JPH01230494A - 液相エピタキシャル成長装置におけるボート搬送方法 - Google Patents

液相エピタキシャル成長装置におけるボート搬送方法

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Publication number
JPH01230494A
JPH01230494A JP5573188A JP5573188A JPH01230494A JP H01230494 A JPH01230494 A JP H01230494A JP 5573188 A JP5573188 A JP 5573188A JP 5573188 A JP5573188 A JP 5573188A JP H01230494 A JPH01230494 A JP H01230494A
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JP
Japan
Prior art keywords
boat
manifold
reaction tube
gate valve
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP5573188A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Morita
森田 洋一
Michio Toki
戸木 教夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Sagami Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Sagami Ltd
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Publication date
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、液相エピタキシャル成長装置におけるボート
搬送方法に関する。
(従来の技術) 液相エピタキシャル成長装置において、基板および溶液
を搭載したボートを反応管内に搬送するための従来方法
について、第2図を参照して説明する。
同図において、反応管1は例えば石英ガラスで円筒状に
形成され、その周囲に加熱装置2を有すると共に、開口
端側にはゲートバルブ3が設けられている。また、この
ケートバルブ3側を固定端とする中空筒形状のガス置換
用チャンバーとしてのマニホールド4か設けられている
一方、上側を溶液溜め部5aとし、下側を基板載置部5
bとするボート5は、それぞれ石英製のブツシュロッド
6a、6bによってスライド移動自在に支持され、この
ブツシュロッド6a、6bは共にポートローダ装置7に
よって一体的に移動自在であると共に、上側のブツシュ
ロッド6aはさらにボートスライタ装置8によって独立
して移動自在となっている。なお、ブツシュロッド6a
6b途中には、前記ガス置換用チャンバーであるマニホ
ールド4の開口端を閉鎖するためのキャップ部材9か固
定されている。
また、マニホールド4外にあるボート5を載置支持する
なめのトレイステーション10が昇降自在に設けられて
いる。
このような装置においては、先ず、第2図(a)に示す
ように、ボー1〜5をトレイステーション10上にセラ
l−して、ボー1−5の底面かマニホールド4の内面と
面一になるまで十昇さぜ、この後ボートロータ装置7の
駆動によってブツシュロッド6a、6bを同図の左側に
移動させる。そして、第2図(b)示すように少なくと
もボート5の重心かマニホールド4内・に来るまで移動
されたら、このタイミングでトレイステーション10を
下降させる。
この後もボート5の移動を続行することで、ボート5は
完全にマニホールド4内に包囲され、また、キャップ部
材9によってマニホールド4の開口部が密閉されること
になる。そして、キャップ部材9によってマニホールド
4の開口部が密閉されるタイミングで、前記ボートロー
タ装置7の駆動を停止する(第2図(c)参照)。
この後、マニホールド4内を真空引きし、さらに水素H
2パージをおこなう。
なお、ここまでの動作はゲートバルブ3を閉鎖した状態
で行うことになる。
パージ終了後に、前記ゲートバルブ3を開放し、ボート
ローダ装置7の駆動によってボート5を反応管1内に搬
入し、炉芯に達した所で駆動を停止する(第2図(d、
 )参@)。
その後は、周知の工程に従って液相エピタキシャル成長
プロセスを実行することになる。
なお、プロセス終了後のボート5の搬出は、上記搬入動
作の逆工程を実施することにより行なわれる。
(発明が解決しようとする問題点) 1従した従来のボート搬送方法によれば、先ず、ボート
5の停止1−位置として、第2図(a)。
(c)、(d)の3か所が必要となり、トレイステーシ
ョン10の下降時にボート5を停止するとずれば停止位
置は4か所となり、この各位置での停、止制御を行う必
要がある。
また、所定のタイミングでトレイステーション10を」
二下動する制御も必要であり、停止位置制御と併せて機
械的および電気的な駆動制御が複雑となっていた。
さらに、ボート5の移動ス1−ロークとしては、反応管
1内の炉芯位置よりマニホールド4外に完全に離脱され
る位置までの移動ストロークを要している。
このように、ボー1−5の移動ストロークが長いため、
必然的に液相エピタキシャル成長装置の設置面積が増大
し、単位面積あたりのコストが高いクリーンルーム内で
の設置は小スペース化が要求されているにも拘らず、こ
の要求を満足することができなかった。
政た、移動ストロークが大きいなめ、石英製のブツシュ
ロッド6a、6bの長さも長くなり、撓みの発生、破損
の恐れか多く、また、強度的な問題の他にも高価な材料
を多く必要とするためにコストアツブとなっていた。
そこて、本発明の目的とするところは、上述した従来の
問題点を解決し、ボートの停止位置を少なくすることに
より移動制御の簡易化か図れ、しかもボートの移動スト
ロークを短縮することで設置面積の減少等を図ることが
できる液相エピタキシャル成長装置のボート搬送方法を
提供することにある。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、液相エピタキシャル成長装置のボートを反応
管に搬入するにあたり、 反応管開口部を閉鎖するゲートバルブとガス置換用チャ
ンバーとの間にボートを配置し、ガス置換用チャンバー
をゲートバルブ側に移動包囲して上記ボートを密封し、 ガス置換用チャンバー内をガス置換し、その後にケーI
・バルブを開放してボートを搬入することで、液相エピ
タキシャル成長装置におけるポート搬送方法を構成して
いる。
(作用) 本発明では、反応管開口部を閉鎖するゲートバルブとガ
ス置換用チャンバーとの間にあるボートに対し、ガス置
換用チャンバーを移動することでボートを包囲すること
ができ、この際に必要なガス置換を実行することができ
る。一方、プロセス開始前にボートをセットする場合、
およびプロセス終了後にボートを離脱する場合には、上
記位Vにホードを停止した吐ま、ガス置換用チャンバー
を退避することでボー1へのセットおよび離脱動作を実
行することがてきる。
従って、ボートの停止位置としては、−F述したケート
バルブとガス置換用チャンバーとの間の第1の停止位置
と、反応管の炉芯であるプロセス位置に対応する第2の
停止位置との2が所で済む。
従って、ボートの移動制御が容易となり、制御機構が簡
易化される。
、tな、ボートは炉芯位置に相当する第2の停止位置と
、ゲートバルブ外の第1の停止位置との間を移動ずろた
けで済むので、従来よりも少なくともボー1への長さ分
(従来の固定されたガス置換用チャンバーよりボートを
離脱する分のストローク)たけ移動ストロークか短くな
り、この分たけ設置面積が減少すると共に、ブツシュロ
ッドも短くて済むのて、強度−Lの問題等も解消するこ
とかできる。
(実施例) 以干、本発明を図示の実施例に従って、具体的に説明す
る。
なお、第1図において、第2図に示した部材と同一機能
を有する部材については同一符号を付してその詳細な説
明を省略する。
第2図に示した従来構造と相違する点について説明する
と、従来のマニホールド4をチーI・バルブ3側に固定
されたものと、移動可能なものとに分割した構成を採用
している。すなわち、反応管1に接続されているゲート
バルブ付きマニホールド20は、マニホールド部分が短
く、外周にはロック部21を備え、下端には反応管1と
遠ざかる方向にボート台22を片持ち状として固定して
いる。このボート台22は、ステンレスあるいは石英等
で構成されている。
そして、このマニホールド20に接離自在にスライド移
動可能なガス置換用チャンバーの一例であるロードロッ
クチャンバー30が設けられている。このロードロック
チャンバ−30は、例えばステンレスによって中空筒状
に形成され、マニホールド20と対向する側は開口し、
外周の前記ロック部21によってロックされる被係止部
31が形成されている。また、ロードロックチャンバー
30の他端側はブツシュロッド6a、6bの通過経路以
外は密閉され、この通過経路にはシールボート32が装
着されている。このシールボート32は、ブツシュロッ
ド6a、6bの移動が不可で気密状態を保持できるクロ
ーズ状態、気密状態を保ちかつブツシュロッド6a、6
bの移動を許容するハーフクローズ状態および気密状態
を解除したオープン状態の3つの状態を、例えは空気圧
の調整等によって実行可能としている。
また、前記ロードロックチャンバー30は、チャンバー
スライタ33によって支持され、このヂャンバースライ
ダ33は、ボー1へ台22」二のボート5を完全に霧出
してセットおよび収り外しが可能な退避位置と、ボート
台22」−のボート5を完全に密閉包囲可能なパージ位
置とに、移動可能となっている。
なお、前記ロードロックチャンバー30内を真空引きし
、かつ、ガスの排気が可能な排気管23が、前記ゲート
バルブ付きマニホールド20の例えば下端に接続され、
かつ、前記ロードロックチャンバー30内に水素H2、
チッ素N2等のガスを導入可能なガス導入管34が、前
記排気管23よりも離れた位置であるロードロックチャ
ンバー30の例えば右」二端に接続されている。なお、
このガス導入管34は、ロードロックチャンバ−30が
移動可能であるため、好ましくはフレキシブルチューブ
て構成することか望ましい。また、この種のガス導入管
としては、必ずしもロードロックチャンバ−30に配置
するものに限らず、固定側のマニホールド20に固定す
るようにしても良い。この場合、ガス置換を効率良く行
なうためには排気管23となるべく遠ざけた位置よりガ
ス噴出を実行する必要があるため、マニホールド20の
固定側よりノズルを延在させてその一端よりガス噴出す
ることができ、このノス゛ルはボート台22の下側ある
いは側面に配置するか、ボート5の設置位置の上方に配
置することもできる。
次に、上記実施例装置での本発明に係わるボート搬送方
法の一実施例について説明する。
先ず、ゲートバルブ3を閉鎖した状態として、反応管1
側を真空引きおよび水素N2パージによりガス置換して
おく。
その後、ゲートバルブ付きマニホールド20より右側の
領域を包囲するN2ボックス(図示せす)内にボート5
を入れ、当初は固体状の材料を加熱した後に溶液溜め部
5aにセットし、この後この溶液溜め部5aおよび基板
載置部5bを重ね合わせてボート5を形成し、このボー
ト5をボート台22上にセットする。なお、この種の作
業はN2ボックスに形成されたグローブを介して人手に
よって実行される。
また、上記ボート5のボート台22上へのセットにあた
り、ロードロックチャンバー30は第1図(a)に示す
ように、退避位置に設定しておく。
ボート5のセット終了後に図示しない駆動機構によって
チャンバースライダ33をマニホールド20側に移動さ
せ、両者の開口部を図示しないシール部材を介して当接
させる。この際、シールボート32はオープン状態とな
っていて、さらに、例えばエアー駆動等によってマニホ
ールド20のロック部21か駆動され、ロードロックチ
ャンバー30の被係止部31をロックする。このロック
動作および前記シールボート32をクローズ状態とする
ことで、ロードロックチャンバー30はボート5を包囲
した状態で完全に密封されることになる(第1図(b)
参照)。
なお、前記シールボート32は、ブツシュロッド6a、
6bを移動する必要がある場合にはハーフクロース状態
とされ、それ以外の時はクローズ状態とされ、常時気密
状態を維持できるように調整されることになる。
第1図(b)の状態で、ロードロックチャンバー30内
を排気管23を介して真空引きし、さらに水素ガスH2
をガス導入口34を介して導入することで、水素パージ
を実行してガス置換を行なう。
この後、ゲートバルブ3を開放し、ボートローダ装W7
によってブツシュロッド6a、6bを駆動し、ボート5
をボート台22上で滑らせて反応管1内に搬入する。な
お、ゲートバルブ3の開放後に反応管1およびロードロ
ックチャンバー30を連通させて両方を同時にガス置換
することも可能であるが、このようなガス置換は装置の
初期設定時および反応管1の洗浄後に実行すれば足り、
それ以外のときには反応管1は大気と完全に分離するこ
とができるので、上記の連通状態でのガス置換をプロセ
ス毎に行なわなくて済む。
ボート5の反応管1内への設定にあたり、ボート5は反
応管1の炉芯にセットされる第2の停止位置で停止され
る。そして、この位置で液相エピタキシャル成長プロセ
スを実行し、このプロセス中に溶液溜め部5aを基板載
置部5bに対してボートスライダ装置8の駆動によって
スライド移動することで、ボートスライド法によるプロ
セスを実行することができる。
このプロセスの終了後に、ボート5をボートロータ装置
7の駆動によって反応管1より搬出し、第1図(b)に
示すように、ロードロックチャンバー30によって包囲
されるイニシャル位置としての第1の停止位置まで移動
して停止される。
このボート搬出時には、第1図(b)の位置で、ゲート
バルブ3を閉鎖し、ここでクーリングを実行し、ボート
5のハンドリングが可能な温度まで冷却する。
さらに、N2ボックス内の雰囲気と同一雰囲気とするた
めに、N2パージを実行し、この後にロードロックチャ
ンバー30をイニシャル位置である退避位置まで後退さ
せる。
このようにして、ボート5の周囲は開放されるので、ボ
ート5のハンドリングが可能となり、次の処理に移行す
ることができる。
このように、本実施例においては、先ず、ボート5の停
止位置か、ボート5のセット位置である第1の位置と、
反応管1内のプロセス位置である第2の位置との2か所
たけて済むので、従来の第2図に示ず3ポジシヨンある
いは4ポジシヨンで停止制御を行なうものに較べて停止
制御が簡易となる。しかも、上記実施例ではボート台2
2は固定でありエレベータ機構を要しないので、この駆
動を省くことができ、全体として駆動制御が大幅に簡易
となる。
次に、ボート5の移動ストロークとしては、炉芯からゲ
ートパルプ付きマニホールド2o外に完全に離脱される
位置までとなり、従来に比べて少なくともマニホールド
4の長さに相当するボート長分のストロークを短くする
ことができ、その分設置面積か減少するので、クリーン
ルーム内にしめる占有面積を縮小することができる。ま
た、ブツシュロッド6a、6bの長さも短くすることが
でき、強度上の問題もなくなり、しがもコストタランを
図ることかできる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、上記実施例ではボート台22をマニホールド3
0に固定する方式を採用したが、ボート5のセットを容
易とするために昇降並びに前後動自在なI・レイステー
ションを採用することもできる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば反応管開口部を閉
鎖するゲートパルプとガス置換用チャンバーとの間にボ
ートを配置し、ガス置換用チャンバーをスライド移動し
て上記ボートを包囲し、ガス置換用ヂャンバー内をガス
置換しているので、従来よりも反応管に近接した位置で
ボートをセラ1へし、この位置でガス置換を実行できる
ので、ボートの停止位置としては、イニシャル位置とプ
ロセス位置との2か所で済み、ボートの停止制御が簡易
となる。また、ボートの移動、ストロークも短くなるの
で、装置の設置面積の減少を図ることができ、さらにボ
ート移動用のブツシュロッドを短くすることかできると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例方法を説明するための概略
説明図、 第2図は、従来のボート搬送方法を説明するための概略
説明図である。 1・・・反応管、 3・・・ゲートパルプ、 5・・・ボート、 6a、6b・・・ブツシュロッド、 20・・・マニホールド、 30・・・ガス置換用チャンバー 32・・・シールボート。 代理人 弁理士 井 上  −(他1名)q只−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  液相エピタキシャル成長装置のボートを反応管に搬入
    するにあたり、 反応管開口部を閉鎖するゲートバルブとガス置換用チャ
    ンバーとの間にボートを配置し、 ガス置換用チャンバーをゲートバルブ側に移動包囲して
    上記ボートを密封し、 ガス置換用チャンバー内をガス置換し、 その後にゲートバルブを開放してボートを反応管内に搬
    入することを特徴とする液相エピタキシャル成長装置に
    おけるボート搬送方法。
JP5573188A 1988-03-09 1988-03-09 液相エピタキシャル成長装置におけるボート搬送方法 Pending JPH01230494A (ja)

Priority Applications (1)

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JP5573188A JPH01230494A (ja) 1988-03-09 1988-03-09 液相エピタキシャル成長装置におけるボート搬送方法

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JP5573188A JPH01230494A (ja) 1988-03-09 1988-03-09 液相エピタキシャル成長装置におけるボート搬送方法

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5742209A (en) * 1980-08-27 1982-03-09 Hitachi Ltd Negative feedback amplifier

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5742209A (en) * 1980-08-27 1982-03-09 Hitachi Ltd Negative feedback amplifier

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