JPH01207269A - アミン誘導体およびその塩 - Google Patents

アミン誘導体およびその塩

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Publication number
JPH01207269A
JPH01207269A JP63305594A JP30559488A JPH01207269A JP H01207269 A JPH01207269 A JP H01207269A JP 63305594 A JP63305594 A JP 63305594A JP 30559488 A JP30559488 A JP 30559488A JP H01207269 A JPH01207269 A JP H01207269A
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JP
Japan
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group
formula
amine derivative
salt
substituent
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Pending
Application number
JP63305594A
Other languages
English (en)
Inventor
Shiro Hirai
平井 嗣郎
Hiroshi Hirano
平野 洋志
Hirotoshi Arai
荒井 博敏
Yasuo Kiba
木羽 泰男
Hisanari Shibata
柴田 久就
Yoshikazu Kusayanagi
草柳 賀一
Minako Yotsutsuji
四辻 美奈子
Kazuhiko Hashiba
橋場 和彦
Kikuko Tanada
棚田 貴久子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
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Publication of JPH01207269A publication Critical patent/JPH01207269A/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Furan Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なアミン誘導体およびその項に関する。
さらに詳しくは、次の一般式CIJ [式中 R1は置換基をMしていてもよいアリールまた
は複索環式基を、142は置換基をMしていてもよいフ
リル、チエニル、またはビリゾル基を、pは0,1,2
.または3を、Xは、酸素または懺貢原子を、qは2.
3.または4を、2は酸素、もしくは硫黄原子、式NR
4で表わされる基(式中、R4は、水素原子、マタハシ
アン、ヒドロキシル、ニトロ、アルキル、アルケニル、
アルコキシ、1−xi’t−vしていてもよいアシル、
d侯基kmしていてモヨいアリール、カルバモイル、ス
ルファモイル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホ
ニル、(を侠基をMしていてもよいアリールスルホニル
、置換基’に!していてもよいアリールオキシ、を侯基
を肩していてもよいアシルアミノ、アルコキシカルボニ
ルアミノまたはカルボキシアルキルアミノ−MSヲ示す
。)、または弐C1(R5で表わされる基(式中 R5
は、ニトロ、置換基を有していてもよいアシル、置換f
ie有していてもよいアリール、アルキルスルホニル、
またはt換基をイしていてもよいアリールスルホニル基
をそれぞれ示す。)を、Yはメチレンf;5を、そして
R3が、水素原子またはヒドロキシル保@基をそれぞれ
示す。」で表わされる新規なアミン誘導体およびその塩
に関する。
而して、その目的とするところは、人および動物に頻繁
に見られる消化性潰瘍の治療に有用な化合物およびその
塩を提供せんとするにるる。
さらに本発明の他の目的は、ヒスタミンHz受容体にお
いてヒスタミンと競合的に拮抗する新規な化合物を提供
するにある。
不発明者らは、ヒスタミンH2抑制作用を有する化合物
が、消化性潰瘍の治療に有用であることに看目し%H2
受谷体においてヒスタミンと競合的に拮抗する化合物に
ついて、我意研究した結果、一般式(IJで表わされる
新規なアミン誘導体およびその瓜が、所期の目的を満足
させることを見出し、本発明を児属するに至った。
本発明の一般式(IJで表わされるアミン評を有すると
ころに待機かめる。
本明細省において、アルキル基とは、たとえば、メチル
、エチル、プロピル、イングロビル、n−ブチル、イソ
ブチル、  sea、−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
およびオクチルなどのC1〜8 アルキル基ヲ;アルケ
ニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、インゾロペニ
ルおよびブテニルなどのC2〜4アルケニル基を;シク
ロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、およびシク
ロブチルなどのC3〜アシクロアルキル基ヲ;アルコキ
シ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ。
ゾロボキシ、インゾロボキシ、およびn−ブトキシなど
のC1〜4 アルコキシ基を;アルケニルオキシ基とに
、たとえば、ビニルオキシ、アリルオキシ、イングロペ
ニルオキシ、およびブテニルオキシなどのC2〜4 ア
ルケニルオキシ基を;アルキルチオ基とは、たとえば、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イン7’oビ
ルチオ、およびn−ブチルチオなどのC1〜4 アルキ
ルチオ基ヲ;ヒドロキシアルキル基とは、たとえば、ヒ
ドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキ
シエチル、3−ヒドロキシゾロビル、および4−ヒドロ
キシブチルなどのヒドロキシC1〜4アルキル基を;ア
ルコキシアルキル基とは、たとえば、メトキシメチル、
エトキシメチル、2−メトキシエチル、および3−メト
キシプロピルなどのC1〜4アルコキシ−〇l〜4 ア
ルキル基を;ハロゲノアルキル基とは、たとえば、モノ
クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、ゾプロ
モメチル、およびトリフルオロメチルなどのハロゲノ−
01〜4 アルキル基金;アルキルアミノ基とは、たと
えば、メチルアミノ、エチルアミノ、  n−fロピル
アミノ、およびn−ブチルアミノなどの01〜4アルキ
ルアミノ基乞;シアルキルアミノ基とは、たとえば、ジ
メチルアミノ、エチルメチルアミン、ジエチルアミノ、
およびシーn−ブチルアミノなどのシー〇!〜4 アル
キルアミノ基金;アシル基とは、ホルミル基、アセチル
ゾロピオニル、インバレリル、およびピバロイルなどの
C2〜S アルカノイルf5t;アシルオキシ基とは、
前述したアシル基が酸素原子と結合したアシル−〇−基
を;アリール基とは、たとえば、フェニル、ナフチル、
およびインダニルなどの芳査族炭化水索から誘導さルる
基を;アルアルキル基とは、たとえば、ベンシル、フェ
ネチル、およびナフチルメチルなどのアルアルキル基ヲ
;アシルオキシアルキル基とは、前述したアシルオキシ
基がアルキル基に置保したアシルオキシC!〜4 アル
キル&、ヲ;カルバモイル基とは、たとえば、N)i、
CO−、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボ
ニル、およびfロビルアミノヵルボニルなどのC皿〜4
 アルキルアミノカルボニル基、並び(・こツメチルア
ミノカルボニル、およびジエチルアミノカルボニルなど
のシー〇l〜4アルキルアミノカルlニル基ヲ;スルフ
ァモイル基とは、たとえば、 NH2St)2−、メチ
ルアミノスルホニル、エチルアミノスルホニル、および
10ビルアミノスルホニルなどのC,〜4 アルキルア
ミンスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル、および
ジエチルアミノスルホニルなどのシーC1〜4 アルキ
ルアミノスルホニル冶金;アルキルスルホニル基トは、
たとえば、メタンスルホニル、およびエタンスルホニル
などのC1〜4 アルキルスルホニル基ヲ;アリールス
ルホニル基とは、たとえば、ベンゼンスルホニル、およ
びナフタレンスルホニルなどのアリールスルホニル基ヲ
;アシルアミノ基とは、前述したアシル基でアミン基が
11を侯されたアシルアミノSを;アリールオキシ基と
は、たとえば、フェニルオキシ、およびナフチルオキシ
などのアリールオキシ基を;ハロゲン原子とは、たとえ
ば、フルオロ、クロロ、ブロモ、およびヨードなどのハ
ロゲン原子を−f:f′Lそれ′を休する。
つぎに、本発明を史に詳細に説明する。
一般式CDにおけるR1はf換iをMしていてもよいア
リール、または複素環式基金示し、そして復素環式基は
、辷社66チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル
、ピラゾリル、チアゾリル、インチアゾリル、オキサシ
リル、インキサゾリル、チアゾリゾニル、オキサゾリゾ
ニル、1,3.4−チアゾアゾリル、1,2.4−トリ
アゾリル、ビリゾル、ビリミゾニル、ビラゾニル、ピリ
ダゾニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾイ
ミダゾリル、1.4−ペンゾゾオキサニル丞をそルそれ
示す。そして R1のアリールまたは機素環式基および
R2のフリル、チエニル、またはビリゾル基のVt侯−
、!15は、710グン原子、ヒドロキシル基、ニトロ
基、オキン基、シアノ基、カルボキシル丞、メルカプト
基、アミン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、メチルチオメチル、エチルチオメ
チルもしくはメチルチオエチルでるるアルキルチオアル
キル基またはこれらの8−オキシド体、ヒドロキシアル
キル基、アルケニルオキシ基、アルコキシアルキル基、
2−ヒドロキシエトキシもしくは3−ヒドロキシ7’o
7キシであるヒドロキシアルコキシ基、ハロゲノアルキ
ル基、アルキルアミノ基、シアルキルアミノ基、アシル
基、アシルオキシ基、アシルオキシアルキル基、メチレ
ンゾオキシ、エチレンゾオキシもしくはトリメチレンジ
オキシでろる環のF!!4接する炭素原子に結付するア
ルキレ/ジオキシ基、シクロアルキル基、アリール基、
アルアルキル基、アシR( ルアミノ基1式R7,N −A−で表わされる基(式中
、R6およびに7は、同一または異なって、水素原子、
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルア
ルキル基、ヒドロキシル基、ハロゲノアルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、2−アミノ
エチル、3−アミノゾロピルなどのアミノC1〜4 ア
ルキル基、メチルアミノメチル、2−メチルアミノエチ
ルなどの01〜4 アルキルアミノ−01〜4 アルキ
ル基、ジメチルアミンメチル、2−ジメチルアミノエチ
ルなどのシーC1〜4アルキルアミノ−C1〜4アルキ
ル基、またはR6およびityが、そnらが結付する屋
系原子と一浦VCなって飽和複索環式基τ、Aは、メf
V7. エチレン、ゾロピレン、トリメチレン、テトラ
メチレンであるアルキレン基イrさ扛る基(式中、ル8
は、水素原子、アルキル基、ハロゲノアルキル基または
アシル基全示す。)である。
これらの置換基のうち、R6およびR7がそれらが結合
する室索原子と一緒になって紹昶複素環式基乞形成した
場合の妃刈C!累環式基は、l−ピロリゾニル、ビペリ
ゾノ、モルホリノ、チオモルホリノ、l−へキサメチレ
ンイミノ、l−ビペラゾニル、4−メチル−1−ビペラ
ゾニル、3−ヒドロキシ−1−ピロリゾニル、3−ヒド
ロキシメチル−1−ピロリジニル、2−ヒドロキシメチ
ル−1−ピロリゾニル、3−ヒドロキシ−1−ピペリジ
ニル、4−ヒドロキシ−1−ビペリゾニル、3−ヒドロ
キシメチル−1−ピペリジニル、およヒ4− ヒドロキ
シメチル−1−ピペリジニル、l−それぞれ示す。
Zμ、は累原子、懺黄原子、弐NR4で表わされる湖ま
たは式CMR5で表わされる基?示す。
さらに、R4は、水素原子、シアノ基、ヒドロキシル丞
s ニトロ基、アルキル基、アルケニル丞、アルコキシ
基、置換基金上゛していてもよいアシル基、置換基をM
していてもよいアリール基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
7′Oボキ/カルボニルなどのC1〜4 アルコキシカ
ルボニル基、アルキルスルホニル基、filtM基をゼ
していてもよいアリールスルホニル基、置換基を有して
いてもよいアリールオキシ基、置換基金石していてもよ
いアシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、た
とえば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニ
ルアミノ、n−ブトキシカルボニルアミノなどの01〜
4 アルコキシカルボニルアミノ基、カルボキシアルキ
ルアミン基、たとえば、カルボキンメチルアミン、2−
カルボキシエチルアミンなどのカルボキシC1〜4アル
キルアミノm(il−示し、またR51j、ニトロ、置
換基を儒゛していてもよいアシル基、置換基をMしてい
てもよいアリール蚕、アルキルスルホニル基、および置
換基金イしていてもよいアリールスルホニル基金それぞ
れ示す。
また、R4およびR5のTIt換基は、アルキル基、ハ
ロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子である
i3V′i、水素原子またはとドロ干シル保護基を示し
、ヒドロキシル保護基としては、アシル、1.1−ノメ
チルゾロボキシカルボニル。
tert、〜ブトキシカルボニル、インゾロ?キシカル
ボニル、2.2.2−ト+)クロロエトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、2,2゜2−トリブロモエトキ
シカルボニル、ベンシルオキシカルボニル、4−ニトロ
ベンシルオキシカルボニル、4−ブロモベンシルオキシ
カルボニル、4−メトキシベンゾルオキシカルホニル、
3.4−ゾメトキシベンゾルオ千ジカルボニル、4−(
フェニルアソ)ヘンシルオキシカルボニル、4−(4−
メトキシカルニルアソ)ベンシルオキシカルボニル、モ
ノクロロアセチル、トリフルオロアセチル、2−7 ル
ア +)ルオキシ力ルゴニルml  7ダマンチルオキ
シカルビニル、3−キノリルオキシカルビニル、ベンシ
ル、ベンズヒドリル、トリチル、アルキル、メトキシメ
チル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、2
−ニトロフェニルチオ、 オxo:2.4−ソニトロフ
ェニルチオ基が挙げられる。
−g式[IJのアミン誘導体およびその項の塩としては
、たとえば、塩酸、Ji4.化水素rIR1憾酸、およ
びリン酸などの無機酸との塩;酢酸、ゾロピオン酸、蓚
酸、クエン酸、乳酸、マレインg、コハクv、to石e
、マンデル識、1)−)ルエンスルホン酸、およびピク
リン酸などの有機酸との項;ナトリウム、およびカリウ
ムなどのアルカリ金属との塩;カルシウム、2よびマグ
ネシウムなどのアルカリ土類金踊との瓜ニア′ロカイン
、N−ベンゾルーI−フエネテルアミン、1−エフエナ
ミン l’J。
N−ソベンゾルエチレンゾアミン、トリエチルアミンお
よびN−メチルビベリシンなどの含窒素有情塩基との塩
などが争けられる。
また、本発明の一般式〔IJのアミン誘導体2よびその
塩は、異性体(幾何異性体、互変、l!4性体、光学f
4注体お上びラセミ体など)並びVこすべての結晶形お
よび水不Iけも観賞する。
上述した本発明の一般式CDのアミン誘導体およびその
塩のうち好ましい化合物としては、たとえば、 K10
)qが、置換基をMしていてもよいフェニル、チエニル
、フリル、ビリゾル、チアゾリル%またはイミダゾリル
基から選ばれる基である化合物が挙げらnlまた、Zが
酸素原子、ニトロメチレン、アルキルスルホニルイミノ
、置換基?ff(、ていてもよいアリールスルホニルイ
ミノ、シアノイミノ%またはスルファモイルイミノ基で
ろる化合物が挙げられる。
石らに、好1しくは、つぎの一般式[1aJ 。
[IbJ tたは[IcJの化合物およびその塩が挙げ
られる。
Rす Cla」 「式中 R9は水素原子またはアルキル基金、R”、R
3,R’、it’、A、p、q、X、Y、およびZは、
そnぞれ前述した怠体?示す。」〔よりJ [式中、K”、 Rj、 R’、 R7,R’、 A 
、 p 、 q 。
X、Y、およびZは、そrしぞれ前述した]は米を示す
。」 「式中、  R2,Rj、R’、R7,A、q 、X、
Y。
およびZは、それぞれ前述した意味を示す。」これらの
一般式[1aJ〜[:IcJの化@物のうち、Rdおよ
びR7が、アルキル基であるか、またはR6およびR7
が、それらが納会する窒素原子と一緒になって形成する
朗、TO複素環式基である化合物、pが1で、qが2ま
たは3である化合物、2が弐NR4aで表わされる基(
式中、R4aはシアノ基またはアルキルスルホニル基を
示す。)またはCHNO2である化合物がさらに好まし
い。
本発明によれば、以下に述べるように袖口および非経口
で優れた酸分泌抑制作用と、抗潰嚇作用を有し、ざらに
各作用が艮時間持続する安全性の高い新規な化合物を得
ることができる。
つぎに、一般式〔I」のアミン酵導体およびその塩の代
表的化合初の楽壇作用について述べる。
(I)酸分泌迎制作用 1)ゴーシュおよびシルト汰(Ghoshおよび5ch
ildffi) Lエム・エヌ・ゴーシュおよびエイチ
・オー・シルト(M、N、 Ghosh andH,(
J、 5child :グリティッシュ・シャーナル・
オプ・ファーマコロゾー(Urit、J、 Pharm
acol) 。
第13巷第54頁(1958年)に準じた」18時間杷
貸したウィスター(Wistar)系ラット(坩、20
0〜2501をウレタン麻酔し、開腹後、前冑都?切開
し、胃内を生理賞塩水で十分仇伊し、切口を縫合した。
十二指@側よりシリコンチューブを胃内に約5鵡押入し
、同友した。
ついで、7ICU化ナトリウム水浴液で…約10に調歪
された生理食塩水を、−足速就(1d/min )  
で経口ゾンデを通して胃内を潅流させ、シリコンチュー
ブよシ流出したl狼流版の声変化を連続的に記録した。
この間、酸分泌刺激剤としてヒスタミン30μi/す7
m i n全0.3 ml / minの割合で大腿静
脈から持VC注入した。
薬剤は、酸分泌がほぼ定常(Ill(3,3±0.2)
になったところで靜猟内投与し、谷用重の醒分泌仰制作
用がプラトーに達したところで累積的に退〃口投与した
4刑の累積投与によって酸分泌が、はぼ児全に仰市りさ
れ、流出1精訛漱の一1直がヒスタミン投与前QpH値
とほぼ同じになった時点から、−1値が4となるまでの
時間を作用持続時間とした。
笑験例敗は谷用溜につき3例とした。
その結果を表−1に示す。
次−1 薬剤 1.  N−<2−([5−(ジメチルアミノ)メチル
−2−フリルコメチルチオ)エチル〉−N’ −([2
−ヒドロキシ−2−(2−チエニル)]エチル)−2−
二トロー1.1−エテンゾアミン 2、  N−<2−([5−Cツメチルアミノ)メチル
−2−フリル〕メチルチ、t−1工f # ) −N’
 −((2−ヒドロキシ−2−(3−メチル−2−チエ
ニル)〕エテル)−2−ニトロ−1,1−二テンゾアミ
ン 3、N −<2−[5−(ジメチルアミノ)メチル−2
−フリルコメチルチオ)エチル〉−N’−([2−ヒド
ロキシ−2−(3−ビリゾル)]エチル)−2−二トロ
ー1.1−エテンゾアミン 4、N−([2−ヒドロキシ−2−(3−メチル−2−
チエニル)〕エチル)−2−二トローN’−(3−(3
−ビベリゾノメチルフェノキシ)プロピルJ−1,1−
エテンゾアミン5、N−(〔2−ヒドロキシ−2−(3
−ビリゾル)〕エテル)−2−二トローN’−(3−(
3−ビペリゾノメチルフェノキシ)プロピル3−1.1
−エテンゾアミン シメチジン:l−シアノ−2−メチル−3−(2−((
5−メチル−4−イミダゾリル)メチルチオ」エチル)
グアニジン ラニチジン: N−<2− ([5−(ジメチルアミノ
)メチル−2−フリル」メチルチオ)エチル〉−N′−
メチル−2−ニトロ−1゜l−エテンゾアミン C:N−<2−([5−(ジメチルアミノ)メチル−2
−フリルコメチルチオ)エチル〉−2−二トローN′−
7エネチルー1.1−エテンゾアミン L):N−<2−((5−(ジメチルアミノ)メチル−
4−メチル−2−チエニルコメチルチオ)エチル〉−2
−二トローN′−フェネチル−1,1−エテンゾアミン E:2−ニトロ−N−7エネチルーN’−1:3−(3
−ビペリゾノメチルフエノキシ)70ロビル〕−1,1
−エテンゾアミン it)幽門結紮法 〔エイチ・シエイら(H,5hay et al ) 
:ガストロエンテooシー(Gastroentero
logy)。
第5巻、第43頁(1945年)に準じた。Jl#5〜
6匹のウィスター(Wistar J系ラット(jl、
190〜230f)を35時間絶食させた後、薬剤を経
口投与し、2時間後エーテル麻酔Fに幽門部を結紮した
。ついで、腹壁を縫合し、ただちにヒスタミン25η/
Kgを背部皮下に投与し、3時間後に屠殺して、噴門部
を結紮し、冑を通出した。摘出した南門に#留水l−を
注入した後、胃散金遠心分離し冑漱のt’に測定した。
分離した胃液lゴを0.1N水酸化す) IJウム水溶
液で滴定し。
−7,0を終点としてその冑漱の酸度を測定して餓産出
tを求めた。
対照群には生理食塩水を投与した。
胃酸分泌抑制率は次式により求めた。
X   100 その結果を表−2に示す。
以下余白 表−2 注)  ** : p<0.01 * : p<0.05 〔■〕急性毒性                 に
ICR系マウス(雄、20〜25))に薬剤  ′を経
口投与し、liM+15後まで観察した。     →
その結果を表−3に示す。         (表−3
蝿 表−1〜3から、一般式CI]のアミン彷導体およびそ
の塩は、潰れた酸分泌抑制作用を有し、抗1j!を瘍作
用が漬れていること、その作用は長時間持続すること、
低用賞で効力を発揮すること、低毒性で、安全域が広い
などの漬れた性質を有することが明らかである。さトに
また、本発明化合物(薬剤番号1および3)の酸分泌抑
制作用上、特開昭54−109963号公報および同5
3−149936号公報に記載9代表的化合物(薬剤番
号AおよびB)のそtと比較して試験した。
≦剤 A:N−<2−((5−(ジメチルアミノ)メチル−2
−フリル〕メチルチオ)エ チル>−N’−<2− (C5−(ジメチルアミン)メ
チル−2−チエニル〕メ チルチオ)エチル〉−2−二トロー1゜1−エテンゾア
ミン BIN−メチル−N’−(3−(3−(1−ピロリゾニ
ルメチル)フェノキシ〕ゾ ロピル)−2−ニトロ−1,1−二テ ンゾアミン く試験方法〉 [mJ酸分泌抑制作用 1)ゴーシュおよびシルト法(Ghoshおよび5ch
ild 法)[エム・エヌ・ゴーシュおよびエイチ・オ
ー・シルト(M、N、Ghosh and H。
0、5child ) :ブリティッシュ・シャーナル
・オブ・ファーマコロゾー(Br1t、 J。
Pharmacol ) 、第13巻、第54頁(19
58年)に準じたつ 18時間絶大したウィスター(Wistar )系ラッ
ト(雄、200〜250y)をウレタン麻酔し、開腹後
、前青部を切開し、胃内を生理食塩水で十分洗浄し、切
口を縫合した。
十二指1Mh4JJJJよりシリコンチューブを胃内に
約5■挿入し、固定した。
ついで、水酸化ナトリウム水溶液で一約lOに、S1整
された生理食塩水金、一定速度(1ゴ/ min )で
経口ゾンデを通して胃内全潅流させ、シリコンチューブ
より流出した1a流液の声変化を連続的に記録した。こ
の間、酸分泌刺激剤としてヒスタミン30μ? /Ky
 /minを0.02 ml / minの割合で大腿
静脈から持続注入した。
薬剤は、酸分泌がほぼ足常(m3.3±0.2)になっ
たところで静脈内投与し、各用量の酸分泌抑制作用がノ
ラトーに達したところで累積的に追加投与した。
薬剤の累積投与によって酸分泌がほぼ完全に抑制され、
流出潅流液のpH1直がヒスタミン投与前の一厘とほぼ
同じになった時点から、…値が4となるまでの時間を作
用持続時間とした。
実験例数は各用量につき3例とした。
その結果を表−4に示す。
表−4 11)幽門結紮法 〔エイチ・シエイら(HlShay et al ) 
:ガストロエンテooシー(Gaatroentero
logy)。
第5巻、第43頁(1945年)に準じた。〕11群6
〜7のライスp −(Wistar )系ラント(,2
1I!:、190〜230F)を24時時間穴させた後
、薬剤を経口投与し、2時間後エーテル麻酔下に幽門部
全結紮した。ついで、腹壁を縫合し、ただちにヒスタミ
ン25m1i/に9を背部皮下に投与し、3時間後に屠
殺して、噴門部を結紮し、背金摘出した。摘出した胃内
に蒸留水1−を注入した後、胃液を遠心分離し胃液の量
を測定した。分離した胃液l−全0.IN水酸化ナトリ
ウム水溶液で滴定し、田7.0を終点としてその胃液の
酸度を測定して酸量出量を求めた。
対照群には生理食塩水を投与した。
胃酸分泌抑制率は次式により求めた。
×100 その結果を表−5に示す。
表−5 注) ** : P<0.01 以上の比較試験結果から、本発明化合物(薬剤番号1お
よび3)は公知化合物(薬剤査号AおよびB)に比較し
、優れた酸分泌抑制作用を有することが明らかでるる。
つぎに、一般式CDのアミン誘導体またはその塩の製造
法について述べる。
一般式(I)のアミン誘導体またはその塩は、自体公知
の方法によって製造できるが、たとえば、つぎの製造工
程によって製造することができる。
以下余白 [式中、Q、Q’およびマは、同一または異なって脱離
しうる基=1.、g3aは、ヒドロキシル保護基を、 
RIGは、アルキル基またはアルアルキル基金、Rtb
は、水素原子、シアノ基、ヒドロキシル基f1アルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、置換基を有していて
もよいアリール基、置換基を有していてもよいアリール
オキシ基、またはアミン基を、 Kl、 82. R3
゜p、q、x、y、および2は、それぞれ前述した意味
を示す。」 以下、各製造ルートについて述べる。
i) cIIJ +(LID −+ CIV)および[
lVJ + [VJ 4 Cl)の工程 一般式CDのアミン14体およびその塩は、一般式(t
V)の化合物と一般式CVIの化合物てたはその塩を溶
媒の存在下、あるいは不存在下に反応させることによっ
て得ることができる。
一般式[IV)におけるQの脱離しうる基としては、た
とえば、ハロゲン原子;アルキルチオ基;メチルスルフ
ィニル、およびエチルスルフィニルなどのアルキルスル
フィニル基;ペンシルチオなどのアルアルキルチオ基;
アルコキシ基;1−イミダゾリル基; 3 、5−ジメ
チルビラゾリル基などの通常知られている脱離しうる基
が挙げられる。
一般式(V)の化合物の項としては、一般式CI)のア
ミン誘導体の塩で例示したと同様の塩が挙げられるが、
酸化力ff塩の場合は、たとえば、ナトリウムメトキシ
ド、炭酸カリウムなどの適当な塩基で処理し、遊離塩基
として使用することが好ましい。
溶媒を使用する場合は、反応に悪影響を与えない溶媒で
あれば特に限定されることなく使用され、たとえば、メ
タノール、エタノール、イングロノ9ノール、およびエ
チレングリコールナトのアルコール類;アセトニトリル
、およびゾロビオニトリルなどのニトリル類;ジエチル
エーテル、ソイソゾロビルエーテル、1.2−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、およびジオキサンなど
のエーテル類−塩化メチン/、クロロホルム、および1
,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ベ
ンゼン、トルエン、おヨヒキシレンなどの芳香族炭化水
素類;ジメチルホルムアミド、およびジメチルアセトア
ミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシド;ビリシン
、および水などのgii単独あるいはこれらの二種以上
を混合して使用することができる。
さらに、一般式(IVIの化合物と一般式(V)の化合
′@またはその塩との反応では、必要に応じて塩基や重
金属塩が使用でき、かかる塩基としては、水酸化カリウ
ム、および水酸化ナトリウムなどの水酸化アルカリ類;
炭酸カリウム、および炭酸ナトリウムなどの炭酸アルカ
リ類;炭酸水素カリウム、および炭酸水素ナトリウムな
どの炭酸水素アルカリ類などの無機塩基;またはトリエ
チルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルビベリ
シン、およびビリシンなどの第三アミン類が挙げられる
また、一般式〔v〕の化合′fmを過剰に使用すること
によって塩基に代えることもできる。
重金属塩としては、硝醒銀、酢酸第二鉛、および酢酸第
二水銀などが挙げられる。
一般式〔1v〕の化合物並びに一般式〔v〕の化合物お
よびその塩には、幾何異性体、互変異性体、光学異性体
およびラセミ体が存在するが、それらのいずれも使用す
ることができる。
轡に、一般式〔V)の化合物またはその塩はその分子中
に不斉炭素を有することから、一般式(Ilのアミン誘
導体またはその塩の元学活性体金得る場合は、一般式[
V]の化合物またはその塩の光学活性体を使用すること
が好ましい。このことは、他の工程においても同球でろ
る。
一般式CVIの化合物またはその堰の使用量は、−数式
CN」の化合物に対して当モル以上使用することが好ま
しい。
この工程における反応温度および反応時間はtp!fK
限定されないが、通常、−5℃から200℃、好ましく
は5℃から120℃、10分から48時間である。
つき′に、−数式[IVJの化合g:Jは、−数式〔■
」の化合物またはその塩と一般式〔徂〕の化合物を溶媒
の存在下るるいは不存在下に反応させることによって得
ることができる。
−数式〔■〕におけるQおよびQ′は、同一または異な
って、脱離しうる基全示し、そのような基としては、た
とえば、前述した一数式CN〕のQで説明したのと同様
な基が挙げられる。
一般式[111Jの化合物の塩としては、−数式(V)
の化合物の塩で説明したのと同様な塩が挙げられる。
この反応は、前述した一般式〔1v〕の化8gIと一般
式(V)の化合物またはその塩全反応させる場合に準じ
て行われるが、−数式CIIIJの化合物の使用量は、
−数式〔■〕の化合物またはその塩に対して当モル以上
使用するのが好ましい。
この工程において、−数式[1■Jの化合物を単離する
ことなく、−数式CDの目的化合物を製造することもで
きる。
ii) (II) + [VIJ→[I)の工程−数式
CDのアミン誘導体およびその塩は、−数式CIIJの
化合物またはその塩と一般式(VIEの化合物全溶媒の
存在下めるいは不存在下に反応させることによって得る
ことができる。
−数式〔VDにおける1(3aのヒドロキシル保護基と
しては、ベンズヒドリル、ベンシル、トリチル、テトラ
ヒドロフリル、テトラヒドロヒラニル、メトキシメチル
、2−ニトロフェニルチ、t−12,4−ゾニトロフェ
ニルチオ、およびアルキル基が挙げられる。
この工程は、前述した一般式〔lv」の化合物と一般式
CVJの化合物またはその瓜を反応させる場合に準じて
行われる。
また、−数式(Vl〕の化合物は、−数式CILDの化
合物と対応するアミン化合切金先の1)で述べたと同様
にして製造することができる。
III)〔ID→〔■〕→[Idlの工程−数式[1d
]  の化合物は、常法により得られる一般式〔■」の
インチオシアネート類と一般式〔v〕の化合物またはそ
の塩を反応させることによって得られる。
一般式〔■]のイソチオシアネート類は%従来公知の方
法、たとえば、−数式CIIJの化合物にカルボシイミ
ド類、たとえば、N、N’−ジシクロへキシルカルボシ
イミドの存在下、二億化炭素を反応させることによって
得ることができる。
また、−数式〔■〕のインチオシアネート類と一般式〔
VDの化合物またはその塩の反応は、溶媒中で行われる
使用される溶媒は、反応に悪影#を与えない溶媒でろれ
ば特に限定されることなく使用され、たとえば、エタノ
ール、およびイソゾロパノールナトのアルコール類;ア
セトニトリル、および7″ロビオニトリルなどのニトリ
ル類;ベンゼン、トルエンおよびキシレンなトノ芳9族
炭化水素類;ゾエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
およびジオキサンなどのエーテル類:お、び水などの溶
媒全単独めるいはこれらの二種以上を混合して便用する
ことができる。
この工程における反応温度および反応時間は特に限定さ
れないが1通常、5〜120℃、5分から24時間で十
分である。
モらに、こつ工程ニ、トリエチルアミン、N−メチルビ
ペリシン、N−メチルモルホリン、ビリシン、およびN
−メチルイミダゾールなどの第三アミンなどの存在下に
行うこともできる。
+v) CId〕十(檀〕→[lXJの工程−数式〔■
〕の化合物は、−数式(Idコの化合物と一般式〔壇」
の化脅vlJを溶媒の存在下反応させることによって得
ることができる。
−数式〔頃〕におけるQ″の脱離しうる基としては、ハ
ロゲン原子、メチルスルホネート、オヨU p −トル
エンスルホネートなどのスルホネート基が挙げられ g
lQ QLIのアルキル化剤およびアルアルキル化剤と
しては、たとえば、ヨウ化メチル、ジメチル硫酸、p−
)ルエンスルホン酸メチルエステル、臭化ベンシルおよ
びメタノール−塩化水素などが挙げられる。
浴妖としては、たとえば、ジメチルホルムアミド、およ
びジメチルアセトアミドなどのアミド類;メタノール、
およびエタノールなどのアルコール類;水など通常、ア
ルアキル化剤応に使用される溶媒が挙げられる。
きらに、ナトリウムメトキシド、またはナトリウムエト
キシドなどのアルカリ金属アルコキンド;炭酸カリウム
、または炭酸ナトリウムなどの炭酸アルカリ;炭酸水素
カリウム、または炭酸水素す) l)ラムなどの炭酸水
素アルカリ;水酸化カリウム、または水酸化ナトリウム
などの水酸化アルカリなどの塩基の存在下に反応を行っ
てもよい。
この工程における反応温度および反応時間は特に限定さ
れないが、通常、20〜100℃、30分から12時間
で十分である。
v) [IXJ + CXJ→〔Ie〕の工程−数式[
Ielの化合物は、−数式[IXJの化合物と一般式[
X]の化合物またはその項を溶媒の存在下に反応させる
ことによって得ることができる。
一般式[X]におけるル4bの性基はR4で説明したと
同様の意味を示す。
一般式CXIの化合物の塩としては、−数式(VJの化
合物の塩で説明したのと同様な塩が挙けられる。
使用される溶媒は、反応に悪影響を与えない溶媒でめれ
ば、特に限定されることなく使用され、たとえば、ジメ
チルホルムアミド、およびジメチルアセトアミドなどの
アミド類;テトラヒドロフラン、およびジオキサンなど
のエーテル類; tert−7”タノール、:r−チV
ングリコール、およびゾロピレングリコールなどのアル
コール類:ベンゼン、トルエン、およびキシレンなどの
芳香族炭化水素類;およびジメチルスルホキシドなどの
溶媒を単独るるいはこれらの二種以上全混合して使用す
ることができる。
また、この工程では、塩基や重金属塩が使用でき、かか
る塩基としては、トリエチルアミン、l−メチルビペリ
シン、l−メチルモルホリン、およびビリシンなどの第
三アミン;ナトリウムメトキシド、およびカリウムte
rt−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなど
が挙げられる。重金属塩としては、硝酸銀、酢rR第二
鉛、および酢酸第二水銀などが挙げられる。さらには、
−数式[Xlの化せ@を過剰に使用することもできる。
−数式(Xlの化合物またはその塩の使、」櫨は、−数
式(IXJの化合物に対して当モル以上使用することが
好ましい。
この工程における反応温戻および反応時間は特に駆足さ
れないが、通常、20〜150℃、30分から48時間
で十分でろる。
上述した各製造工程において、−数式〔■」、〔■〕、
CVI、〔ν厘〕、および〔X〕の原料化合物は、自体
分類の1沃、実施例で記載された方法およびこれらに準
じた方法によって製造される。
かくして、得られた一般式〔IJのアミン誘導体または
その塩は1通常の操作、たとえば、再結晶、抽出、光学
分割、およびカラムクロマトグラフィーなどによシ容易
に単離採取することができる。また R3が、水素原子
である化合物は、さらにR3がヒドロキシル保護基であ
る化合物に常法により変換することができるし、またR
3が、ヒドロキシル保護基である化合wは、常法によジ
ヒドロキジル保護基金脱離させることによってR3が水
素原子である化合物に変換することができる。そして、
R1またはR2の置換基が、たとえば、ヒドロキシル基
である場合は、−数式[IJのアミン誘導体またはその
塩を、アシル化反応に付すことによって R1またはR
2が、アシルオキシ基で置換された目的物に変換するこ
とができるし、R1またはR2の置換基が、ニトロ基で
おる場合は、還元することによって、 R1またはR2
のt換基が、アミノ基である目的物に変換することがで
きる。
このようにR1またはR2の各置換基は、常法によシ目
的とするR1またはR2の1it換基へ変換することが
できる。
さらに2についても、たとえば、2が、 =NCNであ
る化合物を、30〜60℃で希塩酸などの酸性下で加水
分解することによって、2が、=NCONH2でろる化
合物へ変換することができ、さらに、Zが=NCONM
2でろる化合物を、常法によって容易に目的とするZが
弐NR4(式中、R4は前述した意味を有する。)で表
わされる基である化合物へ変換することもできる。−数
式CDのアミン誘導体の塩は、遊離体から常法によって
容易に得ることができる。
一般式〔l)のアミン訪導体または七の塩を含有する抗
潰瘍剤は、たとえば、錠剤、硬カプセル剤、軟カプセル
剤、顆粒剤%散剤、細粒剤、丸剤、トローチ錠、軟鴬、
層剤、注射剤、懸濁剤、乳剤、点滴剤、るるいはシロッ
プ剤などの形に常法によシ調製し、経口または非経口的
経路で投与することができるが、符に経口投与が好まし
い。
経口または非経口的投与に通した種々の形態に製剤する
Kは、通常使用される無毒性の賦形剤、結合剤、滑沢剤
、崩壊剤、または層剤基剤などの添加物全便用して製剤
することができ、さらに必要に応じて等張化剤、安定化
剤1分散剤、酸化防止剤、層色剤、香味剤、または緩衝
剤などの范加物を使用することもできる。
また、治療上有用な他の檗剤を含有させることもできる
一般式CDのアミン−導体またはその塩の投与量は、経
口または非経口的投与にて、−般に成人で1日当シ0.
001η/ゆ〜lOlノダ/ Ky全1回から4回でる
るか、投与経路1.@者の症状の違いにより投与量およ
び投与回数は適宜変更が’aJ能でるる。
つぎに、本発明金実鬼例および裂削例を挙げて説明する
が、本発明は、これらに限定されるものではない。
実施例1 (1)  フルフリルアルコール1532%ジメチルア
ミン11111128yおよび、Qラホルムアルデヒド
70ノをエタノール600−に混合させて得られる混合
物を還流下に2時間反応させる。その後、さらにパラホ
ルムアルデヒド70yを加えて、還流下で18時間反応
させる。反応終了後、減圧下に反応液から溶媒を留去し
て、残留吻に水500−および無水炭酸ナトリウム86
1を加え、旧状物を分取する。得られた油状物をジエチ
ルエーテル500m1でそれぞれ3回抽出し、抽出液を
合わせた後、無水鎖酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下
に溶媒を留去すれば旧状物が得られる。
得られた油状物を減圧蒸留すれば、那点128〜133
℃/15■Hノを示す5−(ジメチルアミノ)メチル−
2−フルフリルアルコール1055’(収率43.4チ
)を得る。
(2)  システアミン塩酸塩50.OfをIIIk塩
酸180−に溶解させた溶頑に(1)で得られた5−(
ジメチルアミノ)メチル−2−フルフリルアルコール6
8.3r’i攪拌しながら、0〜5℃で滴下する。滴下
後、0〜5℃で200時間反応せる。これに、水400
WLl!’にカロえ、炭酸すl−I)ラムで中オフした
後、101’JyKml化ナトリウム水浴液で−lOに
v4金し、油状物を分取する。得られた旧状物をクロロ
ホルム500ゴで佃出し、抽出液を無水侃ばマグネシウ
ムで乾燥させた後、減圧下にこの抽出液から溶媒全留去
すれば旧状物が得られる。得られた油状物を減圧蒸留す
れば、沸点120〜b メチルアミン)メチル−2−フリル〕メチルチオ)エチ
ルアミン42.5S’(収率45%)を得る。
(3)  (2)で得られた2−([5−(ジメチルア
ミノ)メチル−2−フリル〕メチルチオ)エチルアミン
40.Ofおよび1.1−ビス(メテルテ、t)−2−
ニトロエテノ61.フPiゾオキサン200−に加えて
得られる混合mを加熱還流下、10分間反応させる。反
応終了後、減圧下に反応液から溶媒を留去して、残留物
にエタノール200−を刃口えて、不溶物を溶去した後
、減圧下にFaから溶媒を留去して、残留物全カラムク
ロマトグラフィー(フコ−グルC−200シリカゲル;
溶離剤、クロロホルム:エタノール=30:l)で精製
すれば、融点71℃を示す1−<2−(C5−(ジメチ
ルアミノ)メチル−2−フリル〕メチルチオ)エチルア
ミノ>−1−メチルチオ−2−ニドo xテy44 ?
 (収率71.3 % )を得る。
議(C仄Ls)δ値: 2.19 (6H,s 、−CH,x2) 。
2.59 (3H、s 、 −CH3) 。
2.76〜2.97 (2H,m 、 ”;CH2) 
3.46 (21(、s 、 、CH2) 。
3.51〜3.83 (2J(、m、 lCH4) 。
3.91 (2H,s 、 lCH4) 。
6.32(If′i、d、フラン環H)。
6.42(IH,d、フラン環H)。
6.82 (IH,s 、=CH−) 。
10.1−10.5(11(、b、/NH)(4)  
(3)で得られた1−<2−((5−(ジメチルアミノ
)メチル−2−フリル〕メチルチオ)エチルアミン〉−
1−メチルチオ−2−二トロエテン0.70fおよび〔
2−ヒドロキシ−2−(4−ビリゾル)〕エチルアミン
1.171をエタノール4−に溶解させて得られる溶液
を還流下、1時間反応をせる。反応終了後、減圧下に反
応液から溶媒を留去して、残留物をカラムクロマトグラ
フィー(フコ−グルC−200シリカゲル;溶離剤、ク
ロロホルム:メタノール=20:l)で精製すれば、油
状のN−<2−((5−(ジメチルアミン)メチル−2
−フリル〕メチルチオ)エチル〉−N′−(C2−ヒド
ロキシ−2−(4−ビリゾル)〕エチル)−2−二トロ
ー1.1−エチルアミノ0.55f(収率62%)を得
る。
脇(C仄1−s )δ値: 2.13 (6M、 s 、 −CM3x2) 。
2.62〜2.99 (2H、rn 、 y CHz 
) 。
3.20〜3.71 (4H,m、/C)12x2) 
3.40 (2fi 、 s 、lCH2) 。
3.81 (2H,s 、、CH2) 。
6.26(21(,1,フラン環t−1x2)。
6.68 (LH,a 、=CH−) 。
7.55(2)I、d、ビリシン環1−IX2)。
8.67(2f(、d、ビリシン環Hx2)。
10.33 (1)i 、 bs 、 7 NM)同様
にして、次式のR2がそ几ぞれ置換された表−6に示す
化合物を得た。
実施例2 (1)3−メチル−2−テニルアルコール20.8tお
よびトリエチルアミン27.1dを塩化メチレン200
−に溶解させ、これにチオニルクロリド12.9mを−
15−10’Cで30分を要して滴下し、さらに同温度
で30分間反応させる。反応液を氷水中に導入し、有機
ノーを分取した後、無水4A酸マグネシウムで乾燥させ
る。ついで、これを、ジメチルアミン955’をエタノ
ール550−に溶解させた溶液に水冷下部下し、室温で
1侠放置する。減圧下に反応液から溶媒を留去した佼、
残留物に水100g/を加え、さらに炭酸カリウムを加
えてpH1oに調整した後、酢酸エチル200T!11
で抽出する。抽出gを飽和食塩水メチル−3−メチルチ
オフェン1g、QP(収率75チンを得る。
(2)  (1)で得られた2−(ジメチルアミノ)メ
チル−3−メチルチオフェン15.5fi無水テトラヒ
ドロフラン70−に溶解させ、これに窒素雰囲気下、−
20〜−1o℃でn−ブチルリチウム−n−ヘキサン#
1(1sチ浴液)70−を滴下し、滴下終了後徐々に昇
温させ、室温で4時間反応させる。反応終了後、この溶
液に水冷下、Qラホルムアルデヒド3.6ft添加し、
発熱がなくなった後さらに2時間反応させる。
反応終了後、減圧下に反応液から溶媒を留去して、残留
物に氷水20−とクロロホルム100m1を加え、有機
層を分取する。有機層を水20−および飽和食塩水lO
−で順欠洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
、ついで減圧下にこの有機層から溶媒を留去すれば油状
物を得る。減圧下に110〜115℃の油浴上でこの油
状物から未反応の原料を留去すれば、粗の5−(ジメチ
ルアミノ)メチル−4−メfルー2−テニルアルコール
17、Or(収率92チ)(i−得る。
(3)  システアミン塩酸塩15.6f全濃堰酸11
5−に溶解させた溶液に、(2)で得られた粗の5−(
ジメチルアミノ)メチル−4−メチル−2−テニルアル
コール17.Or’ThO℃テtlA 710し、これ
を室温で2日間反応させる。反応終了後、この反応液に
氷冷下、炭酸ナトIJウムを水がなくなるまで徐々に添
加し、遊離した油状物を酢酸エチル200−で抽出する
。抽出液を無水炭酸カリウムで乾燥させ、減圧下にこの
抽出液から溶媒を留去すれば、黄色油状の粗2− ((
5−(ジメチルアミノ)メチル−4−メチル−2−チエ
ニルコメチルチオ)エチルアミン20.4P(収率91
%)’Th得る。
(4)  (3)で得られた粗の2−((5−(ジメチ
ルアミノ)メチル−4−メチル−2−チエニルJメチル
チオ)エチルアミン14.Ofと1.1−ヒス(メチル
チオ)−2−ニトロエテン19.0riアセトニトリル
70−に混合させ、これ全還流下、2時間反応させる。
反応終了後、減圧下に反応液から溶媒を留去して、残留
物にエタノール30rntを加えて不溶物をP去する。
減圧下にFgから溶媒全留去して、残留物をカラムクロ
マトグラフィー(フコ−グルC−200シリカゲル;溶
離剤、クロロホルム:メタノール=30:l)で精製す
れば、融点61〜64℃を示すl−<2−([5−(ジ
メチルアミノ)メチル−4−メチル−2−チエニル〕メ
チルチオ)エチルアミン〉−1−メチルチオ−2−二ト
ロエテン19.02(収率92チ)を得る。
N處(CDCt、)δ値: 2.13 (3R,s 、−Cf(3)。
2.27 (61″i、 s 、  CH3X2 ) 
 。
2.46 (3)i、 s 、 −CH3) 。
2.79 (21(、t 、 /CM、 ) 。
3.45〜3.85 (2R、m 、ンC)I2)。
3.51(2M、s、/Cf% )。
3.91(2H,s、ンcH,)。
6.60 (IH、s 、 =CH−) 。
6.71(IH,s、チオフェン環H)。
10.6  (1,H,bs 、ンN)I)(5)  
(4)で得られた1−<2−[5−(ジメチルアミノ)
メチル−4−メチル−2−チエニル〕メチルチオ)エチ
ルアミン〉−1−メチルチオ−2−二トロエテン0.6
0Pおよび(2−(2−フリル)−2−ヒドロキシ〕エ
チルアミン0.85Piエタノール6−に混合させ、こ
れを還流下、1時間反応させる。反応終了後、減圧下に
反応液から溶媒を留去して、残留物全カラムクロマトグ
ラフィー(フコ−グルC−200シリカゲル;浴離剤、
クロロホルム:メタノール=20:l)でf[すれば、
油状のN−<2− ((5−(ジメチルアミン)メチル
−4−メチル−2−チエール〕メチルチオ)エチル>−
N’−[C2−(2−フリル)−2−ヒドロキシ〕エチ
ルー2−二トロー1.1−エテンゾアミン0.40r(
収率55%)を得る。
N處(CDCt、 )δ値: 2.12 (3f−1,t 、 −CH,) 。
2.17 (6H、s 、  CH3X2 ) 。
2.45−2.95 (2)1.m、7CM、)。
3.0−3.75 (4M、m、ンCM2x2)。
3.41 (2H、s 、 7 CH2) 。
3.80 (2M + 3+ /”z ) +6.27
 (2H,bs 、7ラン環1−IX2)。
6.51 (LH、s 、 =CH−) 。
6.60(LH,s、チオフェン環1−1) 。
7.15〜7.45 (IH、m 、フラン環H)) 
  同様にして、次式のR2がそれぞれ置換された表−
7に示す化合vlJ′f:得た。
表−7 実施例3 (1)N、N−ジメチルホルムアミド150−に水素化
ナトリウム4.8r(純度52チ)を懸濁させた懸濁液
に水冷下、3−ピペリジノメチルフェノール20.0?
を夕波ずつ攪拌しながら添加し、添加終了後、この混合
物を室温で1時間反応させる。この反応液に、N−(3
−ブロモグロビル)フタルイミド28.02を加えて得
られる混合物を室温で一昼夜反応させる。反応終了後、
減圧下に反応液から溶媒を留去して、残留物に水300
7!およびクロロホルム3001+!7!i加えて溶解
させる。
有機層を分取し、無水減酸マグネシウムで乾燥させた後
、減圧下にこの有機層から溶媒を留去すれば、油状のN
−[3−(3−ピペリジノメチルフェノキシ)プロピル
」フタルイミド35.Or(収率88.5チ)を得る。
(2)  (1)で得られたN−1:3−(3−ピペリ
ジノメチルフェノキシ)プロピル」フタルイミド29.
3rをエタノール200−に溶解させ、このfg液に攪
拌しながら室温で抱水ヒドラゾン23.1−を加え、こ
れを同温度で一昼夜反応させる。反応終了後、減圧下に
反応液から溶媒全留去して、残留物にトルエン30o−
を加え、共沸脱水した後、クロロホルム500−を加え
、不浴物全戸去する。減圧下にP液から溶媒を留去すれ
ば、油状の3−(3−ピペリジノメチルフェノキシ)7
°0ピルアミン16.lr(収率84%)を得る。
(3)  (2)で得られた3−(3−ピペリジノメチ
ルフェノキシ)7’oピルアミン16.0?および1.
1−ビス(メチルチオ)−2−二トロエテン21.3r
’iアセトニトリル100−に混合させ、これを加熱還
流下、2時間反応させる。反応終了後、減圧下に反応液
から溶媒を留去して、残留物にエタノール100−を加
え、不溶物を戸去する。減圧下にF液から浴Sを留去し
て、残留物をカラムクロマトグラフィー(フコ−グルC
−200シリカゲル;溶離剤、クロロホルム:メタノー
ル−20=1)で精製すれば、融点68〜69.5℃全
示すl−メチルチオ−2−二トロー1−(3−(3−ピ
ペリジノメチルフェノキシ)プロピルアミン〕エデン1
8.or(収率76.3チ)を得る。
N處(CDCLs)δ値: 1.16〜1.83 (6H、m、 /cHz×3) 
1.89〜2.53 (6H,m、ンCM、X3)。
2.42(3H,s、 −〇M3)。
3.47 (2fi、 s 、 ’:;CH2) 。
3.69(21−1,td、ンC)i、)。
4.11(2)i、t、、C)I、)。
6.62 (I H、s 、 =CM−) 。
6.75−7.43 (4H,m、ベンゼン環HX4)
10.61(In、bs、、NH) (4)  (3)で得られた1−メチルチオ−2−二ト
ロー1−[3−(3−ピペリジノメチルフェノキシ)f
ロビルアミノ〕エテン1.0ノおよび〔2−ヒドロキシ
−2−(3−メチル−2−チエニル)〕エチルアミン1
.77r’iエタノール10−に溶解させ、これ全加熱
還流下、2.5時間反応させる。反応終了後、減圧下に
反応液から溶媒を留去して、残留物をカラムクロマトグ
ラフィー(クコ−ダルC−200シリカゲル;溶離剤、
クロロホルム:メタノール=30:1)で絹製すれば、
油状のN−〔2−ヒドロキシ−2−(3−メチル−2−
チエニル)エチルクー2−二トローN’−[3−(3−
ピペリジノメチルフェノキシ)プロピルクー1.1−エ
テンゾアミン0.822(収率63%)を得る。
NMR(CDC13)δ値: 1.10−1.80 (6H、rn 、 ;cm2x3
) 。
1.82〜2.55 (6H、m 、’/CH2X3)
2.1 7  (3H、s  、  −CH,ン 。
3.03−3.83 (6H,m、ンCH2X3)。
4.15(2H,m、”、CH,)。
6.69 (If(、s 、=CkI−) 。
6.75〜7.50 (6H,m、ベンゼン環)iX4
゜チオフェン環RX2) 同様にして、次式のR2がそれぞれtmされた表−8に
示す化合物を得た。
C)IN020H 表−8 実施例4 (1)  3−(3−C(3−ヒドロキシ−1−ピペリ
ジニル)メチル〕フェノキシ)プロピルアミン2yおよ
び1.1−ビス(メチルチオ)−2−二トロエテン5y
をジオキサン3〇−に混合させて得られる混合切金加熱
還流F130分間反応させる。反応終了後、減圧下に反
応液から溶媒を留去して、残留物にクロロホルム30−
を加え、不溶物を戸云する。減圧下にF液から溶媒を留
去して、残留物をカラムクロマトグラフィー(ワコーグ
ルC−2007リカグル;#離削、クロロホルム:エタ
ノール=20:1)で精製すれば、油状の1−<3−+
 3−〔(3−ヒドロキシ−1−ピペリジニル)メチル
]フェノキシ17’ロピルアミノ>−1−メチルチオ−
2−ニトロエテン2.2r(収率76.1%)を得る。
N廊(CDCl2 )δ値: 1.13−2.94 (1in 、 m 、 、ca2
xs 。
7CM) 。
2.40 (3H、s 、 −CH3) 。
3.14〜3.94 (3H,m、ンC)i、、−0H
)。
3.49 (2H,s 、″>C山)。
4.12 (2)i、zn、、CH,)。
6.64 (LH,s 、=CH−)。
6.71−7.54 (4H,m、ベンゼン環RX4)
10.64 (L H、bs 、 7NH)(2)  
(1)で得られた1−<3− (3−C(3−ヒドロキ
シ−1−ピペリジニル)メチル」フェノキシ)プロピル
アミン>−1−メチルチオ−2−二トロエテン17およ
び〔2−ヒドロキシ−2−(3−メチル−2−チエニル
)〕エチルアミン1.3vをエタノール1oTntK溶
解させて得られる溶gを加熱還流下、2時間反応させる
。反応終了後、減圧下に反応液から溶媒を留去して、残
留物全カラムクロマトグラフィー(フコ−グルC−20
0シリカゲル;溶離剤、クロロホルム:メタノール;]
0:l)で摺装すれば、油状のN−((2−ヒドロキシ
−2−(3−メチル−2−チエニル)〕エチルl−N’
−<313−((3−ヒドロキシ−1−ピペリジニル)
メチル〕フェノキシ)テロピル>−2−二トロー1゜1
−エテンノアミン1.Or(収率78.1%)を得る。
NMR(d6−DMSO)δgL: 0.65〜3.00 (IH’L、m、7CH2X5.
 、Cf1) 。
2.18(3H9B 、CH3)。
3.05−3.75(6H,m、zCf(2X3)。
4.02 (2H、m、 /CH2) 。
6.67 (l)i 、 s 、 =CH−) 。
6.65〜7.44 (6H,m、ベンゼン環H×4゜
チオフェン環H×2) 9.90〜10.70(IR,b、ンN1−1)実施例
5 (1)2−C(2−ジアミノメチレンアミノ−4−チア
ゾリル)メチルチオ」エチルアミン・二塩酸塩20yを
メタノール300ゴに懸濁させ、これにナトリウムメト
キシド7.1y(純度99.7%)を加えで、析出結晶
を戸去した後、減圧下にPgから溶媒を留去し、残留物
に、エタノール150WLt1アセトニトリル80−お
よび1.1−ビス(メチルチオ)−2−二トロエテン2
3.95”i混合させて得られる混合物を加熱還流下、
5時間反応させる。反応終了後、反応液を冷却し、析出
した結晶kF取し、メタノール500T1tI!で加熱
抽出する。抽出液を減圧下に濃縮乾固し、得られた結晶
をアセトニトリル100ゴで洗浄すれば、融点154〜
156℃(分解)を示す1−(2−((2−ジアミノメ
チレンアミノ−4−チアゾリル)メチルチオ〕エチルア
ミノ)−1−メチルチオ−2−二トロエテン14.8r
(収率65%)’に得る。
N處(d、 −DMSO)δ値: 2.67 (3H、s 、 −CM、 ) 。
2.20〜3.15(2H,m、/cM2)。
3.15〜4.15(4H,m、ンCH,X2)。
6.77 (LH、ta 、 =CH−) 。
6.87(IH,s、チアゾール環)i)。
7.67 (4R,bs、−NH,X2)(2)  (
1)で得られたN−(2−((2−ジアミノメチレンア
ミノ−4−チアゾリル)メチルチオ、〕エチルアミノ1
−1−メチルチオ−2−二トロエテン1.00?および
(2−(2−〕Uk)−2−ヒドロキシ〕エチルアミン
1.8orをエタノール30−に混合させて得られる混
合物を加熱還流下、2.5時間反応させる。反応終了後
、減圧下に反応液から溶媒を留去して、残留vlJを水
で2回洗浄した後、カラムクロマトグラフィー(フコ−
グルC−200シリカゲル:溶離剤、クロロホルム:メ
タノール:水=50:10:l)で精製すれば、融点1
71−173℃(分解)を示すN−+2−[(2−ジア
ミノメチレンアミノ−4−チアゾリル)メチルチオ〕エ
チル)−N’−([2−(2−フリル)−2−ヒドロキ
シ」エチル)−2−二トロー1.1−エテンゾアミン0
.49?(収率40%)を得る。
NMi((d、−DMSO)  δ1直二2.45−2
.9 5  (2H、m >CM、  ン 。
2.95〜3.90 (4H、m 、ンOn、x2)。
3.64 (2M、 s 、 /CH2) 。
6.35(2H,m、7ラン環HX2)。
6.48(IH,s、チアゾール環H)。
6.55 (LH、s 、 =CH−) 。
6.84 (4H、bs 、 NHx X2) 。
7.55(l)I、d、7ラン環H) 同様にして、つぎの化合物を得た。
0N−42−[(2−ジアミノメチレンアミノ−4−テ
アゾリルンメテルチオ〕エチル)−N’−([2−ヒド
ロキシ−2−(2−チエニル)〕エチル)−2−ニトロ
−1,1−エテンゾアミン 融点:181〜183℃(分解) NtViR(d6− DMS O) d 1直:2.4
 0−3.0 0  (2H、m  、  /Cti2
  )  。
3.00〜3.95 (4M 、 m、 /Ck42 
X2) 。
3.74 (2H,s 、/CH2) 。
6.66(In、s、チアゾール環H)。
6.74 (l l−1、s 、 =CH−) 。
7.02 (4H、bs、 −NH,X2) 。
7.20(:2R,m、チオフェン環H×’l、)。
7.59(LH,m、チオフェン環H)以上

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1は置換基を有していてもよいアリールま
    たは複素環式基を、R^2は置換基を有していてもよい
    フリル、チエニルまたはピリジル基を、pは0、1、2
    または3を、Xは酸素または硫黄原子を、qは2、3ま
    たは4を、Zは酸素もしくは硫黄原子、式NR^4で表
    わされる基(式中、R^4は水素原子、またはシアノ、
    ヒドロキシル、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルコ
    キシ、置換基を有していてもよいアシル、置換基を有し
    ていてもよいアリール、カルバモイル、スルファモイル
    、アルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、置換基
    を有していてもよいアリールスルホニル、置換基を有し
    ていてもよいアリールオキシ、置換基を有していてもよ
    いアシルアミノ、アルコキシカルボニルアミノまたはカ
    ルボキシアルキルアミノ基を示す。)または式CHR^
    5で表わされる基(式中、R^5はニトロ、置換基を有
    していてもよいアシル、置換基を有していてもよいアリ
    ール、アルキルスルホニルまたは置換基を有していても
    よいアリールスルホニル基をそれぞれ示す。)を、Yは
    メチレン基を、そしてR^3が水素原子またはヒドロキ
    シル保護基をそれぞれ示す。」 で表わされるアミン誘導体およびその塩。
  2. (2)R^1が、置換基を有していてもよいフェニル、
    チエニル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリル基で
    ある特許請求の範囲第1項記載のアミン誘導体およびそ
    の塩。
  3. (3)R^1およびR^2の置換基が、ハロゲン原子ま
    たはヒドロキシル、ニトロ、アミノ、ヒドロキシアルキ
    ル、シアノ、アルキル、アルコキシ、アシルオキシ、ア
    ルキレンジオキシ、ジアルキルアミノアルキル、ジアミ
    ノメチレンアミノ、ピペリジノアルキルまたは3−ヒド
    ロキシ−1−ピペリジニルアルキル基である特許請求の
    範囲第1項または第2項記載のアミン誘導体およびその
    塩。
  4. (4)Zが、酸素原子、ニトロメチレン、アルキルスル
    ホニルイミノ、置換基を有していてもよいアリールスル
    ホニルイミノ、シアノイミノまたはスルファモイルイミ
    ノ基である特許請求の範囲第1項〜第3項いずれかの項
    記載のアミン誘導体およびその塩。
  5. (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^6およびR^7は、同一または異なつて水
    素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基
    、アルアルキル基、ヒドロキシル基、ハロゲノアルキル
    基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
    ミノ−C_1_−_4アルキル基、C_1_−_4アル
    キルアミノ−C_1_−_4アルキル基、ジ−C_1_
    −_4アルキルアミノ−C_1_−_4アルキル基、ま
    たはR^6およびR^7が、それらが結合する窒素原子
    と一緒になつて飽和複素環式基を、Aはアルキレン基を
    、R^9は水素原子またはアルキル基を、p、q、X、
    Y、Z、R^2、およびR^3はそれぞれ前述した意味
    を示す。」 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミン誘導体
    およびその塩。
  6. (6)R^6およびR^7が、同一または異なつて、ア
    ルキル基である特許請求の範囲第5項記載のアミン誘導
    体およびその塩。
  7. (7)Zが、式NR^4^aで表わされる基(式中、R
    ^4^aはシアノ基またはアルキルスルホニル基を示す
    。)またはCHNO_2である特許請求の範囲第5項ま
    たは第6項記載のアミン誘導体およびその塩。
  8. (8)pが、1である特許請求の範囲第5項〜第7項い
    ずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  9. (9)Xが、硫黄原子である特許請求の範囲第5項〜第
    8項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  10. (10)qが、2である特許請求の範囲第5項〜第9項
    いずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  11. (11)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^2、R^3、R^6、R^7、R^9、A
    、X、Y、Z、pおよびqは前述した意味を示す。」 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミン誘導体
    およびその塩。
  12. (12)R^6およびR^7が、同一または異なつて、
    アルキル基である特許請求の範囲第11項記載のアミン
    誘導体およびその塩。
  13. (13)Zが、式NR^4^aで表わされる基(式中、
    R^1はシアノ基またはアルキルスルホニル基を示す。 )またはCHNO_2である特許請求の範囲第11項ま
    たは第12項記載のアミン誘導体およびその塩。
  14. (14)pが、1である特許請求の範囲第11項〜第1
    3項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  15. (15)Xが、硫黄原子である特許請求の範囲第11項
    〜第14項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその
    塩。
  16. (16)qが、2である特許請求の範囲第11項〜第1
    5項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  17. (17)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^2、R^3、R^6、R^7、A、X、Y
    、Z、およびqは前述した意味を示す。」 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミン誘導体
    およびその塩。
  18. (18)R^6およびR^7が、それらが結合する窒素
    原子と一緒になつて飽和複素環式基である特許請求の範
    囲第17項記載のアミン誘導体およびその塩。
  19. (19)Zが、式NR^4^aで表わされる基(式中、
    R^4^aはシアノ基またはアルキルスルホニル基を示
    す。)またはCHNO_2である特許請求の範囲第17
    項または第18項記載のアミン誘導体およびその塩。
  20. (20)Xが、酸素原子である特許請求の範囲第17項
    〜第19項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその
    塩。
  21. (21)qが、3である特許請求の範囲第17項〜第2
    0項いずれかの項記載のアミン誘導体およびその塩。
  22. (22)R^3が、水素原子である特許請求の範囲第1
    項〜第21項いずれかの項記載のアミン誘導体およびそ
    の塩。
  23. (23)R^3が、ヒドロキシル保護基である特許請求
    の範囲第1項〜第21項いずれかの項記載のアミン誘導
    体およびその塩。
  24. (24)N−<2−{〔5−(ジメチルアミノ)メチル
    −2−フリル〕メチルチオ}エチル>−N′−{〔2−
    ヒドロキシ−2−(3−メチル−2−チエニル)〕エチ
    ル}−2−ニトロ−1,1−エテンジアミンまたはその
    塩である特許請求の範囲第1項記載のアミン誘導体およ
    びその塩。
  25. (25)N−{〔2−ヒドロキシ−2−(3−メチル−
    2−チエニル)]エチル}−2−ニトロ−N′−〔3−
    (3−ピペリジノメチルフエノキシ)プロピル〕−1,
    1−エテンジアミンまたはその塩である特許請求の範囲
    第1項記載のアミン誘導体およびその塩。
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