JPH01213932A - 電子管用陰極 - Google Patents

電子管用陰極

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JPH01213932A
JPH01213932A JP63040318A JP4031888A JPH01213932A JP H01213932 A JPH01213932 A JP H01213932A JP 63040318 A JP63040318 A JP 63040318A JP 4031888 A JP4031888 A JP 4031888A JP H01213932 A JPH01213932 A JP H01213932A
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barium
oxide
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渡部 勁二
Keiji Fukuyama
福山 敬二
Shigeko Ishida
石田 誠子
Ryo Suzuki
量 鈴木
Masato Saito
正人 斉藤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、TV用ジブラウン管どに用いられる電子管
用陰極に関するものである。
〔従来の技術〕
第2図は従来のTV用ジブラウン管撮像管に用いられて
いる陰極を示すものであり、図において、1はシリコン
(Si)、マグネシウム(Mg)などの還元性元素を微
量含む主成分がニッケルからなる有底筒状の基体、2は
この基体1の底部上面に被着され、少なくともバリウム
(Ba)を含み、他にストロンチウム(Sr)あるいは
/及びカルシウム(Ca)を含むアルカリ土類金属酸化
物からなる電子放射物質層、3は上記基体1内に配設さ
れたヒータであり、加熱により上記電子放射物質層2か
ら熱電子を放出させるためのものである。
このように構成された電子管用陰極において、基体1へ
の電子放射物質層2の被着は次のようにして行われる。
まず、アルカリ土類金属(Ba。
Sr、Ca)の三元炭酸塩からなる懸濁液を基体1の底
部上面に塗布し、真空排気工程中にヒータ3によって加
熱する。この時、アルカリ土類金属の炭酸塩はアルカリ
土類金属の酸化物に変わる。
その後、アルカリ土類金属の酸化物の一部を還元して半
導体的性質を有するように活性化を行うことにより、基
体1上にアルカリ土類金属の酸化物からなる電子放射物
質層2を被着形成している。
この活性化工程において、アルカリ土類金属の酸化物の
一部は次のように反応する。つまり、基体1内に含有さ
れたシリコン、マグネシウム等の還元性元素は拡散によ
りアルカリ土類金属の酸化物と基体1との界面に移動し
、アルカリ土類金属酸化物と反応する0例えば、アルカ
リ土類金属酸化物が酸化バリウム(B a O)であれ
ば、次式(1)。
(2)のように反応する。
B a O,+ %S i =B a +%S i O
l・・・(1)BaO+Mg  =Ba+MgO・・・
(2)この反応の結果、基体l上に被着形成されたアル
カリ土類金属酸化物の一部が還元され、酸素欠乏型の半
導体となり、陰極温度700〜800℃の動作温度で0
.5〜0.8 A/cdの電子放射が得られることにな
る。
ところが、上記電子管用陰極では、電子放射が0.5〜
0.8 A/−以上の電流密度は取り出せない。
その理由として、アルカリ土類金属酸化物の一部を還元
反応させた場合、上記(11,(21式からも明らかな
ように、基体1とアルカリ土類金属酸化物層との界面ニ
S iOt 、 M g OあるいはBaO−3iQ、
などの複合酸化物層(中間層)が形成され、この中間層
が高抵抗層となって電流の流れを妨げること、及び上記
中間層が基体1中の還元性元素(St、Mg)が電子放
射物質層2の表面側へ拡散するのを妨げるため十分な量
のバリウム(Ba)が生成されないことが考えられてい
る。つまり、電子管動作中に基体1と電子放射物質層2
との界面近傍、特に基体1表面近傍のニッケル結晶粒界
と上記界面よりlOμI程度電子放射物質層2内側の位
置に上記中間層が偏析するため、電流の流れ及び電子放
射物質層2表面側への還元性元素の拡散が妨げられ、高
電流密度下の十分な電子放出特性が得られないという問
題があった。
これに対して、特願昭60−229303号の出願には
、基体に0.01〜0.5重量%の希土類金属を含有さ
せることによって、電子放射物質層を基体に被着形成す
る際の活性化時にアルカリ土類金属の炭酸塩が分解する
際、あるいは陰極としての動作中に酸化バリウムが解離
反応を起こす際に基体が酸化する反応を防止するととも
に、電子放射物質層中ぺの基体に含有された還元性元素
の拡散を適度に制御し、還元性元素による複合酸化物か
らなる中間層が基体と電子放射物質層との界面近傍に集
中的に形成されることを防止し、中間層を電子放射物f
N内に分散させるという技術が示されている。
つまり、この第2の従来例の電子管用陰極は、中間層が
分散されるために、1〜3 A/cj程度の高電流密度
動作でのエミッション劣化が少ないという優れた特性を
有するものである。ところが、このものにおいても、3
A/−を越える、例えば4 A/cdの高電流密度動作
ではエミッション劣化が大きいという問題がある。さら
に、特願昭60−160851号の出願には、電子放射
物質層に0.1〜20重量%の希土類金属酸化物を含有
させることにより、第2の従来例と同様、基体の酸化を
防止するとともに中間層を分散させるという技術が示さ
れている。
この場合においては、4A/−以上の高電流密度動作で
も、エミッションの劣化を少なくできる。この理由は、
後に詳述するように、4A/−以上の高電流密度動作に
おいては電子放射物質層を流れる電流によるジュール熱
でバリウムの蒸発が顕著になるが、電子放射物質層に希
土類酸化物が所定量台まれるとバリウムの蒸発が抑えら
れることであると考えられる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような従来の電子管用陰極において
は、通常の活性化工程を経た後4A/−以上の高電流密
度動作をさせると、バリウムの蒸発を抑える効果が十分
でないことがあり、このためエミッションの劣化が大き
い場合があり、活性化の時間を長くしなければならない
という問題点があった・ この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、通常の活性化工程のままでも4A/cd以上
の高電流密度動作において、バリウムの蒸発を抑える効
果が常にあり、長時間にわたって安定したエミッション
特性を有する電子管用陰極を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る電子管用陰極は、主成分がニッケルから
なる基体上に、少なくともバリウムを含むアルカリ土類
金属酸化物を主成分とし、これにスカンジウムの化合物
と、スカンジウム以外の希土類元素のうちの少なくとも
1種の元素の化合物とを含んだ電子放射物質層を被着さ
せたものである。
〔作用〕
この発明においては、電子放射物質層中に合−有された
スカンジウム化合物が、電子放射物質層を基体に被着形
成する際の活性化時にアルカリ土類金属の炭酸塩が分解
する際、あるいは陰極としての動作中に酸化バリウムが
解離反応を起こす際に基体が酸化する反応を防止すると
ともに、電子放射物質層中への基体に含有された還元性
元素の拡散を適度に制御し、還元性元素による複合酸化
物からなる中間層が基体と電子放射物質層との界面近傍
に集中的に形成されることを防止し、中間層を電子放射
物質層内に分散させ、又、上記電子放射物質層中に含有
されたスカンジウム以外の他の希土類金属化合物が、バ
リウムの蒸発を抑制する。
〔実施例〕
以下に、この発明の一実施例を第1図に基づいて説明す
る。この図において、1は主成分がニッケルからなる基
体であり、この基体1中にはS itMgなどの還元剤
が含有されている。2aは基体1の底部上面に被着され
た電子放射物質層であり、具体的にはバリウム、ストロ
ンチウム、カルシウムの三元酸化物に酸化スカンジウム
粉末と酸化ネオジムを0.01〜20重量%含み、かつ
ニッケル粉末を10重量%以下含んだものである。上記
バリウムなどのアルカリ土類金属酸化物は、はじめ炭酸
塩で混合し、従来と同様に、炭酸塩から酸化物への分解
過程及び酸化物の一部を還元する活性化過程を経る。
第3図は、第1の具体例としてバリウム、ストロンチウ
ム、カルシウムの酸化物に酸化スカンジウム(SC10
3)を4重量%、酸化ネオジム(Nd*Os)を3重量
%、ニッケル(Ni)を1重量%含むもの(a)、第2
の具体例として酸化スカンジウム(SCtOs)を4重
量%、酸化サマリウム(3m、02 )を3重量%、ニ
ッケル(Ni)を1重量%含むもの(b)の電子管用陰
極を上記の方法で作成し、この電子管用陰極を用いて2
極真空管を作成し、4.3A/−の電流密度で動作させ
て寿命試験を行った場合のエミッション劣化の変化を調
べた結果を示したものである。なお、図中には酸化スカ
ンジウム(SC103)を含有しないもの(d)、及び
酸化スカンジウム(Sc80、)を4重量%含むもの(
C)をあわせて示しである。
5Ct03を含有しないも(D (d)、Sc、O。
のみ4重量%含むもの(C)に比較して、Sc。
0、に加えてNa、03あるいはSm、O,、及びNi
を添加したもの(a、b)はエミッション劣化が少ない
。添加するSc、O,、Nd80315m、Os *及
びNiの量に関して種々実験を行った結果、添加する希
土類酸化物の総量は0.1〜20重量%がよく、なかで
もNdm Os +  Sm!03は0.05〜10重
量%がよい、又、Nlは10重量%以下であればよい、
さらに、酸化スカンジウム(SCtOs)以外に添加す
る希土類酸化物としては、酸化ネオジム(Ndx o、
)や酸化サマリウム(Sm、Os )以外に、酸化ガド
リニウム(Gdよ0、)、酸化ジスプロシウム(Dyt
 o、)、酸化ランタン(Lag Os )、酸化イツ
トリウム(Y*Os)、酸化セリウム(Ce!O,)、
酸化ユウロピウム(Euz 03 )、酸化イッテルビ
ウム(YbzOs)などが適当である。
上述のように、Sc、O,に加えて他の希土類酸化物及
びNiを添加した場合、従来に比較して優れた特性が得
られるのは、以下の理由によると考えられる。Sc、O
,は、電子管用陰極の動作とともに、その一部が解離し
て基体1の表面から約20趨の深さまで拡散する。一方
、基体1内の還元剤31.MgはScとは逆に表面へ拡
散し、表面でBaOと反応し、遊離Baをつくるが、又
Ba5losを生成する。このBa5ic、は中間層と
呼ばれ、還元剤のBaOとの反応を阻害する。
しかし、この発明では、基体1の表層に存在するScに
よって上記中間層を分解するので、還元剤Stは電子放
射物質層2a内へさらに移動でき、電子放射に寄与する
。添加したNd2O2やSm80、などの希土類酸化物
はBaの蒸発を抑制するものと考えられる。この電子管
用陰極の表面をオージェ分光分析装置で観察したところ
、N d zO8やSmt 03粒子の上にBaが十分
に存在していることがわかった。すなわち、電子放射物
質層2aを高電流が流れると、ジュール熱により電子放
射物質層2aの温度上昇をひきおこし、その結果Baの
蒸発が増加することになる。!3aの蒸発増大は必然的
に短寿命につながるので避けなければならない。本実施
例では、NdzOsやSm803などの希土類酸化物が
、Baを吸着する機能を有するものと思われる。Nt粉
末は電子放射物質層2aの酸化物の導電性をよくするた
めに添加される。酸化物粒子間あるいは粒子の内部に入
り、電流が流れやすい状態にする。ニッケル(Ni)以
外に、コバルト(Co)、鉄(Fe)、アルミニウム(
AI)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフ
ニウム(Hf)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、
モリブデン(Mo)。
タングステン(W)、マグネシウム(Mg)、シリコン
(St)、  レニウム(Re)、オスミウム(Os)
、イリジウム(I r) 、白金(Pt)。
パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、金(Au)t
バナジウム(■)、クロム(Cr)、マンガン(Mn)
、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、ビスマス(Bl)が有効
である。
なお、希土類酸化物の総量が20重景%を越えると、初
期電子放射量が低く、又この量が0.1%以下であると
、中間層形成の抑制およびBa蒸発の抑制に効果的でな
い。
又、添加するNlなどの金属粉末の量は10重量%以下
が良い、この量が10重量%を越えると、電子放射物質
層の焼結状態が進み、電子放射特性が低下する。又、こ
の量は微量でも効果があるが、0.01重量%以上が望
ましい。
〔発明の効果〕
この発明に係る電子管用陰極は以上述べたように、ニッ
ケルからなる基体上に、少なくともバリウムを含むアル
カリ土類金属酸化物を主成分とし、これにスカンジウム
の化合物と、スカンジウム以外の希土類元素の化合物を
含ませた電子放射物質層を被着したので、通常の活性化
工程のみで、4A/cd以上の高電流密度による動作の
下での長寿命を確実に実現できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による電子管用陰極を示す
断面図、第2図は従来の電子管用陰極を示す断面図、第
3図ば電子管用陰極を用いた2極真空管の寿命試験時間
とエミッシッン電流との関係を示す図である。 図において、1は基体、2aは電子放射物質層である。 なお各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)主成分がニッケルからなる基体上に、少なくとも
    バリウムを含むアルカリ土類金属酸化物を主成分とし、
    スカンジウムの化合物とスカンジウム以外の希土類元素
    から選ばれた少なくとも1種の元素の化合物とを含んだ
    電子放射物質層を被着したことを特徴とする電子管用陰
    極。
JP4031888A 1988-02-23 1988-02-23 電子管用陰極 Expired - Lifetime JPH0787070B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105788996A (zh) * 2014-12-22 2016-07-20 中国电子科技集团公司第十二研究所 一种亚微米薄膜钪钨阴极及其制备方法

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JPS62193032A (ja) * 1986-02-19 1987-08-24 Mitsubishi Electric Corp 電子管陰極

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