JPH01233346A - 散乱透過光の測定装置 - Google Patents

散乱透過光の測定装置

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Publication number
JPH01233346A
JPH01233346A JP6132088A JP6132088A JPH01233346A JP H01233346 A JPH01233346 A JP H01233346A JP 6132088 A JP6132088 A JP 6132088A JP 6132088 A JP6132088 A JP 6132088A JP H01233346 A JPH01233346 A JP H01233346A
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JP
Japan
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sample
light
scattered light
region
entrance slit
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Pending
Application number
JP6132088A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomiyuki Maeda
前田 富之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光散乱性試料の透過光測定装置に関する。
(従来の技術) 光散乱性を有する試料では光散乱強度は光の波長の4乗
に逆比例して増大する。このため光散乱性試料の光透過
率は短波長側では見掛上小さ(観測される。従来赤外分
光光度計で半透明試料の測定を行う場合、特別な装置構
成をとっていないので、短波長側では散乱による光のロ
スが起きる。
このため短波長側で透過光スペクトルのピークが不明瞭
になる。従来はこの対策としてデータ処理により短波長
側のスペクトルの光散乱による光ロス分の補正を行う方
法が用いられている。
(発明が解決しようとする課題) 上述したデータ処理による光散乱に対する補正は要する
に短波長側で機械的に測定値を拡大するものであるから
、ノイズも一緒に拡大されてしまい、測定結果のS/N
比は改善されない。即ち短波長側では散乱による光ロス
の分だけ光量が減っているので、長波長側より測定のS
/N比が低下しているのに、S/N比の低下は補償され
ない。
本発明は光学的な方法を用いることにより、散乱による
光ロスのデータ処理による補正におけるS/N比低下の
問題を解消しようとするものである。(課題を解決する
ための手段) 試料透過光を試料に対して張る立体角の大きな集光光学
素子により測光装置の入口開口に集光させるようにした
(作 用) 光散乱性試料による散乱光強度は試料を直進透遇した非
散乱光と同じ方向で最大であり、非散乱透過光からの離
角が大となる弱くなる。試料に対して張る立体角の大き
な集光素子を用いると、試料を透過した非散乱透過光と
、それに近い方向の強い散乱光の大部分とが共に測光系
に入射せしめられ、散乱光エネルギーの大部分を測光系
に入射させることができる。従って短波長側で光の散乱
が増大しても測光系への光の入射効率は長波長側の光の
場合に比し余り低下せず、短波長側でS/N比の低下な
しに透過光を測定することができる。
(実施例) 図は本発明の一実施例を示す。lは光源、2は集光鏡で
3は測光装置であり、分光器Mと光検出器りと測光回路
Aとよりなっており、4は測光装置の入口開口である分
光器Mの入口スリットである。集光鏡2はその反射光を
直進させた場合光源1の光を入口スリット4上に集光す
るようにしである。5,6は平面鏡で、集光j!2で反
射された光源1の光を凹面鏡7上の一点Oに集光させる
鏡6と7との間に試料Sが置かれる。凹面鏡7で反射さ
れた光は平面鏡8で反射され、分光器Mの入口スリット
4に入射せしめられる。凹面鏡7は試料S上の一点pか
ら発散する光を入口スリット4上に集光するようにした
楕円面鏡である。集光鏡2.平面鏡5,6.凹面鏡7.
平面鏡8および試料Sの位置決め装置9は一つの基板1
0上に取付けられ、全体として図の位置に着脱可能であ
り、非光散乱性の試料或は特に光散乱を問題にしな(で
もよい試料の測定の場合、上記した鏡2から8までの装
置は取除いて、図の鎖線位置に試料を置いて測定を行う
ことができる。
図の構成で試料Sを透過した非散乱光は凹面鏡7上の一
点Oに集光した後、集光角θと同じ発散角θで反射され
て入口スリット4を含む領域R上に分布する。他方凹面
鏡7は試料上の中心点pの像を入口スリット4上に形成
しているので、入口スリット4を含む領域Rに試料Sの
光照射領域rの像を形成し、この像は試料から立体角ω
内に発散される散乱光によるものであるから、立体角ω
内に発散された散乱光が領域R内に集光されたことにな
る。
試料S上に光源の光を集光させることによって試料が熱
的な影響を受けるおそれがない場合、平面鏡5或は6の
何れかを凹面鏡にして光源の光を試料S上に集光させる
ようにすると、試料を透過した非散乱光も散乱光も共に
入口スリット4上に集光されるので、光の利用効率は上
側より向上する。
(発明の効果) 従来装置は図で鏡5.6.7.8がなくて試料を鎖線位
置に置く構成で光散乱性の試料の測定も行っていたので
、光散乱分だけ測光系への入射光が減って短波長域での
測定でS/N比が低下していたから、仮に散乱の補正を
行っても測定精度および感度の向上は得られなかったが
、本発明によれば、上述したように、試料を透過した散
乱光は集光素子によって測光系の入口開口上に集められ
ているので、光散乱による見掛の透過率の低下が補償さ
れてデータ処理による補正が不要となり、従ってデータ
処理による補正機能のない装置でも、測定可能であり、
散乱光も加えて測光しているので、測光系への入射エネ
ルギーが従来例より増加して散乱性試料測定時のS/N
比が向上し、測定感度、精度の向上が得られる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例装置の平面図である。 1・・・光源、2・・・集光鏡、3・・・測光装置、4
・・・入口スリット、5,6.8・・・平面鏡、7・・
・凹面鏡、M・・・分光器、A・・・測光回路、D・・
・光検出器。 代理人  弁理士 縣  浩 介

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 試料と測光装置の入口開口との間に、試料において散乱
    された光を入口開口上に集光させる集光光学素子を配置
    したことを特徴とする散乱透過光測定装置。
JP6132088A 1988-03-15 1988-03-15 散乱透過光の測定装置 Pending JPH01233346A (ja)

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JP6132088A JPH01233346A (ja) 1988-03-15 1988-03-15 散乱透過光の測定装置

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JPH01233346A true JPH01233346A (ja) 1989-09-19

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