JPH01250640A - 除振台 - Google Patents
除振台Info
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- JPH01250640A JPH01250640A JP63079883A JP7988388A JPH01250640A JP H01250640 A JPH01250640 A JP H01250640A JP 63079883 A JP63079883 A JP 63079883A JP 7988388 A JP7988388 A JP 7988388A JP H01250640 A JPH01250640 A JP H01250640A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface plate
- displacement
- relative displacement
- air spring
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Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 5
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Acoustics & Sound (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は、定盤への床面からの振動の伝播を高度に抑制
した除振台に関する。
した除振台に関する。
(発明の技術的背景とその課題)
光学装置や集積回路製造装置等を載置する作業台は高度
の除振性能が要求される。
の除振性能が要求される。
従来、この目的のために定盤を空気ばね装置によって支
持し、その空気ばね装置に種々の除振性能を付与した除
振台が使用されている。
持し、その空気ばね装置に種々の除振性能を付与した除
振台が使用されている。
例えば、この除振台の定盤上で荷重が移動したような場
合、それを支える何台かの空気ばね装置にそれぞれ加わ
る荷重が変動する。これによって、定盤が傾くのを防止
するために、その定盤の床面に対する相対変位を検出し
、各空気ばね装置の支持高さを制御する機構が設けられ
ている。
合、それを支える何台かの空気ばね装置にそれぞれ加わ
る荷重が変動する。これによって、定盤が傾くのを防止
するために、その定盤の床面に対する相対変位を検出し
、各空気ばね装置の支持高さを制御する機構が設けられ
ている。
第6図に、そのような機構の概略図を示す。
図において、定盤1は空気ばね装置4に支持されている
。尚、この空気ばね装置4は定盤1の下面に、例えば3
台あるいは4台配置されているが、図にはその1台だけ
を示した。そして、この空気ばね装置4の近傍であって
定盤1の下側に、調整機構20が固定されている。この
調整機構20からは横方向にレバー21が伸び、接触子
22が定盤1の下面に接触するよう構成されている。
。尚、この空気ばね装置4は定盤1の下面に、例えば3
台あるいは4台配置されているが、図にはその1台だけ
を示した。そして、この空気ばね装置4の近傍であって
定盤1の下側に、調整機構20が固定されている。この
調整機構20からは横方向にレバー21が伸び、接触子
22が定盤1の下面に接触するよう構成されている。
この調整機構20は、図示しないスプリング等によりレ
バー21を介して接触子22を定盤1の下面に押し付け
るようにしている。従って、定盤1が上下動した場合、
接触子22もこれに追従して上下動し、レバー21によ
ってその動きが増幅されて調整機構20に検出される。
バー21を介して接触子22を定盤1の下面に押し付け
るようにしている。従って、定盤1が上下動した場合、
接触子22もこれに追従して上下動し、レバー21によ
ってその動きが増幅されて調整機構20に検出される。
調整機構20は、これによって定盤1の相対変位を検出
し、定盤1が基準位置より下がっていれば、空気ばね装
置4に圧搾空気を供給し定盤1を上昇させ、その逆に定
盤1が基準位置より高い場合には、空気ばね装置4から
圧搾空気を排出させ、いずれの場合にも定盤1を基準位
置に復帰させるよう動作する。
し、定盤1が基準位置より下がっていれば、空気ばね装
置4に圧搾空気を供給し定盤1を上昇させ、その逆に定
盤1が基準位置より高い場合には、空気ばね装置4から
圧搾空気を排出させ、いずれの場合にも定盤1を基準位
置に復帰させるよう動作する。
この圧搾空気の供給や排出は、通常、調整機構20の内
部に設けられた空気弁をレバー21で開閉するようにし
て行なわれる。
部に設けられた空気弁をレバー21で開閉するようにし
て行なわれる。
ところが、床面の微弱振動を遮断し、定盤1の支持を高
精度に行なう精密除振台においては、この調整機構20
の接触子22を通じて定盤1に伝達される高周波振動も
無視することができない。
精度に行なう精密除振台においては、この調整機構20
の接触子22を通じて定盤1に伝達される高周波振動も
無視することができない。
更に、調整機構20中に組み込まれたばね等の力が、定
盤1を支える空気ばね装置4のばね系に影響を及ぼし、
その除振性能を悪化させるという問題点もある。
盤1を支える空気ばね装置4のばね系に影響を及ぼし、
その除振性能を悪化させるという問題点もある。
又、調整機構20の内部には、空気弁を開閉するための
エアーシール部を設けているが、この構造によっては大
きさヒステリシスが生じ、接触子22の上下動に対し、
忠実に直線的にその相対位置の補正を行なうことが難し
くなる。従って、この調整機構20の感度が悪くなると
いう問題があった。
エアーシール部を設けているが、この構造によっては大
きさヒステリシスが生じ、接触子22の上下動に対し、
忠実に直線的にその相対位置の補正を行なうことが難し
くなる。従って、この調整機構20の感度が悪くなると
いう問題があった。
(発明の目的)
本発明は以上の点に着目してなされたもので、定盤に対
し不要な振動の伝達を防止し、変位補正を高感度で高精
度に行なうことができる除振台を提供することを目的と
するものである。
し不要な振動の伝達を防止し、変位補正を高感度で高精
度に行なうことができる除振台を提供することを目的と
するものである。
(発明の概要)
本発明の除振台は、定盤と、この定盤の変位に対応して
変位し、その床面に対する相対変位を光学的に検出する
光学的変位検出器と、この光学的変位検出器の検出出力
を受け入れて、前記定盤の変位補正値を演算する演算制
御部と、この演算制御部の制御によって圧搾空気を供給
されあるいは排出し、前記定盤の支持高さを調整される
空気ばね装置とを備えたことを特徴とするものである。
変位し、その床面に対する相対変位を光学的に検出する
光学的変位検出器と、この光学的変位検出器の検出出力
を受け入れて、前記定盤の変位補正値を演算する演算制
御部と、この演算制御部の制御によって圧搾空気を供給
されあるいは排出し、前記定盤の支持高さを調整される
空気ばね装置とを備えたことを特徴とするものである。
(発明の実施例)
以下、本発明を図の実施例を用いて詳細に説明する。
第1図は、本発明の除振台の実施例を示すブロック図で
ある。
ある。
図のように、この装置の定盤1には光学的変位検出器2
が取り付けられている。この光学的検出器2は、定盤1
の変位に対応して変位し、その床面に対する相対変位を
光学的に検出することができるものである。この光学的
変位検出器2の検出出力11は、演算制御部3に入力す
るよう結線されている。演算制御部は、マイクロプロセ
ッサ等から構成されており、光学的変位検出器2の検出
出力11を受け入れて定盤1の変位補正値を演算するよ
う動作する。
が取り付けられている。この光学的検出器2は、定盤1
の変位に対応して変位し、その床面に対する相対変位を
光学的に検出することができるものである。この光学的
変位検出器2の検出出力11は、演算制御部3に入力す
るよう結線されている。演算制御部は、マイクロプロセ
ッサ等から構成されており、光学的変位検出器2の検出
出力11を受け入れて定盤1の変位補正値を演算するよ
う動作する。
定盤1は、予め一定の基準位置が定められており、その
基準位置より高い側に変位したか低い側に変位したか、
光学的変位検出器2の検出出力11によって判別される
。演算制御部3では、その相対変位を補正するように変
位補正値が求められ、その変位補正信号12が空気ばね
装置4に対して出力される。
基準位置より高い側に変位したか低い側に変位したか、
光学的変位検出器2の検出出力11によって判別される
。演算制御部3では、その相対変位を補正するように変
位補正値が求められ、その変位補正信号12が空気ばね
装置4に対して出力される。
空気ばね装置4は、図示しないコンプレッサから圧搾空
気5の供給を受け、定盤1を所定の高さに支持し、その
圧搾空気が供給されれば支持高さを高くし、圧搾空気が
排出されれば支持高さを低くするよう構成されたもので
ある。この空気ばね装置は、従来一般的に精密除振台等
に使用されているものを使用し、更に詳細なその内部構
造の説明は省略する。
気5の供給を受け、定盤1を所定の高さに支持し、その
圧搾空気が供給されれば支持高さを高くし、圧搾空気が
排出されれば支持高さを低くするよう構成されたもので
ある。この空気ばね装置は、従来一般的に精密除振台等
に使用されているものを使用し、更に詳細なその内部構
造の説明は省略する。
第2図に、上記光学的変位検出器2の具体的な実施例側
面図を示す。
面図を示す。
図のように、光学的変位検出器2は、例えば定盤lの下
面に一端を固定されたフォトインタラプタ2aと発光素
子2bと受光素子2Cとから構成されている。
面に一端を固定されたフォトインタラプタ2aと発光素
子2bと受光素子2Cとから構成されている。
この第2図を、矢印六方向から見たところを第3図に示
す。
す。
第3図のように、フォトインタラプタ2aは、定盤1の
変位方向に直交する方向に平行な多数のスリット2dを
有している。一方、発光素子2bと受光素子2Cとは、
いずれも図示しないフレーム等によって床面上に固定さ
れており、発光素子2bから出力される光は、フォトイ
ンタラプタ2aのスリット2dを通過して受光素子2C
に達する。受光素子2Cは、その光を光電変換して検出
出力11として出力する。
変位方向に直交する方向に平行な多数のスリット2dを
有している。一方、発光素子2bと受光素子2Cとは、
いずれも図示しないフレーム等によって床面上に固定さ
れており、発光素子2bから出力される光は、フォトイ
ンタラプタ2aのスリット2dを通過して受光素子2C
に達する。受光素子2Cは、その光を光電変換して検出
出力11として出力する。
第4図に、第2図及び第3図に示したような光学的変位
検出器2によって定盤lの相対変位を検出し、これから
変位補正値を演算する演算制御部3の動作説明図を示す
。
検出器2によって定盤lの相対変位を検出し、これから
変位補正値を演算する演算制御部3の動作説明図を示す
。
先ず、第2図あるいは第3図に示したような状態で、定
盤1の基準位置を予め設定しておく。そして、定盤1が
基準位置より上昇した場合にも下降した場合にも、それ
ぞれフォトインタラプタ2aによって受光素子2Cに入
射する光が間欠的に遮断される。この場合、1つのスリ
ット2dが発光素子2bと受光素子2Cの間を通過する
毎に1回光がオン/オフすることになる。例えば、定盤
1が次第に上昇していくとき、このオン/オフ回数をカ
ウントすることによって相対変位を数値として認識する
ことができる。
盤1の基準位置を予め設定しておく。そして、定盤1が
基準位置より上昇した場合にも下降した場合にも、それ
ぞれフォトインタラプタ2aによって受光素子2Cに入
射する光が間欠的に遮断される。この場合、1つのスリ
ット2dが発光素子2bと受光素子2Cの間を通過する
毎に1回光がオン/オフすることになる。例えば、定盤
1が次第に上昇していくとき、このオン/オフ回数をカ
ウントすることによって相対変位を数値として認識する
ことができる。
第4図に示したスリットカウンタは、演算制御部3の内
部に設けられたレジスタ等に格納される数値を示してお
り、基準位置から定盤1が上昇した場合、+1.+2.
+3.+4というように変化し、下降した場合には、−
1,−2,−3゜−4というように変化する。このスリ
ットカウンタのカウント値をそのまま変位補正値として
、例えば空気ばね装置4における圧搾空気の供給弁や排
出弁の開放時間を設定する。又、あるいは1パルスで単
位時間開放される弁を、このスリットカウンタのカウン
ト値に相当する回数開閉させるようにしてもよい。そし
て、この1回の弁の開放によって、定盤1がスリットピ
ッチ1個分だけその相対変位の補正がなされるように設
定しておけば、常に定盤1を一定の基準位置に保持する
ことができる。
部に設けられたレジスタ等に格納される数値を示してお
り、基準位置から定盤1が上昇した場合、+1.+2.
+3.+4というように変化し、下降した場合には、−
1,−2,−3゜−4というように変化する。このスリ
ットカウンタのカウント値をそのまま変位補正値として
、例えば空気ばね装置4における圧搾空気の供給弁や排
出弁の開放時間を設定する。又、あるいは1パルスで単
位時間開放される弁を、このスリットカウンタのカウン
ト値に相当する回数開閉させるようにしてもよい。そし
て、この1回の弁の開放によって、定盤1がスリットピ
ッチ1個分だけその相対変位の補正がなされるように設
定しておけば、常に定盤1を一定の基準位置に保持する
ことができる。
以上のように構成すると、光学的変位検出器2は、非接
触状態で定盤lの相対変位を検出するため、定盤1に対
し無用な振動を伝達することがない。又、相対変位の検
出感度は、スリット2dの幅と発光素子2bの発する光
のビーム径を選択することによって、任意に設定するこ
とができる。
触状態で定盤lの相対変位を検出するため、定盤1に対
し無用な振動を伝達することがない。又、相対変位の検
出感度は、スリット2dの幅と発光素子2bの発する光
のビーム径を選択することによって、任意に設定するこ
とができる。
しかも、この場合にヒステリシス等が生じる恐れはない
。
。
本発明は以上の実施例に限定されない。
上記のような光学的変位検出器を用いた場合、その相対
変位を正確に検出し演算制御部3が変位補正値を演算す
るという構成をとるため、定盤1の位置補正をする場合
にその補正速度を自由にコントロールすることができる
。即ち、例えば、基準変位から定盤1の高さが大幅にず
れたような場合、定盤1を当初高速で基準位置に復帰さ
せるようにし、相対変位がある程度小さくなった場合に
は、ゆっくりと基準位置に復帰させるようにし、更に相
対変位が一定以下になった場合には、よりその復帰速度
を遅くしてやる。このようにすれば、変位補正を行なう
ことによって基準位置の前後で定盤lが振動するのを防
止することができる。
変位を正確に検出し演算制御部3が変位補正値を演算す
るという構成をとるため、定盤1の位置補正をする場合
にその補正速度を自由にコントロールすることができる
。即ち、例えば、基準変位から定盤1の高さが大幅にず
れたような場合、定盤1を当初高速で基準位置に復帰さ
せるようにし、相対変位がある程度小さくなった場合に
は、ゆっくりと基準位置に復帰させるようにし、更に相
対変位が一定以下になった場合には、よりその復帰速度
を遅くしてやる。このようにすれば、変位補正を行なう
ことによって基準位置の前後で定盤lが振動するのを防
止することができる。
このためには、第5図に示したように、圧搾空気の単位
時間当たりの空気流量をその相対変位に対応して変化さ
せてやる。即ち、相対変位の小さい第1区分においては
単位時間当たりの空気流量を直線的に変化させ、第2区
分においては単位時間当たりの空気流量を一定にし、第
3区分においては単位時間当たりの空気流量を相対変位
が大きくなる程増加するように2次関数的に調整してや
る。この制御は、具体的には、1パルスによって単位時
間だけ開放される空気弁に対し、一定時間内に供給する
パルスの周期を種々変化させてやることによって実施で
きる。これによって、基準位置における、いわゆるオー
バーシュートをできるだけ小さくし、基準位置への復帰
時間(整定時間とも呼ぶ)を短くすることができる。
時間当たりの空気流量をその相対変位に対応して変化さ
せてやる。即ち、相対変位の小さい第1区分においては
単位時間当たりの空気流量を直線的に変化させ、第2区
分においては単位時間当たりの空気流量を一定にし、第
3区分においては単位時間当たりの空気流量を相対変位
が大きくなる程増加するように2次関数的に調整してや
る。この制御は、具体的には、1パルスによって単位時
間だけ開放される空気弁に対し、一定時間内に供給する
パルスの周期を種々変化させてやることによって実施で
きる。これによって、基準位置における、いわゆるオー
バーシュートをできるだけ小さくし、基準位置への復帰
時間(整定時間とも呼ぶ)を短くすることができる。
尚、光学的変位検出器2は、必ずしも第2図に示したよ
うなスリット式のものでなくても差し支えない。例えば
、反射式のもの、所定ピッチで配列されたマークを読み
取る読み取り式のもの等、種々のものを使用することが
できる。又、定盤1が一定の振動を生じたような場合、
空気弁の開閉タイミングを適当に選択し、その振動を打
ち消すように圧搾空気を供給しあるいは排出することも
できる。これは、定盤1の振動を光学的変位検出器2が
検出し、演算制御部3が高速でその変位補正値の演算を
行なうようにすることによって比較的容易に実施できる
。尚、測定の場合、故意に検出感度を鈍くする要求もあ
り得る。その場合、演算制御部3自身がその制御カウン
ト値を適当に分周する他、発光素子2bの出力する光の
ビーム径に対しスリット2dの幅を大きくすればよい。
うなスリット式のものでなくても差し支えない。例えば
、反射式のもの、所定ピッチで配列されたマークを読み
取る読み取り式のもの等、種々のものを使用することが
できる。又、定盤1が一定の振動を生じたような場合、
空気弁の開閉タイミングを適当に選択し、その振動を打
ち消すように圧搾空気を供給しあるいは排出することも
できる。これは、定盤1の振動を光学的変位検出器2が
検出し、演算制御部3が高速でその変位補正値の演算を
行なうようにすることによって比較的容易に実施できる
。尚、測定の場合、故意に検出感度を鈍くする要求もあ
り得る。その場合、演算制御部3自身がその制御カウン
ト値を適当に分周する他、発光素子2bの出力する光の
ビーム径に対しスリット2dの幅を大きくすればよい。
又、第5図に示したような制御を行なう場合、第3図に
示したフォトインタラプタ2aに設けるスリット2dの
間隔を、第5図に示した各区分の制御方法に応じて、適
当な間隔に設定してもよい。
示したフォトインタラプタ2aに設けるスリット2dの
間隔を、第5図に示した各区分の制御方法に応じて、適
当な間隔に設定してもよい。
(発明の効果)
以上説明した本発明の除振台は、定盤に直接接触するこ
となくその相対変位を検出するため、空気ばね装置の振
動伝達率に悪影響を及ぼすことがない。又、定盤に対し
、従来のように一定のばね力で圧接される接触子等が設
けられていないため、除振台の垂直方向の固有振動数を
より低くすることができる。又、光学的変位検出器の検
出出力を演算制御部によって演算して変位補正値を得る
ようにしたので、システムに適合するようにその変位補
正速度等を変えその最適化を図ることができる。更に、
機械的な調整機構と異なり非線型特性やヒステリシスが
ないため、高精度の相対変位補正が可能である。
となくその相対変位を検出するため、空気ばね装置の振
動伝達率に悪影響を及ぼすことがない。又、定盤に対し
、従来のように一定のばね力で圧接される接触子等が設
けられていないため、除振台の垂直方向の固有振動数を
より低くすることができる。又、光学的変位検出器の検
出出力を演算制御部によって演算して変位補正値を得る
ようにしたので、システムに適合するようにその変位補
正速度等を変えその最適化を図ることができる。更に、
機械的な調整機構と異なり非線型特性やヒステリシスが
ないため、高精度の相対変位補正が可能である。
第1図は本発明の除振台の実施例を示すブロック図、第
2図はその光学的変位検出器の側面図、第3図はその正
面図、第4図は本発明の除振台の演算制御部の動作を説
明する説明図、第5図はその動作の変形例を説明する説
明図、第6図は従来の除振台の高さ調整機構の概略構成
図である。 1−−−一−−−−−一定盤、 2−一−−−−−−−−光学的変位検出器、2 a −
−−−−−−−−フォトインタラプタ、2 b−−−−
−−−−一発光素子、 2 c −−−−−−−−一受光素子、2d−−−−−
−−−−スリット、 3−−−−−−−−−一演算制御部、 4−一−−−−−−−−空気ばね装置、5−一−−−−
−−−−圧搾空気、 11−−−一−−−−−検出出力、 12−−一−−−−−−変位補正信号。 第2図 第3図 第4図 1−一−−−−−−−一定盤 2 b−−−−−−−−一発光素子 2c −一−−−−−−一受光素子 2d−−−−−−−−−スリット 3−−−一−−−−−−演算制御部 4−一−−−−−−m−空気ばね装置 5−一一−−−−−−−圧搾空気 11−−−−−−一−−検出出力 12−−−−−−一一一変位補正信号 第1図
2図はその光学的変位検出器の側面図、第3図はその正
面図、第4図は本発明の除振台の演算制御部の動作を説
明する説明図、第5図はその動作の変形例を説明する説
明図、第6図は従来の除振台の高さ調整機構の概略構成
図である。 1−−−一−−−−−一定盤、 2−一−−−−−−−−光学的変位検出器、2 a −
−−−−−−−−フォトインタラプタ、2 b−−−−
−−−−一発光素子、 2 c −−−−−−−−一受光素子、2d−−−−−
−−−−スリット、 3−−−−−−−−−一演算制御部、 4−一−−−−−−−−空気ばね装置、5−一−−−−
−−−−圧搾空気、 11−−−一−−−−−検出出力、 12−−一−−−−−−変位補正信号。 第2図 第3図 第4図 1−一−−−−−−−一定盤 2 b−−−−−−−−一発光素子 2c −一−−−−−−一受光素子 2d−−−−−−−−−スリット 3−−−一−−−−−−演算制御部 4−一−−−−−−m−空気ばね装置 5−一一−−−−−−−圧搾空気 11−−−−−−一−−検出出力 12−−−−−−一一一変位補正信号 第1図
Claims (1)
- 定盤と、この定盤の変位に対応して変位し、その床面
に対する相対変位を光学的に検出する光学的変位検出器
と、この光学的変位検出器の検出出力を受け入れて、前
記定盤の変位補正値を演算する演算制御部と、この演算
制御部の制御によって圧搾空気を供給されあるいは排出
し、前記定盤の支持高さを調整される空気ばね装置とを
備え、前記光学的変位検出器は、前記定盤に固定され、
前記変位方向に多数のスリットを配列したフォトインタ
ラプタと、前記床面上に固定され、前記フォトインタラ
プタを挟んで配置された発光素子と受光素子とから構成
されていることを特徴とする除振台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63079883A JPH01250640A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 除振台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63079883A JPH01250640A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 除振台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01250640A true JPH01250640A (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=13702651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63079883A Pending JPH01250640A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 除振台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01250640A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0212000A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-17 | Tokkyo Kiki Kk | 位置制御用バルブ |
EP0584791A1 (en) * | 1992-08-26 | 1994-03-02 | Ebara Corporation | Electromagnetically suspended floating floor apparatus |
JP2006222143A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Fujikura Rubber Ltd | レベリング調整装置 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63079883A patent/JPH01250640A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0212000A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-17 | Tokkyo Kiki Kk | 位置制御用バルブ |
EP0584791A1 (en) * | 1992-08-26 | 1994-03-02 | Ebara Corporation | Electromagnetically suspended floating floor apparatus |
US5471802A (en) * | 1992-08-26 | 1995-12-05 | Ebara Corporation | Electromagnetically suspended floating floor apparatus |
JP2006222143A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Fujikura Rubber Ltd | レベリング調整装置 |
JP4486521B2 (ja) * | 2005-02-08 | 2010-06-23 | 藤倉ゴム工業株式会社 | レベリング調整装置 |
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