射カットについて述べられている。上記二
重管水冷方式は紫外線光源を取巻く外側を蔽うように、
石英ガラス製の二重管を設け、上記二重管内に純水を流
すようにしたものである。
ては、照明学会照明普及会発行の照明教室徹６２、「光
放射の応用（ＩＩ）ノｐ、１２〜ｐ、１４に、二重管を
用いた赤外放射カットについて述べられている。上記二
重管水冷方式は紫外線光源を取巻く外側を蔽うように、
石英ガラス製の二重管を設け、上記二重管内に純水を流
すようにしたものである。
上記従来技術による紫外線光源からの熱線カット方式は
、紫外線光源の外側を純水を流す石英ガラス管で蔽った
二重管構造であるため、上記石英ガラス管を含めた１個
あたりの紫外線光源の径が大きくなり、高密度な紫外線
光源を得るために上記紫外線光源を並置すると、光源と
光源との間隔が広くなり、被処理物表面上における紫外
線照度の均一が得られず、したがって、有機物除去に対
する表面処理の均一化が損われるという問題があった・ 本発明は、高密度に配列した紫外線光源から発生する熱
線を、必要に応じて除去できる有機物処理装置を得るこ
とを目的とする。
、紫外線光源の外側を純水を流す石英ガラス管で蔽った
二重管構造であるため、上記石英ガラス管を含めた１個
あたりの紫外線光源の径が大きくなり、高密度な紫外線
光源を得るために上記紫外線光源を並置すると、光源と
光源との間隔が広くなり、被処理物表面上における紫外
線照度の均一が得られず、したがって、有機物除去に対
する表面処理の均一化が損われるという問題があった・ 本発明は、高密度に配列した紫外線光源から発生する熱
線を、必要に応じて除去できる有機物処理装置を得るこ
とを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、紫外線光源と被処理物との間に、紫外線を
透過し熱線をカットする層を、必要に応じて設けること
によフて達成される。
透過し熱線をカットする層を、必要に応じて設けること
によフて達成される。
すなわち、外径１０＋＋ｎ程度の紫外線光源を高密度（
間隔４ｎｍ程度）に配列し、上記紫外線光源群と被処理
物との間に、合成石英などの紫外線を透過する材料から
なる空間層を設け、上記空間層内に。
間隔４ｎｍ程度）に配列し、上記紫外線光源群と被処理
物との間に、合成石英などの紫外線を透過する材料から
なる空間層を設け、上記空間層内に。
必要に応じて紫外線を透過し熱線を吸収する流体、例え
ば純水を流すことができるようにして、光源から放射す
る熱線をカットすることにより、被処理物の温度を低温
化することができる。
ば純水を流すことができるようにして、光源から放射す
る熱線をカットすることにより、被処理物の温度を低温
化することができる。
高強度の紫外線光源はその入力パワーを大きくするため
に、紫外線光源表面の温度が３００〜４００℃と高くな
り、熱輻射が行われる。上記熱輻射のために、被処理物
の温度を低下させるには限界があり、特に２００〜１５
０℃以下にするには、紫外線光源と被処理物の表面との
間に、熱線吸収層として、例えば純水のように紫外線を
透過し１〜１．５ｐｍ以上の熱線を吸収する流体が流れ
るようにすることによって、紫外線光源から放射する熱
線を上記流体でカットする必要がある。上記流体の層を
、紫外線光源と被処理物との間に設けることによって、
上記被処理物の温度を所望の温度まで低下させることが
できる。
に、紫外線光源表面の温度が３００〜４００℃と高くな
り、熱輻射が行われる。上記熱輻射のために、被処理物
の温度を低下させるには限界があり、特に２００〜１５
０℃以下にするには、紫外線光源と被処理物の表面との
間に、熱線吸収層として、例えば純水のように紫外線を
透過し１〜１．５ｐｍ以上の熱線を吸収する流体が流れ
るようにすることによって、紫外線光源から放射する熱
線を上記流体でカットする必要がある。上記流体の層を
、紫外線光源と被処理物との間に設けることによって、
上記被処理物の温度を所望の温度まで低下させることが
できる。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第１図は本発明による紫外線光源の熱線をカットした有
機物処理装置の一実施例を示す構成図である。第１図に
おいて、ランプ室１はアルマイトなどの金属からなり、
高強度紫外線放射源２は例えば合成石英からなる低圧水
銀ランプで、該ランプ内表面積１ｄ当り０．５ワット以
上の出力を有し、高密度に配列されている。上記紫外線
放射源２と例えばウェハのような被処理物５との間に、
合成石英からなる薄い空間層３０を有する容器４を配置
する。上記容器４には反応ガス１０を流すノズル３を複
数個貫通して取付けてあり、容器４の空間層３０には注
入口８から必要に応じて純水またはＮ。
機物処理装置の一実施例を示す構成図である。第１図に
おいて、ランプ室１はアルマイトなどの金属からなり、
高強度紫外線放射源２は例えば合成石英からなる低圧水
銀ランプで、該ランプ内表面積１ｄ当り０．５ワット以
上の出力を有し、高密度に配列されている。上記紫外線
放射源２と例えばウェハのような被処理物５との間に、
合成石英からなる薄い空間層３０を有する容器４を配置
する。上記容器４には反応ガス１０を流すノズル３を複
数個貫通して取付けてあり、容器４の空間層３０には注
入口８から必要に応じて純水またはＮ。
ガスを流し、排出０エ８から排出するように配管（図示
せず）しである。上記ノズル３から流入した反応ガスは
、上記容器４の下に導かれ、被処理物５の表面に沿って
高流速で流九るように、反応ガスのフローギャップは狭
くできるようにしである。被処理物５は回転および上下
移動が可能なステージ６に、真空チャックされ、上記ス
テージ６は熱源（高温処理を可能にするための熱源）７
により加熱することができる。上記被処理物５の表面を
流れた排ガスは、排出口２０により排出され、上記排ガ
スが処理室１１の外部に洩れないようにしである。
せず）しである。上記ノズル３から流入した反応ガスは
、上記容器４の下に導かれ、被処理物５の表面に沿って
高流速で流九るように、反応ガスのフローギャップは狭
くできるようにしである。被処理物５は回転および上下
移動が可能なステージ６に、真空チャックされ、上記ス
テージ６は熱源（高温処理を可能にするための熱源）７
により加熱することができる。上記被処理物５の表面を
流れた排ガスは、排出口２０により排出され、上記排ガ
スが処理室１１の外部に洩れないようにしである。
上記のように有機物処理装置を構成することによって、
高強度の紫外線放射源２を高密度に配列して、被処理物
５の表面における紫外線照度分布を比較的均一にするこ
とができる。薄い空間層３０を有する容器４は、厚さ１
〜１．５ａｍの合成石英板よりなっているので、１６０
ｎｍ以上の紫外線を透過でき、被処理物５に紫外線を到
達させることができる。しかしながら、上記容器４は石
英よりなるため赤外線４ＩｉＩｎまで透過するので、紫
外線放射源２の管壁の熱による熱輻射線を透過する。し
たがって低温で処理したい場合は、ステージ６の熱源７
への電力供給を絶っても、上記熱輻射によって被処理物
５の温度が１５０〜２００℃に上昇するので、容器４が
形成する薄い空間層（約５ｎｎ厚）３０に、紫外線を透
過し１〜１．５μｓ以上の熱線を吸収する純水を流すこ
とによって、被処理物５の温度を１００℃以下にまで低
下させることができる。１００〜１５０℃の間の処理を
するときは熱源７により調整が可能である。上記とは逆
に高温で処理したいときは、容器４の薄い空間層３０に
例えばＮ２ガスを流してやれば、Ｎ２ガスが紫外線を透
過するので問題なく処理できる。
高強度の紫外線放射源２を高密度に配列して、被処理物
５の表面における紫外線照度分布を比較的均一にするこ
とができる。薄い空間層３０を有する容器４は、厚さ１
〜１．５ａｍの合成石英板よりなっているので、１６０
ｎｍ以上の紫外線を透過でき、被処理物５に紫外線を到
達させることができる。しかしながら、上記容器４は石
英よりなるため赤外線４ＩｉＩｎまで透過するので、紫
外線放射源２の管壁の熱による熱輻射線を透過する。し
たがって低温で処理したい場合は、ステージ６の熱源７
への電力供給を絶っても、上記熱輻射によって被処理物
５の温度が１５０〜２００℃に上昇するので、容器４が
形成する薄い空間層（約５ｎｎ厚）３０に、紫外線を透
過し１〜１．５μｓ以上の熱線を吸収する純水を流すこ
とによって、被処理物５の温度を１００℃以下にまで低
下させることができる。１００〜１５０℃の間の処理を
するときは熱源７により調整が可能である。上記とは逆
に高温で処理したいときは、容器４の薄い空間層３０に
例えばＮ２ガスを流してやれば、Ｎ２ガスが紫外線を透
過するので問題なく処理できる。
上記のように本発明による紫外線光源の熱線をカットし
た有機物処理装置において、紫外線を透過し熱線をカッ
トする流体、または紫外線を透過する流体を、必要に応
じてそれぞれ流す暦を形成する手段を、上記紫外線光源
と被処理物表面との間に設けたことにより、高強度の紫
外線光源を高密度に配列して、上記被処理物表面の紫外
線照度を均一にできるとともに、被処理物表面への熱線
をカットすることができるので、低温処理が可能な有機
物処理装置を実現できる効果がある。
た有機物処理装置において、紫外線を透過し熱線をカッ
トする流体、または紫外線を透過する流体を、必要に応
じてそれぞれ流す暦を形成する手段を、上記紫外線光源
と被処理物表面との間に設けたことにより、高強度の紫
外線光源を高密度に配列して、上記被処理物表面の紫外
線照度を均一にできるとともに、被処理物表面への熱線
をカットすることができるので、低温処理が可能な有機
物処理装置を実現できる効果がある。
第１図は本発明による紫外線光源の熱線をカットした有
機物処理装置の一実施例を示す構成図である。 ２・・・紫外線光源 ３・・・ノズル４・・・容
器 ５・・・被処理物１０・・・反応ガス
機物処理装置の一実施例を示す構成図である。 ２・・・紫外線光源 ３・・・ノズル４・・・容
器 ５・・・被処理物１０・・・反応ガス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、反応ガスを流して紫外線を照射し、被処理物表面に
被着した有機物を処理する紫外線光源の熱線をカットし
た有機物処理装置において、紫外線を透過し熱線をカッ
トする流体、または紫外線を透過する流体を、必要に応
じてそれぞれ流す層を形成する手段を、上記紫外線光源
と被処理物表面との間に設けたことを特徴とする紫外線
光源の熱線をカットした有機物処理装置。 ２、上記流体を流す層を形成する手段は、２００ｎｍ以
下の波長の光が透過可能な、例えば合成石英ガラスから
なる薄い空間を有する容器であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項に記載した紫外線光源の熱線をカット
した有機物処理装置。 ３、上記容器は、上記被処理物表面に反応ガスを供給す
る複数個のノズルが貫通していることを特徴とする特許
請求の範囲第２項に記載した紫外線光源の熱線をカット
した有機物処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7617588A JPH01251615A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 紫外線光源の熱線をカットした有機物処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7617588A JPH01251615A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 紫外線光源の熱線をカットした有機物処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01251615A true JPH01251615A (ja) | 1989-10-06 |
Family
ID=13597764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7617588A Pending JPH01251615A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 紫外線光源の熱線をカットした有機物処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01251615A (ja) |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP7617588A patent/JPH01251615A/ja active Pending
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