JPH01226750A - 絶縁ペースト用無機組成物 - Google Patents
絶縁ペースト用無機組成物Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/16—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
-
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- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は主として厚膜多層電子回路の絶縁層を形成する
際に用いられる絶縁ペーストにあって、該ベートを製造
する際に原料とされる絶縁ペースト用無機組成物に関す
る。
際に用いられる絶縁ペーストにあって、該ベートを製造
する際に原料とされる絶縁ペースト用無機組成物に関す
る。
(従来の技術)
AuNやSiCなどの非酸化物を基板として厚膜多層の
電子回路を形成する場合には作成された抵抗被膜の安定
性を確保するため、従来から回路上をガラス絶縁体で被
覆処理して居たり、850℃乃至950℃にて焼成し絶
縁ペーストとして使用される組成物としては、例えば特
公昭51−10844、特公昭51−86168.特公
昭52−34645.特公昭60−50003.特公昭
60−54721等に示された如く、熱処理により結晶
化し得るガラスペースト及び耐火物フィラーを混合した
ガラスペースト等が多用されている。
電子回路を形成する場合には作成された抵抗被膜の安定
性を確保するため、従来から回路上をガラス絶縁体で被
覆処理して居たり、850℃乃至950℃にて焼成し絶
縁ペーストとして使用される組成物としては、例えば特
公昭51−10844、特公昭51−86168.特公
昭52−34645.特公昭60−50003.特公昭
60−54721等に示された如く、熱処理により結晶
化し得るガラスペースト及び耐火物フィラーを混合した
ガラスペースト等が多用されている。
(発明が解決しようとする課題)
近年、電子部品工業の進歩に伴って、厚膜多層回路には
より高い配線密度及びより速い信号応答性が要求されて
来ている。配線密度を高くする為にはそれに伴う発生熱
量の増加に対応して、絶縁層の熱放散性、即ち、熱伝導
率を大きくする必要があり、又信号応答性を速くする為
には信号伝搬速度の障害となる誘電率を小さくする必要
がある。
より高い配線密度及びより速い信号応答性が要求されて
来ている。配線密度を高くする為にはそれに伴う発生熱
量の増加に対応して、絶縁層の熱放散性、即ち、熱伝導
率を大きくする必要があり、又信号応答性を速くする為
には信号伝搬速度の障害となる誘電率を小さくする必要
がある。
しかし乍らこのような市場の要求を満たす為には、従来
から利用されて来たガラスペーストは緻密な絶縁層を形
成することができるものの、熱伝導率が小さいことや誘
電率が大きいこと等の欠点がある。
から利用されて来たガラスペーストは緻密な絶縁層を形
成することができるものの、熱伝導率が小さいことや誘
電率が大きいこと等の欠点がある。
従来のガラスペーストでは熱伝導率を向上させる為にア
ルミナ粉末を多く混合すれば1000℃以上の高温焼成
が必要となり、絶縁層の緻密性も悪くなる。また焼成温
度を850℃〜950℃の間に保つ為に鉛ガラス等の含
有率を多くすると誘電率が10以上に大きくなる欠点が
ある。
ルミナ粉末を多く混合すれば1000℃以上の高温焼成
が必要となり、絶縁層の緻密性も悪くなる。また焼成温
度を850℃〜950℃の間に保つ為に鉛ガラス等の含
有率を多くすると誘電率が10以上に大きくなる欠点が
ある。
更に、鉛ガラス以外のガラス成分として、比較的誘電率
の小さいホウ硅酸ガラスを用いた場合、その成分中にア
ルカリが無いと熱膨張率が小さくなり、多層回路基板を
構成した時、歪みや亀裂が出品いうえ、基板を製作する
為の焼成温度は1000”C以上の高温が必要になる。
の小さいホウ硅酸ガラスを用いた場合、その成分中にア
ルカリが無いと熱膨張率が小さくなり、多層回路基板を
構成した時、歪みや亀裂が出品いうえ、基板を製作する
為の焼成温度は1000”C以上の高温が必要になる。
また、アルカリを加えると絶縁抵抗誘電体損等の電気特
性が悪くなる。
性が悪くなる。
一般に低周波領域で誘電率や誘電体損の小さいガラスを
得る為にはイオン移動度の大きいLi”。
得る為にはイオン移動度の大きいLi”。
Na“、Mg” を極力少なくして強固な網目構造をと
るような組成のガラスを作り、伝導損失を小さくする必
要があり、高周波領域で誘電率、誘電体損の小さいガラ
スを得る為にはPb2+等の重金属イオンを極力少なく
して強固な網目構造をとるような組成のガラスを得て、
振動損失を小さくする必要がある。
るような組成のガラスを作り、伝導損失を小さくする必
要があり、高周波領域で誘電率、誘電体損の小さいガラ
スを得る為にはPb2+等の重金属イオンを極力少なく
して強固な網目構造をとるような組成のガラスを得て、
振動損失を小さくする必要がある。
以上の条件に適合すると共に、無機粉末と混合しても焼
成温度を低くする事が出来、且つ絶縁抵抗等の電気特性
を向上させる能力を持つガラス成分として硼酸があげら
れるが、硼酸は電気特性の向上効果を示す一方、熱膨張
係数を小さくすると云うマイナスの効果を示す事が知ら
れて居り、更にアルカリ成分の少ない絶縁ガラスペース
トの製造に際してはアルミナ基板とペーストの熱膨張係
数を整合させねばならぬとの制約から硼酸成分を多く配
合することが許されなかった。
成温度を低くする事が出来、且つ絶縁抵抗等の電気特性
を向上させる能力を持つガラス成分として硼酸があげら
れるが、硼酸は電気特性の向上効果を示す一方、熱膨張
係数を小さくすると云うマイナスの効果を示す事が知ら
れて居り、更にアルカリ成分の少ない絶縁ガラスペース
トの製造に際してはアルミナ基板とペーストの熱膨張係
数を整合させねばならぬとの制約から硼酸成分を多く配
合することが許されなかった。
このように市場では熱伝導率と誘電率を改善し、低温焼
成にても機械的強度と緻密性に優れた絶縁層を製作出来
るガラスペースト用の無機組成物の出現が大きく望まれ
ていた。
成にても機械的強度と緻密性に優れた絶縁層を製作出来
るガラスペースト用の無機組成物の出現が大きく望まれ
ていた。
(課題を解決する為の手段)
本発明者等は鋭意研究の結果1重量%にて、Si0.3
0〜60%、Af120,2〜10%、B20.10〜
30%、pb○ 10〜30%及びCaO2〜10%と
、ZnO,MgO,Li、01Na20及びに、Oの夫
々の5%以下(たマし0%は除く)及びF、2%以下(
たマし0%は除く)のいづれかより選ばれた少なくとも
一種以上とを含み合計が100%となるよう組成のガラ
ス粉末並びニ(CaO+ Anzos ・2 S x
o、)、(AΩ20.・Sin、)、(3A Q z
Os・SiC2)、(Al1.○、)及び(CaCIS
iO,)から選ばれた少なくとも一種以上の無機粉末よ
り成り、前記ガラス粉末が重量%にて20〜60%、上
記無機粉末が80〜40%となるように夫々配合されて
いることを特徴とする絶縁ペースト用無機組成物を用い
る事により課題を解決する事を可能にしたものである。
0〜60%、Af120,2〜10%、B20.10〜
30%、pb○ 10〜30%及びCaO2〜10%と
、ZnO,MgO,Li、01Na20及びに、Oの夫
々の5%以下(たマし0%は除く)及びF、2%以下(
たマし0%は除く)のいづれかより選ばれた少なくとも
一種以上とを含み合計が100%となるよう組成のガラ
ス粉末並びニ(CaO+ Anzos ・2 S x
o、)、(AΩ20.・Sin、)、(3A Q z
Os・SiC2)、(Al1.○、)及び(CaCIS
iO,)から選ばれた少なくとも一種以上の無機粉末よ
り成り、前記ガラス粉末が重量%にて20〜60%、上
記無機粉末が80〜40%となるように夫々配合されて
いることを特徴とする絶縁ペースト用無機組成物を用い
る事により課題を解決する事を可能にしたものである。
(作用)
本発明において限定せるガラス粉末と無機粉末の混合比
及びガラス粉末の組成について各々の作用を以下に述べ
る。
及びガラス粉末の組成について各々の作用を以下に述べ
る。
即ち、S i O,はガラスのネットワーク形成要素と
して重要であるばかりではなく1回路の焼成中に絶縁ペ
ーストを軟化させない為に晶出させるアノーサイト結晶
を構成する主成分でもある。Si0.30重量%未満で
はガラスの軟化点を低くしすぎて軟化流動をはげしくり
、、60重量%を超えるとガラスの結晶化に要する温度
が1000’C以上となる為、850〜950℃の熱処
理では充分な性能の絶縁層を得る事が出来ない。
して重要であるばかりではなく1回路の焼成中に絶縁ペ
ーストを軟化させない為に晶出させるアノーサイト結晶
を構成する主成分でもある。Si0.30重量%未満で
はガラスの軟化点を低くしすぎて軟化流動をはげしくり
、、60重量%を超えるとガラスの結晶化に要する温度
が1000’C以上となる為、850〜950℃の熱処
理では充分な性能の絶縁層を得る事が出来ない。
AΩ2o、はガラスの分相を防止し、化学的耐久性を増
大させると共に、アノーサイト結晶を構成する成分であ
る。このA2□03が2%未満では、ガラスの分相防止
に対する効果が薄く、10%を超えると熱処理后の絶縁
層に気泡が多く残留するようになる。
大させると共に、アノーサイト結晶を構成する成分であ
る。このA2□03が2%未満では、ガラスの分相防止
に対する効果が薄く、10%を超えると熱処理后の絶縁
層に気泡が多く残留するようになる。
B2O3はガラスの溶融時に融剤として働くほかにも、
ガラスの網目構成成分となり、強固なガラスを作る効果
があり、電気特性を著しく向上させる。ガラス組成とし
てのB2O3は10%未満であっても、30重量%を超
えても熱膨張率が小さくなるのでアルミナ基板との伸縮
差が大きくなり、多層化した場合、歪みや亀裂による不
良品を生じ易くなる。又、B2O3が10%未満では誘
電率が10以上となって要求に外れる一方、30%を超
えるとアノーサイト結晶の晶出を阻害する。
ガラスの網目構成成分となり、強固なガラスを作る効果
があり、電気特性を著しく向上させる。ガラス組成とし
てのB2O3は10%未満であっても、30重量%を超
えても熱膨張率が小さくなるのでアルミナ基板との伸縮
差が大きくなり、多層化した場合、歪みや亀裂による不
良品を生じ易くなる。又、B2O3が10%未満では誘
電率が10以上となって要求に外れる一方、30%を超
えるとアノーサイト結晶の晶出を阻害する。
PbOはガラスの溶融時に融剤として働くが、10%未
満ではガラスの溶解性が不十分となり30%を超えると
ガラスの軟化点が低くなりすぎると共にガラスの保存性
が低下する。
満ではガラスの溶解性が不十分となり30%を超えると
ガラスの軟化点が低くなりすぎると共にガラスの保存性
が低下する。
Ca Oはガラスの絶縁性を増し、耐湿性を向上させる
と共に、アノーサイト結晶を構成する成分であるが、2
%未満ではその効果が乏しく10%を超えると熱処理后
に於いて絶縁層の化学的耐久性が劣化する。
と共に、アノーサイト結晶を構成する成分であるが、2
%未満ではその効果が乏しく10%を超えると熱処理后
に於いて絶縁層の化学的耐久性が劣化する。
以上のSin、、AQ、O,、B、O,、pbo及びC
aOがガラス粉末の主たる成分となるのであるが、本発
明ではこれに加えてZnO,MgO1Li、O,Na2
O、K、O及びF2の少なくとも一種以上を以下の範囲
について更に含むものである。
aOがガラス粉末の主たる成分となるのであるが、本発
明ではこれに加えてZnO,MgO1Li、O,Na2
O、K、O及びF2の少なくとも一種以上を以下の範囲
について更に含むものである。
ZnOはガラスの溶解時の粘性温度曲線を緩やかにする
効果があるが、限度範囲5%を超えると、誘電損失を大
きくする。
効果があるが、限度範囲5%を超えると、誘電損失を大
きくする。
以上の他の塩基性酸化物であるMgO,Li2O、N
a 20 、K 、 Oは何れもガラスの溶解性を向上
させると共に、ガラスの熱膨張率を調整する効果がある
が夫々の限定範囲5%を超えると誘電率、誘電体損が大
きくなる。
a 20 、K 、 Oは何れもガラスの溶解性を向上
させると共に、ガラスの熱膨張率を調整する効果がある
が夫々の限定範囲5%を超えると誘電率、誘電体損が大
きくなる。
F2はガラスの溶解性を改善すると共に、本発明の無機
組成物を用いたペーストの保存性を向上させる効果があ
るが、限定範囲2%を超えるとガラスの溶製時に炉を汚
染する危険性がある。
組成物を用いたペーストの保存性を向上させる効果があ
るが、限定範囲2%を超えるとガラスの溶製時に炉を汚
染する危険性がある。
本発明にあっては、以上述べたガラスの成分が合計して
100%となるように構成されて居れば良い。尚、絶縁
ペースト用の無機組成物のもう一つの主成分である無機
粉末を前記ガラス粉末と混合して用いることにより、該
ペーストに熱処理時の結晶化の促進、再熱処理時の絶縁
層表面の発泡の抑制、或いは絶縁層内の小気泡の発生の
抑制、熱抵抗の低減、表面硬度の向上などの効果を与え
ることができる。しかし乍ら、ガラス粉末と混合する無
機粉末を40%未満とすると絶縁層は緻密であるが、表
面が発泡し易くなったり、導体との自著性が低下したり
、熱抵抗が増大したりして好ましくない。また、重量%
で8o%を超えると850〜950℃の熱処理温度では
緻密な絶縁層が得にく1、ピンホールが増加して、絶縁
性が低下してしまう。無機粉末として提案した(Ca
O・AQ□03・2SiO2)、(AI2203・Si
n、)。
100%となるように構成されて居れば良い。尚、絶縁
ペースト用の無機組成物のもう一つの主成分である無機
粉末を前記ガラス粉末と混合して用いることにより、該
ペーストに熱処理時の結晶化の促進、再熱処理時の絶縁
層表面の発泡の抑制、或いは絶縁層内の小気泡の発生の
抑制、熱抵抗の低減、表面硬度の向上などの効果を与え
ることができる。しかし乍ら、ガラス粉末と混合する無
機粉末を40%未満とすると絶縁層は緻密であるが、表
面が発泡し易くなったり、導体との自著性が低下したり
、熱抵抗が増大したりして好ましくない。また、重量%
で8o%を超えると850〜950℃の熱処理温度では
緻密な絶縁層が得にく1、ピンホールが増加して、絶縁
性が低下してしまう。無機粉末として提案した(Ca
O・AQ□03・2SiO2)、(AI2203・Si
n、)。
(3AQ20.−3iO2)、(3Al2OA12.0
3) 及び(Cao−8i0よ)の中、特にAQ203
を用いた場合には絶縁層の熱伝導率はガラス単体層に比
較して3〜5倍の大きさとなる為。
3) 及び(Cao−8i0よ)の中、特にAQ203
を用いた場合には絶縁層の熱伝導率はガラス単体層に比
較して3〜5倍の大きさとなる為。
多層厚膜回路の高密度化に伴い、必然的に放熱性の大き
い無機絶縁層が要求される場合には、ガラスと混合され
る無機粉末にアルミナを使用する事が好まれる。
い無機絶縁層が要求される場合には、ガラスと混合され
る無機粉末にアルミナを使用する事が好まれる。
(実施例)
表1−1より表1−4にて示した如く本発明実施例にな
る組成のガラス粉末と無機粉末を混合し、エチルセルロ
ースを10重量%含有するターピネオール溶液を媒介物
として作成した絶縁ペーストについて熱特性、電気特性
、緻密性を評価した結果は同じく表1−1より表1−4
に示した如き結果を示し、表1−5にて示された比較例
として本発明を外れる組成のガラス粉末と無機粉末との
組合せの場合に比較して良好な特性を得る事が出来た。
る組成のガラス粉末と無機粉末を混合し、エチルセルロ
ースを10重量%含有するターピネオール溶液を媒介物
として作成した絶縁ペーストについて熱特性、電気特性
、緻密性を評価した結果は同じく表1−1より表1−4
に示した如き結果を示し、表1−5にて示された比較例
として本発明を外れる組成のガラス粉末と無機粉末との
組合せの場合に比較して良好な特性を得る事が出来た。
この場合熱特性については、ガラス粉末と無機粉末の混
合粉末を900kg/cdで加圧成形し、これを930
℃にて8分間電気炉中で焼成し、直径4m、長さ40m
の棒状焼結体を得、該試料を用いて熱膨張係数を測定し
た。また、該焼結体を入手したと同様な処理条件にて直
径8 m 、厚さlaaの円板状の焼結体を得、これを
試料として熱伝導率を測定した。
合粉末を900kg/cdで加圧成形し、これを930
℃にて8分間電気炉中で焼成し、直径4m、長さ40m
の棒状焼結体を得、該試料を用いて熱膨張係数を測定し
た。また、該焼結体を入手したと同様な処理条件にて直
径8 m 、厚さlaaの円板状の焼結体を得、これを
試料として熱伝導率を測定した。
更に、電気特性については、アルミナ基板にAQ或いは
A g / P dペーストで直径20iymの電極を
焼付は形成し、該電極上で直径が22a++aになる様
に本発明の絶縁ペーストを塗布してピーク温度を930
℃、ピーク時間8分の熱処理をベルト炉で行い、これを
2回繰り返して膜厚がはN40μmとなる絶縁層を形成
し、該絶縁層上に直径20mの電極をAu或いはA g
/ P dペーストにより形成してLCRメーターに
よる試験に供し、誘電率、誘電体損、体積抵抗率、絶縁
体圧を測定した。
A g / P dペーストで直径20iymの電極を
焼付は形成し、該電極上で直径が22a++aになる様
に本発明の絶縁ペーストを塗布してピーク温度を930
℃、ピーク時間8分の熱処理をベルト炉で行い、これを
2回繰り返して膜厚がはN40μmとなる絶縁層を形成
し、該絶縁層上に直径20mの電極をAu或いはA g
/ P dペーストにより形成してLCRメーターに
よる試験に供し、誘電率、誘電体損、体積抵抗率、絶縁
体圧を測定した。
最后に、緻密性については上部電極のない試料を作成し
、該試料の下部電極を負極とし、別に設けた銅棒を正極
として、これらを5重量%NaC党水溶液に浸漬し、極
間にIOVを印加して下部電極に流れるリーク電流を測
定して得た。その結果の詳細については一覧表に示した
如くであり、例えば本発明の実施例としてのサンプル番
号15ニテ示シf:S i 0.45.0 %、AQ、
0,5.0%、B20,20.0%、PbO20,0%
、CaO7,0%、K、0 2.0%、F21.0%の
組成を持つガラス粉末を40%、無機粉末としてのAQ
20.を60%として混合した組成物についての試験結
果は誘電率が6.7、誘電体損が0.82と小さく、リ
ーク電流も零と問題なく、絶縁層の性状も良好であり、
従来の組成物に比較して好結果を示している。これに対
して本発明の範囲を外れる比較例、例えばサンプル番号
25にみられる様にSi0,65.0%、AQ20,2
.0%、B、0,10.0%、pb○ 15.0%、C
aO7,0%、F21.0%の組成を持つガラス粉末を
40%と、無機粉末としてのAQ、0,60%とを混合
した組成物についての試験結果は誘電率が10.4と大
きく、誘電体損も1.45と大きく、リーク電流も3.
6と高く、更に絶縁層の性状もピンホールが多くみられ
て電子機器用の厚膜多層回路用の絶縁ペーストには好ま
しくない結果が示されている。
、該試料の下部電極を負極とし、別に設けた銅棒を正極
として、これらを5重量%NaC党水溶液に浸漬し、極
間にIOVを印加して下部電極に流れるリーク電流を測
定して得た。その結果の詳細については一覧表に示した
如くであり、例えば本発明の実施例としてのサンプル番
号15ニテ示シf:S i 0.45.0 %、AQ、
0,5.0%、B20,20.0%、PbO20,0%
、CaO7,0%、K、0 2.0%、F21.0%の
組成を持つガラス粉末を40%、無機粉末としてのAQ
20.を60%として混合した組成物についての試験結
果は誘電率が6.7、誘電体損が0.82と小さく、リ
ーク電流も零と問題なく、絶縁層の性状も良好であり、
従来の組成物に比較して好結果を示している。これに対
して本発明の範囲を外れる比較例、例えばサンプル番号
25にみられる様にSi0,65.0%、AQ20,2
.0%、B、0,10.0%、pb○ 15.0%、C
aO7,0%、F21.0%の組成を持つガラス粉末を
40%と、無機粉末としてのAQ、0,60%とを混合
した組成物についての試験結果は誘電率が10.4と大
きく、誘電体損も1.45と大きく、リーク電流も3.
6と高く、更に絶縁層の性状もピンホールが多くみられ
て電子機器用の厚膜多層回路用の絶縁ペーストには好ま
しくない結果が示されている。
(発明の効果)
本発明の絶縁ペースト用無機組成物は、これをペースト
として利用する場合、従来品に比して誘電率、熱伝導率
が同時に改善されて居り、電子部品としての利用面で高
度の評価を得ているもので電子部品業界へ寄与するとこ
ろ極めて大なるものがある。
として利用する場合、従来品に比して誘電率、熱伝導率
が同時に改善されて居り、電子部品としての利用面で高
度の評価を得ているもので電子部品業界へ寄与するとこ
ろ極めて大なるものがある。
(以下余白)
Claims (1)
- 1.重量%にて、SiO_230〜60%、Al_2O
_32〜10%、B_2O_310〜30%、PbO1
0〜30%及びCaO2〜10%と、ZnO、MgO、
Li_2O、Na_2O及びK_2Oの夫々の5%以下
(たゞし0%は除く)及びF_2%以下(たゞし0%は
除く)のいづれかより選ばれた少なくとも一種以上とを
含み合計が100%となるような組成のガラス粉末並び
に(CaO・Al_2O_3・2SiO_2)、(Al
_2O_3・SiO_2)、(3Al_2O_3・Si
O_2)、(Al_2O_3)及び(CaO・SiO_
2)から選ばれた少なくとも一種以上の無機粉末より成
り、前記ガラス粉末が重量%にて20〜60%、上記無
機粉末が80〜40%となるように夫々配合されている
ことを特徴とする絶縁ペースト用無機組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5235888A JPH01226750A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 絶縁ペースト用無機組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5235888A JPH01226750A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 絶縁ペースト用無機組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01226750A true JPH01226750A (ja) | 1989-09-11 |
Family
ID=12912584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5235888A Pending JPH01226750A (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 絶縁ペースト用無機組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01226750A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009128354A1 (ja) * | 2008-04-18 | 2009-10-22 | 旭硝子株式会社 | 発光ダイオードパッケージ |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP5235888A patent/JPH01226750A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009128354A1 (ja) * | 2008-04-18 | 2009-10-22 | 旭硝子株式会社 | 発光ダイオードパッケージ |
JP5061236B2 (ja) * | 2008-04-18 | 2012-10-31 | 旭硝子株式会社 | 発光ダイオードパッケージ及び発光素子搭載用基板 |
US8309974B2 (en) | 2008-04-18 | 2012-11-13 | Asahi Glass Company, Limited | Light emitting diode package |
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