JPH01203476A - コーティング用組成物及びコーティング方法 - Google Patents
コーティング用組成物及びコーティング方法Info
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 alicyclic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWBIJARKDOFDAN-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1,4-dioxane Chemical compound CC1COC(C)CO1 AWBIJARKDOFDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical class CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N alumanylidynemethyl(alumanylidynemethylalumanylidenemethylidene)alumane Chemical compound [Al]#C[Al]=C=[Al]C#[Al] CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910000074 antimony hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XBFMJHQFVWWFLA-UHFFFAOYSA-N hexane;pentane Chemical compound CCCCC.CCCCCC XBFMJHQFVWWFLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N selenophene Chemical compound C=1C=C[se]C=1 MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N stibane Chemical compound [SbH3] OUULRIDHGPHMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
耐摩耗性及び耐薬品性に優れたコーティング用組成物及
び該コーティング用組成物を使用して窒化珪素質からな
る被覆膜を形成させるコーティング方法に関し、更に詳
しくは特定の無機ポリシラザンを必須成分とするコーテ
ィング用組成物及びこのものを用いたコーティング方法
に関する。
して、該材料の耐熱性、耐摩耗性、更には耐薬品性を改
善することは広く行われている。
酸処理、あるいはクロム酸処理して各種被膜を形成する
方法や種々の有機高分子系樹脂と顔料及び必要に応じ添
加剤を混合した塗料による塗装法が知られている。
理はその廃液による環境汚染が問題となり、廃液処理に
は多大の労力と費用を必要とする欠点があり、また各種
有機高分子系樹脂塗料は耐熱性が不充分であって、20
0℃以上で劣化するものが多く、300℃以上の高温下
で使用可能なものはほとんどない。
ポリチタノカルボシラン系塗料、更にはポリ(ジシリル
)シラザン重合体等(特公昭61−38933号公報)
を使用する方法が提案されている。
雰囲気下でも耐熱効果に優れた被膜を与えるものの、ピ
ンホールが発生し易く、またこのピンホールの発生を防
止するためにその被膜の膜厚を厚くすると焼成中に被膜
にクラックやブリスターが生じたり剥離が生ずる場合が
ある。このような現象は300℃以上の温度領域下にお
いて特に顕著にみられるため、シリコーン系塗料を用い
る場合には、シリコーン樹脂の架橋密度を減少させる必
要があり、このため形成被膜の表面硬度が低下するとい
う難点が生じる。
0℃以下)における表面硬度が充分でない上。
るという欠点がある。
、750℃以上の高温下で不活性雰囲気又は真空中で熱
分解を行うプロセスを採る必要があり。
ら得られた窒化珪素の被覆膜についての報告もなされて
いるが、クラックが生じており十分実用的価値を有する
ものが得られていない(w、 S、 Cabling
et al、 ”Formation of Cera
micCompositions Lltilizir
+g Polymer Pyrolysis”、 p
271−285゜Materials 5cience
Re5earch voll、 E+mergerr
t ProcessMethods For High
−Technology Ceramics edit
ed by R,F。
s N、 Y、)a〔目 的〕 本発明は前記従来技術の有する欠点を克服し。
供することを目的とする。
炭化水素基を表わす。) で示される繰り返し単位を有する直鎖状構造、環状構造
又はこれらの混合構造を包含し、数平均分子量が100
〜so 、 oooであり、1分子中に3個以上のSi
H,基を有し、かつ元素比率がSi : 59−69重
量%。
ラザンを少くとも含有するコーティング用組成物が提供
される。
基、シクロアルキル基、又はアリール基等が挙げられる
。この場合、アルキル基としては。
ル、オクチル、デシル等及びこれらの各異性体が挙げら
れ、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル
、オクチル、デセニル等及びこれらの各異性体が挙げら
れ、アリール基としてはフェニル、トリル、キシリル、
ナフチル等が挙げられる。
ラザンは、100〜50,000の数平均分子量を有す
るもので、環状ポリシラザン、鎖状ポリシラザンあるい
はそれらの混合物から構成される。本発明において好ま
しく用いられるポリシラザンは、数平均分子f300〜
20000 、更に好ましくは600〜4000鎖状ポ
リシラザンである。
2及びR3のすべてが水素原子であるものであり、”
HNMRスペクトル測定により得られる1分子中のSi
H3の数が3個から15個のものであり、特に好ましい
範囲は5個から10個のものである。コーティング用組
成物として優れた性能を発揮するためには特に接着性に
優れ、硬度が高く高温下においても剥離しないものであ
ることが要求されるが、SiH3基の数は特に接着性の
発揮に寄与し得るもので、1分子中3個未満では剥離が
容易となり、又、15個以上の場合は、固化が進みすぎ
るので塗布の作業性に問題点があり、均一な被覆膜を得
ることが困難となる。
で合成することができる。
る。)で示されるジハロシランと塩基性化合物とを反応
させて、ジハロシランのアダクツを形成させたのち、当
該ハロシランのアダクツをアンモニアと反応させること
により合成することができる。
を形成させるものであり、例えばルイス塩基、第三級ア
ミン類(トリアルキルアミン等)、ピリジン、ピコリン
及びこれらの誘導体、立体障害性の基を有する第二級ア
ミン類、フォスフイン、スチビン、アルシン及びこれら
の誘導体並びにチオフェン、ケトン、ジオキサン、セレ
ノフェン等を挙げることができる。好ましい塩基性化合
物は低沸点でかつアンモニアに比較して塩基性の小さい
塩基、例えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフ
イン、チオフェン及びフラン等であり、特に好ましい塩
基は、ピリジン、ピコリンである。
て化学量論的量より過剰に存在させれば足りる。
法の実施態様としては、第1に上記のハロシランと塩基
を反応せしめて生成したアダクツを反応溶媒に加える方
法、第2にハロシランを塩基を含有する反応溶媒に加え
る方法、第3にハロシランを塩基溶媒に加える方法を挙
げることができる。
の溶解度のみに着目してハロシランの溶解度を考慮せず
選択することができる。このような溶媒としては例えば
ヘキサン、ベンゼン、ピリジン、塩化メタン、エーテル
、アセトニトリル等の軽質溶媒を使用することができる
が、好ましい溶媒として、ピリジン及び塩化メタン等を
挙げることができる。又、反応は不活性ガス雰囲気で行
なうことが好ましく、不活性ガスとしては窒素又はアル
ゴン等を使用することができる。
採用することができる。反応温度が一78℃以下の場合
は1反応溶媒に可溶なポリシラザンの収率が低下し、又
1反応温度が100℃を越えた場合は生成したポリシラ
ザンが再び分解するので好ましくない。又、反応圧力及
び反応時間は特に限定されるものではない。
に溶融した状態で得ることができるので、副生じたアン
モニウム塩を例えば濾過等により分離し、次にポリシラ
ザン溶液から溶媒を除去すると無色透明な液状のポリシ
ラザンが得られる。
グ用組成物を形成するには1通常ポリシラザンを溶剤に
溶解させればよい。溶剤としては。
化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハ
ロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エー
テル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用できる。好
ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、ト
リクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチ
ルブチルエーテル、ブチルエーテル、■、2−ジオキシ
エタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒド
ロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペンタ
ンヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン
、イソへブタン、オクタン、イソオクタン、シクロペン
タン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン等の炭化水素等である。
度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上の溶
剤を混合してもよい。
り作業性がよくなるように選択され、またポリシラザン
の平均分子量、分子量分布、その構造によって異なるの
で、コーティング用組成物中溶剤は90重量%程度まで
混合することができ、好ましくは10〜50重量%の範
囲で混合することができる。
、その構造によって異なるが5通常0〜90重量2の範
囲で良い結果が得られる。
加えてもよい、充填剤の例としてはシリカ、アルミナ、
ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あるい
は炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉等が
挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜鉛、
銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤の例
を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ツバキュライト、ケ
イ藻土などのシリカ系二合成無定形シリカニカオリナイ
ト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ
酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩ニガラ
ス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡
ガラス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化
アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケ
イ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸
化物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、アルミナ、
マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化
物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、弗化炭素その他無機物ニアルミニウム、ブロンズ
、釦、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末二カーボ
ンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボ
ン球等のカーボン体等があげられる。
鱗片状等積々の形状のものを単独又は2種以上混合して
用いることができる。又、これら充填剤の粒子の大きさ
は1回に塗布可能な膜厚よすも小さいことが望ましい、
また充填剤の添加量はポリシラザン1重量部に対し、0
.05重量部−10重量部の範囲であり、特に好ましい
添加量は0.2重量部−3重量部の範囲である。又、充
填剤の表面をカップリング剤処理、蒸着、メツキ等で表
面処理して使用してもよい。
ベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、 P
H調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、
流れ止め剤を加えてもよい。
は均一に溶解、分解させて金属、セラミックス、プラス
チック等の基盤にコーティングされる。コーティングと
しての塗布手段としては、通常の塗布方法、つまり浸漬
、ロール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フ
ロー塗り等が用いられる。又、塗布前に基盤をヤスリか
け、脱脂、各種ブラスト等で表面処理しておくとコーテ
ィング組成物の付着性能は向上する。このような方法で
コーティングし、充分乾燥させた後、加熱・焼成する。
、強靭な被覆を形成する。
なるが0.5〜b で100℃−1000℃の範囲の温度で焼成する。好ま
しい焼成温度は200℃〜500℃の範囲である。焼成
雰囲気は空気中あるいは不活性ガスのいずれであっても
よいが、非酸化性雰囲気であれば5i−N結合を、酸化
又は加水解性雰囲気であれば5i−0結合の被膜を形成
するので、基盤に応じて雰囲気を適当に選択することが
できる。
必須成分としたことから、低温焼成で表面硬度が高く耐
摩耗性に優れるとともに耐剥離性に優れた被膜を与える
。したがって、本発明のコーティング用組成物は、鉄、
アルミニウム、銅、ステンレス鋼、黄銅等の金属類やセ
ラミックスの表面保護剤として好適なものである。
配線の絶縁膜としても利用することができる。
タニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した
。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四ち
ロフラスコに脱気した乾燥ピリジン280 m12を入
れ、これを氷冷した。次にジクロロシラン51.6 g
を加えると白色固体状のアダクト(SiH,CQ 、・
2C,I(、N)が生成した0反応器合物を氷冷し、撹
拌しながら、水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して
精製したアンモニア30.0 gを吹き込んだ。
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾液
520−を得た。濾液5−から溶媒を減圧留去すると樹
脂状固体無機シラザン0.98 gが得られた。
定したところ、2200であった。また、このポリマー
のIR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥オルト−キ
シレン;ポリシラザンの濃度:9.8g/n)を検討す
ると、波数(am−1)3350及び1175のNHに
基づく吸収;2170(ε=3.14)のSiH基に基
づく吸収;1020〜820のSiH基及び5iNSi
基に基づく吸収を示すことが確認された。またこのポリ
マーの1HNl’lR(プロトン核磁気共鳴)スペクト
ル(60MHz、溶媒CDCQ、/基準物質TMS)を
検討すると、いずれも幅広い吸収を示していることが確
認された。即ち64.8及び4.4(br、 5iH)
:L、5(br、 NH)の吸収が確認された。
調整し、60重墓石とする。この組成物に対し重量比で
0.5倍の充填剤SiC(平均粒子径約10ミクロン)
を加え、5US304基盤(70m X 30m X
1m5t)の表面に刷毛にて塗布した。基盤に塗布した
後、窒素雰囲気下なる乾燥炉内で加熱乾燥させた。加熱
乾燥温度は400℃、1時間とした。昇温速度は3℃/
分とした。その結果厚み約160ミクロンなる被膜を得
た。この被膜の外観、鉛筆硬度及び基盤目剥離試験を以
下の検査方法に従って測定したところ、外観は良好であ
り、鉛筆硬度(常温)9回以上及び基盤目剥離試験(密
着性)は100/100であった。
点を調べる。
+m四方の素材に達する切れ目を基盤目に100個作り
、その上にセロハンテープ(種水化学工業)をはりつけ
た 後、そのセロハンテープを上方90°の方向に強くひき
はがした時に残ってい るます目の数で評価する。
ンで希釈し、更に充填剤としてアルミナ(平均粒子径1
戸以下)を添加し、ポリシラザン30重量%、オルトキ
シレン20重量%及びアルミナ50型針%のコーティン
グ用組成物を調製した。このコーティング用組成物中に
5O5304基盤を5分間浸漬した後取り出して乾燥し
た。これを3回繰り返し空気中400℃で1時間焼成し
たところ、良好な外観の被覆膜が得られた。この被覆膜
の鉛筆硬度は7Hであり、基盤目剥離試験の結果は10
0/100であった。
剤、基盤材料、焼成条件を表−1に示したものに代えた
以外は実施例1と同様にしてコーティング組成物を調製
し、その性能を評価した。
ジクロロメタン260 nIQを入れ、これを氷冷した
0次にジクロロシラン25.0 gを加えた。この溶液
を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管及び活性
炭管を通して精製したアンモニア22.3gを窒素との
混合ガスとして吹き込んだ0反応中ガス流路に粉層が生
成したので、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いだ。
シラザンが4.9g得られた。得られたポリマーの数平
均分子量はGPCにより測定したところ620であり、
1分子中のSiH,基の数は1個未満であった。その結
果を表−1に示す。
燥ベンゼン300−を入れ、これを氷冷した。
水冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管および活性
炭管を通して精製したアンモニア23.8 gを窒素と
の混合ガスとして吹き込んだ6反応中ガス流路に粉層が
生成したので、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いだ。
シラザンが3.1g得られた。得られたポリマーの数平
均分子量はGPCにより測定したところ360であった
。その結果を表−1に示す。
を実施例1と同様の処理を行い、コーティング組成物を
得た。その性能を評価したが硬度が充分でなくまたコス
トも高いものであった。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2及びR_3は各々独立に水素原
子又は炭化水素基を表わす。) で示される繰り返し単位を有する直鎖状構造、環状構造
又はこれらの混合構造を包含し、数平均分子量が100
〜50,000であり、1分子中に3個以上のSiH_
3基を有し、かつ元素比率がSi:59〜69重量%、
N:24〜34重量%、H:5〜8重量%であるポリシ
ラザンを少くとも含有するコーティング用組成物。 - (2)請求項(1)記載のコーティング組成物を基盤に
1回又は2回以上繰り返し塗布した後、焼成し窒化珪素
からなる被覆膜を形成させることを特徴とするコーティ
ング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2829488A JP2670501B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | コーティング用組成物及びコーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2829488A JP2670501B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | コーティング用組成物及びコーティング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01203476A true JPH01203476A (ja) | 1989-08-16 |
JP2670501B2 JP2670501B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=12244599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2829488A Expired - Lifetime JP2670501B2 (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | コーティング用組成物及びコーティング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2670501B2 (ja) |
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- 1988-02-08 JP JP2829488A patent/JP2670501B2/ja not_active Expired - Lifetime
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