JPH01219753A - 電子写真用セレン感光体 - Google Patents
電子写真用セレン感光体Info
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- JPH01219753A JPH01219753A JP4529888A JP4529888A JPH01219753A JP H01219753 A JPH01219753 A JP H01219753A JP 4529888 A JP4529888 A JP 4529888A JP 4529888 A JP4529888 A JP 4529888A JP H01219753 A JPH01219753 A JP H01219753A
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Links
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08207—Selenium-based
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、普通紙複写機および発光ダイオード。
レーザダイオードあるいはガスレーザ等を光源とする光
プリンタに用いられる積層感光体の電子写真用セレン感
光体に関する。
プリンタに用いられる積層感光体の電子写真用セレン感
光体に関する。
ハードコピー分野において、コピー速度および画質の点
から電子写真方式の光プリンタが広く使われている。こ
れらの光プリンタの光源からの光の波長は、660〜8
00nmの長波長域にあり、例えば本出願人の出願に係
る特開昭61−278858号公報等に記載されている
ように積層感光体の電子写真用感光体の電荷発生層をテ
ルル20〜50重量%を含む高濃度Te−Se合金で形
成して長波長領域ですぐれた電子写真特性を有する感光
体が実用化されている。
から電子写真方式の光プリンタが広く使われている。こ
れらの光プリンタの光源からの光の波長は、660〜8
00nmの長波長域にあり、例えば本出願人の出願に係
る特開昭61−278858号公報等に記載されている
ように積層感光体の電子写真用感光体の電荷発生層をテ
ルル20〜50重量%を含む高濃度Te−Se合金で形
成して長波長領域ですぐれた電子写真特性を有する感光
体が実用化されている。
このような高濃度Te−5e合金を電荷発生層を有する
感光体の耐剛性は表面保護層で決まる。耐剛性を上げる
には表面保護層としてセレン・ひ素合金を用い、A s
/!度を高めることが知られているが、As濃度を高
めると第2図に示すように熱膨張係数が小さくなり、下
地の5e−Te合金あるいは電荷輸送層に用いられる純
セレンとの熱膨張係数差が大きくなって表面保護層にひ
び割れが生ずる。これを防ぐためには表面保護層の膜厚
を薄くしなければならないが、耐刷性の点で望ましくな
い、この間毬を解決するために前記公報では表面保護層
を2層とし、下地側の層のAs濃度を低くして熱膨張係
数の差の緩衝層とすることを提案している。
感光体の耐剛性は表面保護層で決まる。耐剛性を上げる
には表面保護層としてセレン・ひ素合金を用い、A s
/!度を高めることが知られているが、As濃度を高
めると第2図に示すように熱膨張係数が小さくなり、下
地の5e−Te合金あるいは電荷輸送層に用いられる純
セレンとの熱膨張係数差が大きくなって表面保護層にひ
び割れが生ずる。これを防ぐためには表面保護層の膜厚
を薄くしなければならないが、耐刷性の点で望ましくな
い、この間毬を解決するために前記公報では表面保護層
を2層とし、下地側の層のAs濃度を低くして熱膨張係
数の差の緩衝層とすることを提案している。
本発明の課題は、前記の本出願人より特許出願された発
明の効果をさらに高めて長波長感度および耐熱性を有し
、耐刷性の一層向上した電子写真用セレン悪光体を提供
することにある。
明の効果をさらに高めて長波長感度および耐熱性を有し
、耐刷性の一層向上した電子写真用セレン悪光体を提供
することにある。
上記の課題を解決するために、本発明は導電性基体上に
非晶質セレンまたは非晶t Se −Te合金からなる
it電荷輸送層20〜50重量%のTeを含有する非晶
質5e−Te合金からなる!荷発生層およびそれぞれ異
なるA3濃度を有する5s−As合金の2層よりなり!
荷発生層側の下層のA3含有量が表面側の上層のA3含
有量よりも少ない表面保護層を順次積層してなる電子写
真用セレン感光体において、表面像l!層の上層の厚さ
が下層の厚さより厚いが8−以下であるものとする。
非晶質セレンまたは非晶t Se −Te合金からなる
it電荷輸送層20〜50重量%のTeを含有する非晶
質5e−Te合金からなる!荷発生層およびそれぞれ異
なるA3濃度を有する5s−As合金の2層よりなり!
荷発生層側の下層のA3含有量が表面側の上層のA3含
有量よりも少ない表面保護層を順次積層してなる電子写
真用セレン感光体において、表面像l!層の上層の厚さ
が下層の厚さより厚いが8−以下であるものとする。
表面保護層の下地層との熱膨張係数差の緩衝層として設
けた低A s Q度の下層に比し耐剛性のための上層の
厚さを厚くすることにより、表面保護層の耐剛性に対す
る効果を確実にすることができる。
けた低A s Q度の下層に比し耐剛性のための上層の
厚さを厚くすることにより、表面保護層の耐剛性に対す
る効果を確実にすることができる。
第1図(al、(blは本発明の第一の実施例と比較例
の感光体の断面図である。いずれも導電性基体1として
の直径12ONのアルミニウム円筒を洗浄したのち莢着
装置の支持軸に取付は基体の温度を約70°Cに保ち、
I X 1O−5Torrまで真空引きし、その後練S
eの入った蒸発源を約300℃に加熱し、約50μlの
膜厚の電荷輸送層2を蒸着した。次にそれぞれフラッシ
ュ蒸着法により、約0.5−の厚さの44重量%Te
−Se合金よりなる電荷発生層3と約2μIの厚さの1
.5重N%As −Se合金よりなる表面保護層の下N
4および4重量%As −Se合金よりなる表面保護層
の上N5とを順次蒸着した。ただし、第1図(alに示
す実施例では上層5の厚さは約3μ膿、第1図(′b)
に示す比較例では約1μmにした。79774着は、支
持軸温度60℃、圧力1 x 1O−STc+rr。
の感光体の断面図である。いずれも導電性基体1として
の直径12ONのアルミニウム円筒を洗浄したのち莢着
装置の支持軸に取付は基体の温度を約70°Cに保ち、
I X 1O−5Torrまで真空引きし、その後練S
eの入った蒸発源を約300℃に加熱し、約50μlの
膜厚の電荷輸送層2を蒸着した。次にそれぞれフラッシ
ュ蒸着法により、約0.5−の厚さの44重量%Te
−Se合金よりなる電荷発生層3と約2μIの厚さの1
.5重N%As −Se合金よりなる表面保護層の下N
4および4重量%As −Se合金よりなる表面保護層
の上N5とを順次蒸着した。ただし、第1図(alに示
す実施例では上層5の厚さは約3μ膿、第1図(′b)
に示す比較例では約1μmにした。79774着は、支
持軸温度60℃、圧力1 x 1O−STc+rr。
蒸発源温度350℃の条件で行った。
さらに、第二の実施例として第3図に示す表面保護層の
上層5の厚さ約6−の感光体、第三の実施例として第4
図に示す表面保護層上層5の厚さ約8−の感光体を製作
した。基体1.電荷輸送層2、電荷発生層31表面保護
層の下層4は材質。
上層5の厚さ約6−の感光体、第三の実施例として第4
図に示す表面保護層上層5の厚さ約8−の感光体を製作
した。基体1.電荷輸送層2、電荷発生層31表面保護
層の下層4は材質。
厚さとも第一の実施例および比較例と同一であり、表面
保護層上層5も含めて各層の蒸着条件も全く同様であっ
た。
保護層上層5も含めて各層の蒸着条件も全く同様であっ
た。
この様にして製作した感光体に対し、繰り返し特性、耐
刷性および外観について比較した。繰り返し特性では、
印字上かぶりの発生を招く帯電低下、印字上濃度低下の
発生を招く残電上昇について評価した。帯電低下につい
ては各感光体同一レベルであったが、残留電位について
は第5図に250サイクル後の値で示すように表面保護
層上層5の膜厚が厚くなる程高くなる傾向を示し、8−
を超えると100 V以上になり、印字上では濃度低下
となる。また耐刷性を評価するため、反転現像方式のレ
ーザダイオードプリンタを用いてA4用紙に5万回印字
を行った後の表面保護層の上1i5の膜厚を測った結果
を第6図に示す、最初のMI!vが厚いほど残り膜厚が
厚く、寿命が長い。これらの評価をまとめたのが第1表
である。
刷性および外観について比較した。繰り返し特性では、
印字上かぶりの発生を招く帯電低下、印字上濃度低下の
発生を招く残電上昇について評価した。帯電低下につい
ては各感光体同一レベルであったが、残留電位について
は第5図に250サイクル後の値で示すように表面保護
層上層5の膜厚が厚くなる程高くなる傾向を示し、8−
を超えると100 V以上になり、印字上では濃度低下
となる。また耐刷性を評価するため、反転現像方式のレ
ーザダイオードプリンタを用いてA4用紙に5万回印字
を行った後の表面保護層の上1i5の膜厚を測った結果
を第6図に示す、最初のMI!vが厚いほど残り膜厚が
厚く、寿命が長い。これらの評価をまとめたのが第1表
である。
第1表
円筒感光体の外観はいずれもクランクがなく良好であっ
た。
た。
本発明によれば、表面保t1層を高AsJ度の上層と低
As?li度の下層とから形成して下地層との熱膨張係
数の差によるひび割れを防止した、機能分離型セレン電
子写真用感光体の表面保護層の上層の厚さを8Q以下に
おいて下層より厚くすることにより、繰り返し特性の著
しい低下なしに耐刷性を向上させることができた。
As?li度の下層とから形成して下地層との熱膨張係
数の差によるひび割れを防止した、機能分離型セレン電
子写真用感光体の表面保護層の上層の厚さを8Q以下に
おいて下層より厚くすることにより、繰り返し特性の著
しい低下なしに耐刷性を向上させることができた。
第1図(δ)、(ト))は本発明の一実施例と比較例の
感光体の概念的断面図、第2図は5e−As合金のAs
濃度と熱膨張係数の関係線図、第3図、第4図はそれぞ
れ本発明の異なる実施例の感光体の概念的断面図、第5
図は本発明の実施例および比較例の表面保護層上N膜厚
と残留電位との関係線図、第6図は本発明の実施例およ
び比較例の表面保護層上層の50に印字前後の膜厚の関
係線図である。
感光体の概念的断面図、第2図は5e−As合金のAs
濃度と熱膨張係数の関係線図、第3図、第4図はそれぞ
れ本発明の異なる実施例の感光体の概念的断面図、第5
図は本発明の実施例および比較例の表面保護層上N膜厚
と残留電位との関係線図、第6図は本発明の実施例およ
び比較例の表面保護層上層の50に印字前後の膜厚の関
係線図である。
Claims (1)
- 1)導電性基体上に非晶質セレンまたは非晶質セレン・
テルル合金からなる電荷輸送層、20〜50重量%のテ
ルルを含有する非晶質セレン・テルル合金からなる電荷
発生層およびそれぞれ異なるひ素濃度を有するセレン・
ひ素合金の2層よりなり電荷発生層側の下層のひ素含有
量が表面側の上層のひ素含有量より少ない表面保護層を
順次積層してなるものにおいて、表面保護層の上層の厚
さが下層の厚さより厚いが8μm以下であることを特徴
とする電子写真用セレン感光体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4529888A JPH01219753A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 電子写真用セレン感光体 |
DE19893904409 DE3904409A1 (de) | 1988-02-26 | 1989-02-14 | Elektrofotografischer selen-fotorezeptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4529888A JPH01219753A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 電子写真用セレン感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01219753A true JPH01219753A (ja) | 1989-09-01 |
Family
ID=12715409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4529888A Pending JPH01219753A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 電子写真用セレン感光体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01219753A (ja) |
DE (1) | DE3904409A1 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6043662A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS61256353A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS61278858A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS6330762A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 塩化ビニル樹脂中の残留塩化ビニルモノマ−の定量方法 |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP4529888A patent/JPH01219753A/ja active Pending
-
1989
- 1989-02-14 DE DE19893904409 patent/DE3904409A1/de active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6043662A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS61256353A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS61278858A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用セレン感光体 |
JPS6330762A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 塩化ビニル樹脂中の残留塩化ビニルモノマ−の定量方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3904409C2 (ja) | 1990-11-08 |
DE3904409A1 (de) | 1989-08-31 |
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