JPH01238135A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体ウェハ（以下ウェハという）のＣＶＤ
処理工程やエツチング処理工程、あるいは検査工程等に
用いられるウェハ搬送装置の構成に関する。

〔従来の技術〕

従来より、半導体製造装置に組み込まれウェハの搬送を
行うウェハ搬送装置の一つに第６図に示すものがある。

以下、図面をもとにその構成および作用を説明する。

第６図において、２はウェハ収納溝２ａを有するウェハ
カセットで、その内部には複数のウェハ１が一枚づつ表
面（プロセス処理側面）を上方に向けて水平かつ等間隔
に収納されている。また、４は昇降ステージでその下部
には昇降ネジ軸５とガイド軸６が取り付けられている。

この昇降ネジ＠５は昇降駆動用のモータＭ、によって回
転される歯車７と噛み合う歯車８のネジ切り！ｌ！８ａ
に係合し、歯車８とベアリング９を介してベース１゜に
支持されており、ガイド軸６は、ペース１０の嵌合部１
０ａＫ嵌合するようにして支持されている。したがって
、モータＭ１が駆動されると、ネジの送り作用により、
昇降ステージ４は上昇または下降する。なお、歯車８に
は、ウェハカセット２のウェハ収納溝２ａのピッチに相
当する分だけ昇降ステージ４が昇降したときの歯車８０
回転角に対応するスリットを切った円板３が取り付けら
れており、このスリットを光電センサー、あるいは静電
容量型センサー等のセンサー１１で検出シ、その信号を
もとにモータ看を駆動、停止させることによって、昇降
ステージ４がウェハカセット２のウェハ収納溝ピッチに
相当する距離づつ昇降するようになっている。

一方、１２はウェハ１を支持するウェハ支持部である。

このウェハ支持部１２には真空吸着口１３とそれに連通
ずる環状孔１４とが設けられている。

また、１９はウェハ支持部１２を水平面内で移動させる
移動手段で、ウェハ支持部１２の下部に取り付けた方向
変換用の回転アクチエエータ１５と、一端に固着された
歯車１７を有し、回転アクチエエータ１５ｃ／）ネジ切
り部１５ａに係合する送りネジ１１３１６と、歯車１７
に噛み合う歯車１８を回転させる前後躯動用のモータＭ
、とがら構成されている。このため、モータＭ、が駆動
されると、ウェハ支持部１２は前進または後退する。

上述の如（構成されたウェハ搬送装置によって、次のよ
うにウェハｌの搬送が行われる。すなわち、まず、ウェ
ハカセット２の設置されている昇降ステージ４が最も上
昇した状態にセットされる。このとき、ウェハ支持部１
２上端の高さ位置は、ウェハカセット２に収納された最
下部のウェハ１の高さ位置より、ウェハ収納溝ピッチ分
だけ下に位置するように調整されている０次に、モータ
Ｍ。

が駆動され、ウェハ支持部１２が送りネジ軸１６に沿っ
て前進をはじめ、ウェハカセット２内に進入し、所定の
位置で停止する。そして、モータＭ。

が駆動され、昇降ステージ４がウェハ収納溝ピッチ分だ
け下降して停止すると、ウェハ１の裏面がウェハ支持部
１２の上端に当接する。ここで、ウェハ１により塞がれ
た真空吸着口１３内の空気が環状孔１４から真空ポンプ
（図示せず）等で排気され、真空吸着口１３内が負圧に
なると、ウェハ１は真空吸着口１３に吸着され、ウェハ
支持部１２に固定される。この状態で、モータＭ、が逆
回転枢動され、ウェハ支持部１２が後退をはじめ、所定
の位置で停止する。さらに、回転アクチエエータ１５が
所定の角度だけ回転することにより、ウェハ１は次のス
テージ曹ンヘ搬送される。そこで、ウェハ１に化学的処
理、あるいは物理的処理等が施される。以上の動作の繰
り返しによって、ウェハカセット２内の複数のウェハ１
を次のステージ１ンヘ搬送する。なお、ウェハカセット
２にウェハを収納する除には、上述の逆動作により、ウ
ェハカセット２のウェハ収納溝２ａの最上段から順次ウ
ェハ１を挿入していくようになっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記の如（構成された従来のウェハ搬送
装置にあっては、一定のサイズのウェハをウェハカセッ
トからウェハカセットへと搬送するだけの場合は問題が
無いにし【も、サイズの異なるウェハを搬送しようとす
る場合には、ウェハ１のサイズととにウェハカセット２
の大きさ、ウェハ収納＠２ａのピッチ、およびウェハ支
持部１２の前後移動距離等が異なるために、例えは、ス
リットを切った円板３の取り替えやウェハ支持部１２０
前後移動距離の調整等の作業な必斐とし、ときには、昇
降手段２０とウェハカセット２からなるカセット昇降ユ
ニット２１および移動手段１９を全て交換しなければウ
ェハサイズの変更に対応テきないという欠点がある。そ
して、これらの作業は装置を停止させた状態で行わなけ
ればならず、頻繁にウェハサイズの変更がある場合には
、ロスタイムおよび交換コストが発生しコストアップに
つながるばかりか、装置の稼動率も著しく低下してしま
うことになる。

ウェハサイズの変更に対応するという点だけに層目する
ならば、従来より、第７図に示すようなウェハの搬送方
法、すなわち、サイズの異なるウェハＩＡ〜ＩＤのそれ
ぞれに適合するカセット昇降ユニツ）２１Ａ〜２１Ｄと
複数台Ｑ）移動手段１９を配置するとともに移動手段１
９を間に挾んでカセット昇降ユニツ）２１Ａ〜２１Ｄと
対向する位置に搬送ベルト２２を配置し、搬出したウェ
ハＩＡ〜ＩＤを搬送ベルト２２上に載置して次のステー
ジ田ンへ搬送するという方法が周知であるが、このよう
な搬送方法にあっては、高価なカセット昇降ユニｙ　）
　２１　Ａ〜２１Ｄおよび移動手段１９を数多く必要と
するのでコストアップにつながるばかりか、水平面内で
旋回運動を行う複数台の移動手段が広いスペースを必要
とするので装置の小型化が困難であるという問題がある
。また、搬送ベルト２１上ＫｉａｌｆｔされたウェハＩ
Ａ〜ＩＤは不安定な状態であり、次のステーションへの
確実な搬送を行うことができず、正確なウェハＩＡ〜Ｉ
Ｄの位置決めが困難であるという問題がある＠この発明
は上述の問題点に！みなされたもので、その目的とする
ところは、段取り替えをすることなくサイズの異なる複
数種のウェハを確実に次のステージ曹ンへ搬送すること
が可能で、しかも位置決め精度の高いコンパクトなウェ
ハ搬送装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記の目的は、ウェハを真空吸着する支持台と、この支
持台を前後方向、上下方向、及び水平旋回方向に移動さ
せる駆動部とを備える第１のハンドリング機構と、前記
第１のハンドリング機構の支持台の旋回中心からの距離
が等しくなるように同一円周上に配置され互いにサイズ
の異なるウェハを収納する複数種のウェハカセット、あ
るいはサイズの異なるウェハのそれぞれに適合する複数
の円形状の凹溝が上部側に段状に形成された搭載台のい
ずれか一方、または両方とからなるウェハ供給ステージ
嘗ンと、サイズの異なるウェハのそれぞれに適合する複
数の円形状の凹溝が上部側に段状に形成された中継台と
、この中継台を上下方向に移動させる駆動部とを備え、
前記第１のハンドリング機構との間でクエへの受け渡し
を行う中継受け渡し機構と、サイズの異なるウェハのそ
れぞれに適合する複数の円形状の凹溝が上部側に段状に
形成されるとともに前記中継受け渡し機構の中継台に載
置されたウェハの下方に進入可能な移送台と、この移送
台を前後方向及び水平旋回方向に移動させる駆動部とを
備え、前記中継受け渡し機構との間でクエへの受け渡し
を行う第２ｉ７〕ハンドリング機構とからなるウェハ搬
送装置により達成される。

〔作　用〕

上記の如く構成された本発明に係るウェハ搬送装置にお
いては、処理すべきウェハのサイズが指定されると、搬
送信号に基づいて第１のハンドリング機構が複数種のウ
ェハカセットのうちの一つあるいは搭載台から指定され
たサイズのウェハを搬出して中継受け渡し機構の中継台
に＊置し、続いて第２のハンドリング機構が中継受け渡
し機構との共同操作により中継台に載置されたウェハを
受け取り、このウェハを次のステージ曹ンへと搬送する
。したがっ【、段取り替えをすることな（サイズの異な
る複数種のウェハを次のステージ曹ンへと搬送できる。

また、第１のハンドリング機構にあっては支持台の真空
吸着により、中継受け渡し機構及び第２ハンドリング機
構にあってはそれぞれ中継台及び移送台に形成された円
形状の凹溝により、ウェハを拘束しているので、精度の
高いウェハの位置決め及び確実なウェハの搬送を行うこ
とができる。

〔実施例〕

以下、図面に示した実施例に基づいて本発明の詳細な説
明する。

第１図は本発明に係るウェハ搬送装置を上方から見た概
略平面図、第２図は第１図に示したウェハ搬送装置の要
部斜視図である。

第１図及び第２図において、２３はウェハな吸着保持し
搬送する第１のハンドリング機構で、ウェハの裏面を吸
着するための真空吸着口２４とこれに連通する環状孔２
５が設けられた薄板状のウェハ支持部２６ａとネジ軸２
８に係合する係合部２６ｂを有する支持台２６と、ネジ
１！１１２８を軸支するための軸受部２７ａを前後両端
に有するフレーム２７と、支持台２６を前後（図中Ｘ方
向）動、上下（図中Ｚ方向）動、及び水平（図中０方向
）旋回動させる駆動部（図示せず）と、支持台２６の環
状孔２５に接続された真空源（図示せず）とから構成さ
れている。

３０Ａ〜３０Ｄはそれぞれサイズの異なるウェハＩＡ〜
ＩＤを水平かつ等間隔に複数枚収納したウェハカセット
で、各々のウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄと第１のハン
ドリング機構２３の旋回中心である図中００点との間の
距離がすべ【等しくなるように同一円周上に固定配置さ
れている。なお、ウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄの搬入
・搬出口２９Ａ〜２９Ｄは旋回中心０点の方向を向いて
いる。

３１はサイズの異なるウェハＩＡ〜ＩＤのそれぞれに適
合する円形状の凹溝３２ａ〜３２ｄが段状に形成される
とともに支持台２６のウェハ支持部２６ａが進入できる
ように切り欠ぎ３３が形成された搭載台で、上述のウェ
ハヵセッ）３０Ａ〜３０Ｄと同一の円周上に固定配置さ
れている。そして、この搭載台３１とウェハカセット３
０Ａ〜３０Ｄとから未処理ウェハを待機させておくウェ
ハ供給ステージ曹ン３４が構成されている。なお、他の
ステージ曹ンで処理されたウェハは再びこのウェハ供給
ステージ曹ン３４にもどる。

３８はサイズの異なるウェハＩＡ〜ＩＤのそれぞれに適
合する円形状の凹溝３６ａ〜３６ｄが段状に形成される
とともに支持台２６のウェハ支持部２６ａと後述する第
２のハンドリング機構４２の移送台３９が進入できるよ
５に切り火き３７が形成された中継台３５とこの中継台
３５を上下（図中Ｗ方向）動させる駆動部（図示せず）
とから構成された中継受け渡し機構で、搭載台３１と同
様にウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄと同一の円周上に固
定配置されている。

４２は搭載台３１及び中継台３５と同様なサイズの異な
るウェハＩＡ〜ＩＤのそれぞれに適合する円形状の凹溝
４０ａ〜４０ｄが段状に形成された移送台３９とこの移
送台３９を前後（図中Ｙ方向）動及び水平（図中０方向
）旋回動させる駆動部４１とから構成された第２のハン
ドリング機構である。なお、本実施例において、第２の
ハンドリング機構４２の駆動部４１にはメカニカルパン
タグラフを適用しており、小さな占有スペースで移送台
３９の長ストロークの移動が可能となっている。以下、
第３図及び第４図に基づいて、メカニカルパンタグラフ
の構成及び動作を詳細に説明する。第３図において、４
３は、伸縮駆動用のモータＭ、により回転される回転軸
で、プーリー４４と歯車４５が固着されている。この回
転軸４３の中央部はベアリングを介して本体４６に支持
され、上端部はベアリングを介して第１のアーム４７の
一端に連結されている。４８は歯車５０が固着された連
結軸５１と、プーリー５２が固着された連結軸５３を有
する第２のアームで、連結軸５１は移送台３９に、連結
軸５３は第１のアーム４７に１それぞれベアリングを介
して連結されている。また、５４はプーリー４４の駆動
力をプーリー５２に伝達するためのタイミングベルトで
ある。な、お、第１のアーム４７と第２のアーム４８と
からなるアーム部４９は対をなすようＫして設けられて
おり、一対の歯車５０と５０、および一対の歯車４５と
４５が互いに噛み合うように配置されているので、モー
タＭ８が駆動されると、アーム部４９は、第４図Ｉａ）
〜（Ｃ）に示すような伸縮動を行う。すなわち、第４（
ａ）図はアーム部４９を完全に伸ばした状態、第４（ｂ
）図はアーム部４９が縮んでいく状態、第４（Ｃ）図は
アーム部４９が完全に縮んだ状態を示すものである。さ
らに、本体４６がベアリングを介して基台５７に固定さ
れたサポート５５に支持され、本体４６の最下部に形成
された歯車２７ａが旋回駆動用のモータＭ、により回転
される歯車５６と噛み合っているのでモータＭ、を駆動
させることＫより、本体４６が回転し、アーム部４９は
旋回を行う。したがって、モータＭ、およびモータＭ、
の駆動を制御すれは、移送台３９を一定範囲の水平面内
で移動させることが可能である。

なお、駆動源となるモータとしては、パルスセータある
いはインダクシ謬ンモータ等が用いられる。

上記の如く構成された本発明に係るウエノ１搬送装置に
より次のようにウェハの搬送が行われる。

ここで、一定のサイズのウェハを連続的に多量に処理す
る場合はウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄのうちの一つを
使用し、毎葉的に小量を処理する場合には搭載台３１を
使用する。ウエノ１の搬送にあたっては、まず、処理す
べきウエノ）を表面（プロセス処理面）を上方に向けた
状態でウエノ１カセット３０Ａ〜３０Ｄのうちの適合す
る一つあるいは搭載台３１に水平にセットしておく。い
ま、処理すべきクエへのサイズを指定すると、搬送信号
に基づいて第１のハンドリング機ｓ２３が動作を開始す
る。すなわち、支持台２６が０点を中心として指定され
たサイズのウェハを収納しているウエハカセッ）３０Ａ
〜３０Ｄの一つあるいは搭載台３１に向かって旋回動し
、そのウェハ支持部２６ａがクエハカセッ）３０Ａ〜３
０Ｄの一つあるいは搭載台３１と相対向する位置で停止
する。旋回停止後、支持台２６はネジ軸２８に沿って前
進を開始し、ウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄの一つある
いは搭載台３１の切り欠き３３の内部に進入し、ウェハ
支持部２６の真空吸着口４２の中心と指定されたサイズ
のウェハの中心が合致する位置で停止する。なお、支持
台２６の高さは、そのウェハ支持部２６の上端面がクエ
ハカセッ）３０Ａ〜３０Ｄあるいは搭載台３１に収納さ
れたウェハＩＡ〜ＩＤの裏面より下方に位置する高さに
予め調整されており、これにより、支持台２６はスムー
ズにウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄの一つあるいは搭載
台３１の内部に進入することができる。その後、クエへ
カセット内の支持台２６は上昇し、そのウェハ支持部２
６ａの上端面が指定されたサイズのウェハの裏面に当接
した時点で停止する。このとき、ウェハ支持部２６ａに
設けられている真空吸着口２４が真空源により絶えず真
空吸引されているために、ウェハはウェハ支持部２６ａ
に吸着固定される。ウェハが吸着固定されたことを不図
示の圧力スイッチ等の検出手段が検知すると、支持台２
６は後退を開始する。なお、搭載台３１を使用している
場合には、ウェハ支持部２６ａの上端面とウェハの裏面
とが当接した後も支持台２６は上昇を続け、ウェハ支持
部２６ａに吸着固定されたウェハが搭載台３１に形成さ
れた一番大きなサイズのウェハに適合する凹溝１８ａの
上方に位置した時点で停止し、後退を開始するようにな
っている。

そして、所定の位置まで後退した支持台２６は旋回動を
開始し、そのウェハ支持部２６ａが中継受け渡し機構３
８と相対向する位置で停止する。次いで、支持台２６は
再び前進を開始し、ウェハ支持部２６ａに吸着固定され
たウェハの中心と中継受け渡し機構３８の中継台３５の
中心が合致する位置で停止する。なお、中継台３５の高
さは、その上端が支持台２６のウェハ支持部２６ａの上
端面より下方に位置する高さに予めｖＩ４整されており
、これにより、支持台２６の前進の際にウエノ１と中継
台３５とが相互干渉するのを防止している。その後、支
持台２６は下降を開始する。そして、支持台２６のウェ
ハ支持部２６ａに吸着固定されたウェハがウェハサイズ
に適合する中継台３５に形成された凹溝３６ａ〜３６ｄ
のうちの一つに到達した時点で、ウェハ支持部２６ａの
真空吸着口２４に通じる真空源が遮断されて別のバイパ
ス回路から大気が導入され、ウェハの吸着固定が解除さ
れる。支持台２６はさらに下降を続けるが、ウェハ支持
部２６上のウェハが中継台３５に形成された門構３６　
ａ〜３６ｄの一つの底部に当接し中継台３５１Ｃ受け渡
されると同時に停止する。なお、第１のハンドリング機
構２３の位置決め誤差およびウェハを吸着する際の左右
９前後方向の吸着誤着を考慮して、中継受け渡し機構３
８の中継台３５の凹溝３６ａ〜３６ｄはその側面をテー
バ状に形成され【いる。受け渡し終了後、支持台２６は
後退を開始し、所定の位置で停止する。次に、中継受け
渡し機＄３８を間に挾んで第１のハンドリング機構２３
と対向するように配電された第２のノ・ンドリング機構
４２が動作を開始する。すなわち、移送台３９が前進を
開始し、中継受け渡し機構３８の中継台３５に形成され
た切り欠き３７に沿ってウェハの下方に進入し、ウェハ
の中心と移送台３９に形成した凹溝４０ａ〜４０ｄの中
心が合致する位置で停止する。移送台３９の停止後、中
継受け渡し機＃Ｉ３８の中継台３５が下降を開始し、中
継台３５の凹溝３６　ａ〜３６ｄの一つの底部に載置さ
れているウェハが移送台３９の凹溝４０　ａ〜４０ｄの
一つの底部に当接し、中継台３５から移送台３９ヘウエ
ハが受け渡しされる。なお、移送台３９の凹溝４０ａ〜
４０ｄの側面も上記した中継台３５の場合と同様の理由
でテーパ状に形成されている。

そして、受け渡し完了後、中継台３５は下限位置まで下
降して停止する。中継台３５が停止すると、ウェハを載
置した移送台３９は後退を開始し、所定の位置に到達し
た時点で停止する。続いて、移送台３９は処理ステージ
曹ン５８に向かって旋回動した後、再び前進を開始し、
ウェハを処理ステージ四ン５８へと搬送する。処理ステ
ージ膀ン５８へ搬送されたウェハはそこで化学的処理あ
るいは物理的処理等を施された後に、上述した動作とは
逆の動作により、再びウェハ供給ステージ曹ンを構成し
ているウェハカセット３０Ａ〜３０Ｄの一つあるいは搭
載台３１に逆搬送される。

以上の動作の繰り返しにより、本発明に係るウェハ搬送
装置においては、ウェハのサイズを指定するだけで、段
取り替えをすることなくサイズの異なる複数種のウェハ
を連続的に処理することが可能である。

第５図は防塵対策を施した本発明に係るウェハ搬送装置
を示すもので、第１図及び第２図に示したウェハ搬送装
置と相違する点は、第１のハンドリング機構２３と中継
受け渡し機構３８との間、中継受け渡し機構３８と第２
のハンドリング機構４２との間、及び第２のハンドリン
グ機構４２と処理ステージ１ン５８との間にそれぞれ真
空仕切弁５９ａ、５９ｂ、５９ｃを設け、中継受け渡し
機構３８、第２のハンドリング機構４２、及び処理ステ
ージ嘗ン５８をそれぞれ第１の真空準備室６０、第２の
真空準備室６１．及び真空処理室６２内に収納した点に
ある。すなわち、室外大気側に配置されたウェハ供給ス
テージ冒ン３４に待機しているウェハを、通常は真空圧
に保持されその内部に収納された中継受け渡し機構３８
が室外の第１のハンドリング機構２３との間でウェハの
受け渡しを行う時にのみ大気圧に開放される第１の真壁
準備室６０と常時真空圧に保持されている第２の真空準
備室６２とを経由して、真全処理室６２内に収納された
処理ステージ嘗ン５８へ搬送する構成としたことにより
、大気側から塵埃等の異物が真空処理室６２内に侵入す
るのを確実に防止することが可能になり、ウェハの良品
率は大幅に向上する。さらに、大気圧状態と真空圧状態
とを交互に繰り返えす第１の真空準備室６０は中継受け
渡し機構３８を収納するだめの最小限の内部スペースを
有していれはよく、極めて小形のものにすることが可能
であるから、従来装置と比較して、ウェハのロード、ア
ンロードに要するアイドルタイムが低減され、生産性の
面でも大幅な向上を図ることができる。

〔発明の効釆〕

以上の説明から明らかなように本発明に係るウェハ搬送
装置においては、サイズの異なるウェハを収納する複数
種のウェハカセット、あるいはサイズの異なるウェハの
それぞれに適合する複数の円形状の凹溝が形成された搭
載台のいずれか一方、または両方からウェハ供給ステー
ジ四ンを構成し、このウェハ供給ステージ■ンからのウ
ェハの搬出を一台の第１のハンドリング機構で行うよう
にしたので、段取り替えをすることなくサイズの異なる
複数種のウェハを搬送することができ、従来装置で問題
となっていたロスタイムや交換コストがな（なり、トー
タルコストの低減を図ることができる。また、第１のハ
ンドリング機構の支持台σ）旋回中心からの距離が等し
くなるよう・に同一円周上に複数種のウェハカセットお
よび搭載台を配置しているので装置を小型のものにする
ことができる。さらに、第１のハンドリング機構にあっ
ては支持台の真空吸着により、中継受け渡し機構及び第
２のハンドリング機構にあってはそれぞれ中継台及び移
送台に形成された円形状の凹溝により、クエへを拘束し
ているので、精度の高いウェハの位置決め及び確実なウ
ェハの搬送を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図から第６図は本発明に係るウェハ搬送装置を示す
もので、第１図は本発明に係るウェハ搬送装置を上方か
ら見た概略平面図、第２図は第１図に示したウェハ搬送
装置の要部斜視図、第３図は第２のハンドリング機構の
駆動部の縦断面図、第４図は第３図に示した第２のハン
ドリング機構の動作説明図、第５図は防塵対策を施した
本発明に係るウェハ搬送装置を上方から見た概略平面図
、第６図は従来のウェハ搬送装置の要部縦断図、第７図
はウェハサイズの変更に対応することを目的とした従来
のウェハ搬送方法の説明図である。 ＩＡ〜ＩＤ：’７エハ、２３；第１のハンドリング機構
、２６；支持台、３０Ａ〜３０Ｄ；ウェハカセット、３
１；搭載台、３２ａ〜３２ｄ；凹溝、３５；中継台、３
６ａ〜３６ｄ；凹溝、３８；中継受け渡し機構、３９；
移送台、４０ａ〜、ｉｏａ不　３　（２） ギ乙図 釘 不　乙　（２）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）ウェハを真空吸着する支持台と、この支持台を前後
   方向、上下方向、及び水平旋回方向に移動させる駆動部
   とを備える第１のハンドリング機構と、 前記第１のハンドリング機構の支持台の旋回中心からの
   距離が等しくなるように同一円周上に配置され互いにサ
   イズの異なるウェハを収納する複数種のウェハカセット
   、あるいはサイズの異なるウェハのそれぞれに適合する
   複数の円形状の凹溝が上部側に段状に形成された搭載台
   のいずれか一方、または両方とからなるウェハ供給ステ
   ーションと、 サイズの異なるウェハのそれぞれに適合する複数の円形
   状の凹溝が上部側に段状に形成された中継台と、この中
   継台を上下方向に移動させる駆動部とを備え、前記第１
   のハンドリング機構との間でウェハの受け渡しを行う中
   継受け渡し機構と、サイズの異なるウェハのそれぞれに
   適合する複数の円形状の凹溝が上部側に段状に形成され
   るとともに前記中継受け渡し機構の中継台に載置された
   ウェハの下方に進入可能な移送台と、この移送台を前後
   方向及び水平旋回方向に移動させる駆動部とを備え、前
   記中継受け渡し機構との間でウェハの受け渡しを行う第
   ２のハンドリング機構、とからなることを特徴とするウ
   ェハ搬送装置。