JPH01208829A - 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法 - Google Patents

電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法

Info

Publication number
JPH01208829A
JPH01208829A JP63033739A JP3373988A JPH01208829A JP H01208829 A JPH01208829 A JP H01208829A JP 63033739 A JP63033739 A JP 63033739A JP 3373988 A JP3373988 A JP 3373988A JP H01208829 A JPH01208829 A JP H01208829A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aging
electrolytic capacitor
voltage
pulse
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63033739A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuo Shirafuji
白藤 悦雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Chemi Con Corp
Original Assignee
Nippon Chemi Con Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Chemi Con Corp filed Critical Nippon Chemi Con Corp
Priority to JP63033739A priority Critical patent/JPH01208829A/ja
Publication of JPH01208829A publication Critical patent/JPH01208829A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、製品化最終処理として陽極側電極の化成酸
化皮膜の修復、特性の安定化および均一化のため、電解
コンデンサのエージング処理に用いるエージング装置お
よびエージング方法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、電解コンデンサは、表面に誘電体酸化皮膜を持
つ陽極と、誘電体酸化皮膜を持たない陰極とを、両極間
にセパレータを介在させて対向させるとともに、電解液
を含浸させて外装ケースに封入したものである。陽極お
よび陰極には、共にエツチング処理されたアルミニウム
箔などが用いられるが、陽極にはその表面にさらに化成
処理によって誘電体酸化皮膜が形成されている。そして
、これら陽極および陰極は、内部リードがステッチ加工
などによって接続されるとともに、所定の長さおよび幅
に裁断された後、セパレータを挾んで円筒状の電解コン
デンサ素子として巻回され、電解液の含浸の後、外装ケ
ースに封入されるのである。
このような機械的な加工を経た陽極は、内部リードの接
続、裁断および巻回などによって機械的応力を受け、そ
の地金部分の露出ないし誘電体酸化皮膜に欠損を生じる
のである。このような欠陥を持つ陽極では、電解コンデ
ンサの特徴的な機能である自己修復作用のみに任せたの
では、特性の安定化、均一化が得られず、それを補償す
る最終処理として、誘電体酸化皮膜の欠損部分を修復し
て特性の安定化処理および再化成処理であるエージング
処理が行われる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来、エージング処理は、電流制御素子に抵抗および定
電流素子を用いて、電解コンデンサの定格(低圧、中圧
および高圧)、電解液の種類、容量などに対応するエー
ジング電圧およびエージング電流を設定し、連続した電
圧および電流によって行われている。すなわち、エージ
ング前の電解コンデンサは特性のばらつきを持っている
ことから、個々の電解コンデンサに対し、そのばらつき
に対応したエージング入力を加えることが望ましい。し
かし、生産レベルで個々の電解コンデンサについて、エ
ージング人力を変えることは非常に困難である。また、
エージング時間を早めるために、エージング入力を高く
すると、特性のばらつきによる電解コンデンサの発熱や
急激な化学変化による内部圧力の増大が生じ、破壊する
おそれがある。そこで、生産ラインでは、複数の電解コ
ンデンサに対応する電流制御素子などを共通化するとと
もに、エージング処理の安全性を高めるため、低電圧、
低電流から開始し、時間の経過によって電圧や電流を増
加する方法が取られ、エージング処理が長時間化する傾
向があった。
従来、エージング処理時間を短縮したエージング方法と
して、特公昭62−56648号「電解コンデンサのエ
ージング方法」がある。このエージング方法ではエージ
ング処理を間欠的に行い、放電処理を行う点で特徴的で
あるが、エージング処理そのものは、連続的な電圧、電
流を用いているため、エージング処理時間が依然として
長いという欠点がある。
このため、出願人は、電解コンデンサに対するエージン
グ入力を電気的なファクタを制御してエージング処理の
最適化を図り、エージング時間の短縮化とともに、製品
の均一化、安定化など再化成特性を改善した電解コンデ
ンサのエージング方法を提案した。
そこで、この発明の第一の目的は、電気的なファクタを
任意に調整可能にし、電解コンデンサの最適なエージン
グを実現する電解コンデンサのエージング装置の提供に
ある。
この発明の第二の目的は、エージング電流を抑制して最
適化する電解コンデンサのエージング装置の提供にある
また、この発明の第三の目的は、この発明のエージング
装置を用いてエージング処理の均一化とともに、デバッ
グ(debug)機能を実現した電解コンデンサのエー
ジング方法の提供にある。
〔課題を解決するための手段〕
この発明の電解コンデンサのエージング装置は、第1図
に示すように、任意の周波数fおよびデユーティ比rを
持つパルス■iを発生するパルス発生手段(電流制御発
振器2およびデユーティ制御回路4)と、直流出力(直
流電圧Voc)を発生する電源(直流電源1B)と、パ
ルス発生手段が発生したパルスV、によってスイッチン
グし、直流出力を断続して得られたエージング出力をエ
ージングすべき電解コンデンサ26に加えるスイッチン
グ手段(スイッチング回路16)とを備えたものである
この発明の電解コンデンサのエージング装置は、スイッ
チング手段(スイッチング回路16)と工−ジンクすべ
き電解コンデンサ26との間に電流抑制素子22を挿入
したものである。
また、この発明の電解コンデンサのエージング方法は、
第3図に示すように、複数のエージングすべき電解コン
デンサ26.〜26.に対し、各電解コンデンサ26.
〜26Nごとに設置された定電流素子22.〜22、を
通してエージング装置からエージング出力(パルス電圧
vP)を供給することにより第1のエージング処理を行
った後、第4図に示すように、各電解コンデンサ26.
〜26、を並列接続し、定電流素子22.〜22゜に代
えて各電解コンデンサ26.〜26.に対し共通の定電
流素子220を介してエージング装置からエージング出
力(パルス電圧VP)を供給することにより第2のエー
ジング処理を行うことを内容としている。
〔作  用〕
この発明の電解コンデンサのエージング装置において、
パルス発生手段(電圧制御発振器2およびデユーティ制
御回路4)では、電気的なファクタを設定し、エージン
グ処理に最適な周波数fおよびデユーティ比rを持つパ
ルス■iを得る。
このパルス■五をスイッチング手段(スイッチング回路
16)に加えると、その電気的なファクタに応じたスイ
ッチング動作が得られる。電源(直流電源18)の出力
(直流電圧Vnc)は、スイッチング動作によって断続
され、必要な周波数fおよびデユーティ比rを持つパル
ス電圧V、がエージング出力として電解コンデンサ26
に供給される。
すなわち、電解コンデンサ26にエージング出力として
パルス電圧■2が加えられると、電解コンデンサ26に
はそのパルス電圧VPに応じて周期的、間欠的なレベル
を持つエージング電流が流れる。この場合、パルス電圧
■2の上限値(上限電圧VW )でエージングの動作区
間、下限値(下限電圧VL)で休止区間となり、電解コ
ンデンサ26は、動作区間で発熱、休止区間で冷却が行
われる。すなわち、電解コンデンサ26は、交互に発熱
、冷却を繰り返し、化成反応が行われる結果、異常な発
熱や熱的蓄積を生じることなく、エージングの立上げが
行われるのである。
ところで、このようなエージング処理について、漏れ電
流特性を見ると、エージング開始当初では、誘電体酸化
皮膜の欠損に応じて相当大きな漏れ電流が流れるが、エ
ージング処理時間の経過に従ってその値は低減され、定
常値に移行するのである。
すなわち、これを内部抵抗で見ると、エージング開始当
初では抵抗値が低く、短絡状態に近い状態であるが、誘
電体酸化皮膜の修復によって抵抗値が高くなる。これを
電圧で見ると、コンデンサ層に対する電荷の蓄積によっ
て端子電圧が漏れ電流特性と相反して増力旧頃向を持つ
のである。
この発明の電解コンデンサのエージング装置において、
第1図に示すように、電流抑制素子22を併用すると、
電解コンデンサ26における棄損された誘電体酸化皮膜
に起因する漏れ電流による急激なエージング電流を抑制
することができ、最適なエージング処理とともに、エー
ジング処理に伴う電解コンデンサの不良品化が防止され
る。
次に、この発明の電解コンデンサのエージング方法では
、発明に係るエージング装置を用いて複数の電解コンデ
ンサ26.〜26、にエージング処理を同時に行う場合
に第1および第2のエージング処理を行う。すなわち、
第1のエージング処理では、第3図に示すように、複数
のエージングすべき電解コンデンサ26.〜26Nに対
し各電解コンデンサ26.〜26.ごとに定電流素子2
2、〜22Nを設置して該定電流素子22.〜22、を
介して前記エージング装置のエージング出力を供給する
。次に、第2のエージング処理では、第4図に示すよう
に、各電解コンデンサ26、〜26.ごとに設置された
定電流素子22、〜22.を取り除いて、各電解コンデ
ンサ26、〜26.lを並列接続し、各電解コンデンサ
26、〜26.に対し共通の定電流素子220を介して
エージング出力を供給する。
このようにすれば、各電解コンデンサ26.〜26Nに
対応し、かつ各電解コンデンサ26.〜26、間の干渉
を回避しながら、各電解コンデンサ26.〜26sにエ
ージング処理を個別に行うことができ、しかも、定電流
素子221〜22゜を介してエージング電流を流すため
、第1のエージング処理では、各電解コンデンサ26.
〜26エの均一化が行われる。
そして、このように均一化された電解コンデンサ26.
〜26Nに対して単一の定電流素子220を用いて一括
して定電流化したエージング電流を各電解コンデンサ2
6.〜26Nに供給することにより、最終的なエージン
グ処理を行い、良品と不良品との判別が行われ、デバッ
ギング効果が得られる。
〔実 施 例] 第1図は、この発明の電解コンデンサのエージング装置
の実施例を示す。
任意の周波数fおよびデユーティ比rを持つパルスVム
を発生するパルス発生手段として電圧制御発振器2およ
びデユーティ制御回路4が設置されている。
電圧制御発振器2は、矩形波パルスを発振し、可変電圧
源6から制御入力端子8を通して加えられる制御電圧v
fによってその周波数fが制御される。この電圧制御発
振器2が発生したパルス出力は、デユーティ制御回路4
に加えられ、可変電圧源10から制御入力端子12を通
して加えられる制御電圧v4によってデユーティ比rが
制御される。可変電圧源6.10は、マイクロコンピュ
ータなどの制’am器を以て制御されるプログラマブル
電圧源などで構成することができる。たとえば、予め、
経験的に知られたエージングデータによって周波数fや
デユーティ比rを得るための制御電圧V、 、V、を設
定する。
デユーティ制御回路4の出力バルスVムは、電気的な絶
縁を確保するために設置されたフォトカプラ14を通し
てスイッチング回路16にスイッチング制御入力として
加えられる。すなわち、デユーティ制御回路4によって
得られたパルスに応じた光を得て、これを光電変換して
スイッチング回路16の入力としている。
スイッチング回路16は、任意の直流出力を得るための
電源として設置された直流電源18の直流電圧VIIC
をパルスviによって断続するためのものであり、周期
的、間欠的なエージング出力を得るためのスイッチング
手段を構成している。すなわち、フォトカプラ14を通
して得られたパルスv1は、ダイオード161を順方向
に介してトランジスタ162のベースに加えられ、トラ
ンジスタ162をスイッチングさせる。このトランジス
タ162のコレクタには、直流電源18から抵抗163
を介して直流電圧V。Cが加えられ、エミッタは接地さ
れている。そして、このトランジスタ162のコレクタ
側には、直流出力としての直流電圧vDcを断続してパ
ルス化するためのトランジスタ164.165が設置さ
れている。トランジスタ164.165は抵抗166を
介してダーリントン接続されており、前段側のトランジ
スタ164のベースにはトランジスタ162のコレクタ
側から得られた出力がダイオード167を通して加えら
れ、各トランジスタ164.165のベース・エミッタ
間には、個別に耐圧用のダイオード168.169が設
置されている。したがって、トランジスタ162がスイ
ッチングし、トランジスタ162の導通時、トランジス
タ164.165が遮断状態、トランジスタ162の遮
断時、トランジスタ164.165が導通状態となるた
め、直流電源18からの直流電圧v、cが断続され、パ
ルス電圧V、に変換される。
このパルス電圧■、は、電圧制御手段としての電解コン
デンサ20に加えられるとともに、電流抑制素子22を
通して接続端子24a、24bからエージングすべき電
解コンデンサ26に加えられる。電解コンデンサ20は
、エージング出力としてのパルス電圧■、の下限電圧■
、をエージング時間の経過に従って上昇させ、上限電圧
v、Iに移行させるために設置されたものであり、電圧
制御手段としては、電源からエージング出力の下限電圧
■、をエージング時間の経過に従って上昇させ、上限電
圧■8に移行させる機能を持つプログラマブル電源回路
などの回路手段によって構成してもよく、電解コンデン
サ20はその一例に過ぎない。また、電流抑制素子22
は、エージング開始当初の漏れ電流による破壊から電解
コンデンサ26を保護するために設置されており、エー
ジング電流を所定値以下に限流する抵抗や定電流素子な
どを以て構成される。
そして、このエージング装置によるエージング処理では
、電圧制御発振器2のパルス発振に基づいてデユーティ
制御回路4から得られた任意の周波数fおよびデユーテ
ィ比rを持つパルスViが、スイッチング回路16にフ
ォトカプラ14を通して加えられる。このパルスViが
光電変換された後、ダイオード161を介してトランジ
スタ162に加えられると、スイッチング回路16はそ
のパルス■五に応じたスイッチング動作をする。
この結果、直流電源18から加えられた直流電圧vnc
は、そのスイッチングによって断続され、第2図のAに
示すパルス電圧■、に変換される。このパルス電圧■、
は、電解コンデンサ20に加えられるとともに、電流抑
制素子22を通してエージングすべき電解コンデンサ2
6に加えられる。
このパルス電圧■、は、特定の繰返し周波数fを持ち、
時間T、で上限電圧■H(〉0)、時間T2で下限電圧
VL  (たとえばO■)、デユーティ比rはTl /
(’r+ +Tz )である。このようなパルス電圧■
2を以てエージング処理を行うと、電解コンデンサ26
は、時間T、で通電、時間T2で遮断によって時間T+
で発熱、時間T2で冷却が交互に行われ、その繰返しは
周波数f、発熱時間はデユーティ比rに依存する。
このパルス電圧■、の電気的なファクタについて、周波
数1は電圧制御発振器2に対する可変電圧源6による制
御電圧Vf、デユーティ比rはデユーティ制御回路4に
対する可変電圧源10による制御電圧Vd、上限電圧V
llは直流電源18によって制御され、また、下限電圧
■、はその初期値を直流電源18によって設定されると
ともに、エージング時間の経過に従って電解コンデンサ
20の充電により調整される。
したがって、このようなエージング処理によると、エー
ジング開始当初ではパルス電圧によってパルス電流が電
解コンデンサ26に流れ、発熱と冷却が交互にしかも最
適な時間間隔を以て行われ、再化成の立上り時間の短縮
化が図られる。連続した直流電圧を用いた場合、連続し
た発熱が生じるため、従来では初期のエージング電圧、
電流を抑え、段階的な電圧、電流を上昇させるような操
作が必要であったが、この実施例では、エージング出力
がパルス電圧V、であるため、初期から最終的なエージ
ング電圧(VO)を与えても、異常な漏れ電流および発
熱ないし熱的な蓄積を伴うことがなく、エージング効率
を高め、エージング処理時間の短縮化が可能になる。
また、電流抑制素子22に抵抗や定電流素子を用いれば
、電流抑制ないし限流作用によって、電解コンデンサ2
6における棄損された誘電体酸化皮膜に起因する漏れ電
流による急激なエージング電流を一定値以下に抑制する
ことができるとともに、不要なエージング電流の増加が
回避され、最適なエージング処理とともにエージング処
理に伴う電解コンデンサの不良品化が防止され、効率的
かつ安全なエージング処理が行える。
そして、第2図のBに示すように、電解コンデンサ20
の充電による下限電圧■、の上昇によって、−パルス電
圧■2の下限電圧■、を初期値0から時間の経過に従っ
て徐々に上昇させ、上限電圧■□に近付けることができ
る。このような下限電圧■、の上昇が、電解コンデンサ
26のエージング反応に対応し、その耐圧の上昇に応じ
たものとすることができる。
また、電圧制御手段に電解コンデンサ20を用いれば、
エージングすべき電解コンデンサ26の漏れ電流の減少
特性に、電解コンデンサ20の充電特性を対応させるこ
とができ、極めて簡単な構成によって、エージング処理
に最適な電圧制御を実現することができる。
次に、この発明の電解コンデンサのエージング方法を第
39図および第4図を参照して説明する。
このエージング方法は、複数の電解コンデンサ26+ 
、26□ ・・・268に同時にエージング処理を施す
場合、定電流素子の接続形態の変更によって第1および
第2の二段階のエージング処理を行うものである。
第1のエージング処理では、第3図に示すように、スイ
ッチング回路16の出力側に、電解コンデンサ26..
26.  ・・・26Mに対応する電流抑制素子として
定電流素子22I、22□ ・・・22.を介して設け
られた複数対の接続端子24a、24bの各接続端子2
4a、24b間のそれぞれにエージング処理を行うため
の同定格の電解コンデンサ26.〜26Nを接続し、各
電解コンデンサ261〜26.4に対し、定電流素子2
21〜22.4を介してエージング出力としてパルス電
圧■、を加える。第1のエージング処理は、たとえば、
各電解コンデンサ26.〜26Nの漏れ電流が減少し、
その値が定常値に近い値になる時間について行う。
次に、第2のエージング処理では、第4図に示すように
、第3図に示した回路から定電流素子22、〜22.を
取り除いて各電解コンデンサ261〜26Nを並列に接
続するとともに、各電解コンデンサ26.〜26.に共
通な定電流素子220を接続し、単一の定電流素子22
0を通して電解コンデンサ26.〜26Nにパルス電圧
■7を加え、エージング電流を流す。第2のエージング
処理は、最終的なエージング処理としてエージング電流
を減少し、端子間が所定の電圧に上昇するまでの時間に
ついて行う。このような処理は、たとえば、製造ライン
上で移送される複数の電解コンデンサ26.〜26Nに
ついて、エージング装置に対する各電解コンデンサ26
.〜26、の接続を時間的かつ段階的に変更しながら行
うものである。
このような複数の電解コンデンサ26.〜26Mについ
て同時に行うエージング処理では、パルス電圧■、およ
び定電流素子221〜228.220による電流抑制は
、エージング処理に寄与する実行的な電流を制御してエ
ージング処理の最適化を図ることになる。すなわち、第
1のエージング処理では、各電解コンデンサ261〜2
6゜に対応し、かつ各電解コンデンサ261〜26N間
の干渉を回避しながら、各電解コンデンサ26、〜26
.にエージング処理を個別に行い、しかも、定電流素子
22.〜22.によってエージング電流を流すため、各
電解コンデンサ26゜〜26エの均一化が図られ、また
、第2のエージング処理では、エージングに寄与する最
大電流が、パルス電圧VPによるため、実行電流よりも
大きく、不良品のデバッグ機能が実現される。したがっ
て、エージング処理を行う電解コンデンサ261〜26
.は、個々の特性が不揃いであって、極端な場合、欠陥
品に近いものが含まれていても、その欠陥品の電解コン
デンサに集中的に電流が流れ、電解コンデンサが破壊に
至るため、他の正常な電解コンデンサのエージング処理
が不十分になるおそれはなく、パルス電圧■、であるこ
と、そのファクタを任意に制御できること、定電流素子
221〜22.4または定電流素子220による電流抑
制を行うことによって、エージング処理の最a化が実現
でき、エージング時間の短縮は勿論のこと、エージング
処理の信頬性および安全性がより高められることになる
なお、第3図および第4図のエージング処理回路は、段
階的なエージング処理に用いる場合を説明したが、各回
路は独立し、かつ、それのみでエージング処理を完了す
ることもでき、エージングすべき電解コンデンサによっ
て使用形態は異なるものである。
また、第3図および第4図に示したエージング処理回路
では、電圧制御手段としての電解コンデンサ20を省略
したが、電解コンデンサ20を設置してもよく、また、
複数の電解コンデンサ26、〜26Nを同時にエージン
グ処理するには、エージング中の電解コンデンサを以て
充当させ、同様の機能を持たせることも可能である。
〔実験結果〕
定格電圧400V、静電容量47μFの電解コンデンサ
に対し、エージング出力に周波数1kHz、デユーティ
比1/2、上限電圧■、を425■に設定したパルス電
圧■、を用いた場合と、425■の連続した電圧を用い
た場合のエージング結果を第5図に示す。第5図におい
て、Xはパルス電圧■。
による電解コンデンサの端子電圧、Yは連続した電圧に
よる電解コンデンサの端子電圧、ZはXに対応した電解
コンデンサ素子の温度を示す。
この結果から明らかなように、連続した電圧を用いた場
合に比較し、エージングにパルス電圧■、を用いて、そ
の下限電圧■、を上昇させた場合には、電解コンデンサ
の端子電圧の立上りが早く、エージング処理時間が1/
4程度に短縮されることが判る。
〔発明の効果〕 以上説明したように、この発明によれば、周波数および
デユーティ比を電解コンデンサに対応して調整したパル
スを以て直流出力を断続させるので、特定の電解コンデ
ンサのエージングに最適なパルス出力を得ることができ
、パルス出力によって発熱と冷却とを交互に繰り返しな
からエージング処理が進行し、エージング処理の立上り
時間の短縮化とともにエージング処理の最適化を図るこ
とができ、均一性、安定性を高めた信頼性に優れた製品
を生産することができる。
また、この発明によれば、棄損された誘電体酸化皮膜に
起因する漏れ電流による急激なエージング電流を抑制す
ることができ、最適なエージング処理とともにエージン
グ処理に伴う電解コンデンサの不良品化が防止できる。
そして、この発明によれば、パルス状のエージング出力
を用いることに加え、定電流素子の接続形態を段階的に
変更して第1および第2のエージング処理を行うので、
複数の電解コンデンサの均一化を経て、各電解コンデン
サの個々に対応し、かつ、漏れ電流特性に対応した効率
的かつ安定したエージング処理を行うことができ、エー
ジング処理に伴う不良品の発生防止に加え、エージング
処理の安全性を高めることができ′る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の電解コンデンサのエージング装置の
実施例を示す図、第2図は第1図に示したエージング装
置のエージング出力を示す図、第3図および第4図はこ
の発明の電解コンデンサのエージング方法の実施例を示
す図、第5図はこの発明のエージング装置および従来の
エージング装置を用いた場合のエージング特性を示す図
である。 2・・・電圧制御発振器(パルス発生手段)4・・・デ
ユーティ制御回路(パルス発生手段)16・・・スイッ
チング回路(スイッチング手段)18・・・直流電源(
電源) 20・・・電解コンデンサ 22・・・電流抑制素子

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)任意の周波数およびデューティ比を持つパルスを
    発生するパルス発生手段と、 直流出力を発生する電源と、 前記パルス発生手段が発生したパルスによってスイッチ
    ングし、前記直流出力を断続して得られたエージング出
    力をエージングすべき電解コンデンサに加えるスイッチ
    ング手段とを備えた電解コンデンサのエージング装置。
  2. (2)前記スイッチング手段とエージングすべき電解コ
    ンデンサとの間に電流抑制素子を挿入した請求項1記載
    の電解コンデンサのエージング装置。
  3. (3)複数のエージングすべき電解コンデンサに対し、
    各電解コンデンサごとに設置された定電流素子を通して
    前記エージング装置からエージング出力を供給すること
    により第1のエージング処理を行った後、 各電解コンデンサを並列接続し、前記定電流素子に代え
    て各電解コンデンサに対し共通の定電流素子を介して前
    記エージング装置からエージング出力を供給することに
    より第2のエージング処理を行う電解コンデンサのエー
    ジング方法。
JP63033739A 1988-02-16 1988-02-16 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法 Pending JPH01208829A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63033739A JPH01208829A (ja) 1988-02-16 1988-02-16 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63033739A JPH01208829A (ja) 1988-02-16 1988-02-16 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01208829A true JPH01208829A (ja) 1989-08-22

Family

ID=12394778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63033739A Pending JPH01208829A (ja) 1988-02-16 1988-02-16 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01208829A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5297162A (en) * 1976-02-10 1977-08-15 Nippon Electric Co Method of manufacturing capacitor
JPS53118760A (en) * 1977-03-28 1978-10-17 Fujitsu Ltd Method of making solid electrolytic capacitor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5297162A (en) * 1976-02-10 1977-08-15 Nippon Electric Co Method of manufacturing capacitor
JPS53118760A (en) * 1977-03-28 1978-10-17 Fujitsu Ltd Method of making solid electrolytic capacitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1447904B1 (en) Method and apparatus for overvoltage suppression in PWM inverters
US5914974A (en) Method and apparatus for eliminating reflected energy due to stage mismatch in nonlinear magnetic compression modules
EP3297148A1 (en) Method for the reformation of an electrolytic capacitor in a converter and converter with such
US4745613A (en) Laser flash lamp triggering circuit
US4395612A (en) Power source circuit for electric discharge machine
CN111599596A (zh) 一种电容器恒功率老练电路及老练方法
JPH01208829A (ja) 電解コンデンサのエージング装置およびエージング方法
JPS6339365B2 (ja)
CN110391582B (zh) 激光装置及其电源装置
US4677631A (en) Gas laser power supply apparatus
EP0067454B1 (en) Silent discharge type pulse laser device
US5181154A (en) Circuit arrangement for optimal current generation in processes of electrochemically initiated plasma-chemical layer production
JP3162105B2 (ja) 無極性電解コンデンサのエージング方法
JPH01199423A (ja) 電解コンデンサのエージング装置
JPH01196115A (ja) 電解コンデンサのエージング方法
JP2000277840A (ja) パルスレーザ用の充放電回路
HU176291B (en) Powerful diagnostic x-ray apparatus operated with thyristor current converter
FI62916C (fi) Koronageneratoranordning
KR101995708B1 (ko) 초기 부스팅된 펄스 전압을 제공하는 플라즈마 펄스 전원 장치
JPS61216373A (ja) パルスレ−ザ装置
JP2018033261A (ja) パルス発生回路
US20230141552A1 (en) Semiconductor testing device, semiconductor testing method, and manufacturing method for semiconductor device
JPH0521286A (ja) 電解コンデンサのエージング方法
JP3157518B2 (ja) フラツシユランプ駆動電源
JPH0529692A (ja) パルス発生装置