JPH01203476A - コーティング用組成物及びコーティング方法 - Google Patents

コーティング用組成物及びコーティング方法

Info

Publication number
JPH01203476A
JPH01203476A JP2829488A JP2829488A JPH01203476A JP H01203476 A JPH01203476 A JP H01203476A JP 2829488 A JP2829488 A JP 2829488A JP 2829488 A JP2829488 A JP 2829488A JP H01203476 A JPH01203476 A JP H01203476A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polysilazane
coating
coating composition
weight
solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2829488A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2670501B2 (ja
Inventor
Yoshiaki Taniguchi
善昭 谷口
Hiroshi Kaya
茅 博司
Toru Funayama
舟山 徹
Tomohiro Kato
智浩 加藤
Yuji Tashiro
裕治 田代
Takeshi Isoda
礒田 武志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Toa Nenryo Kogyyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toa Nenryo Kogyyo KK filed Critical Toa Nenryo Kogyyo KK
Priority to JP2829488A priority Critical patent/JP2670501B2/ja
Publication of JPH01203476A publication Critical patent/JPH01203476A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2670501B2 publication Critical patent/JP2670501B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は新規なポリシラザンを必須成分とする耐熱性、
耐摩耗性及び耐薬品性に優れたコーティング用組成物及
び該コーティング用組成物を使用して窒化珪素質からな
る被覆膜を形成させるコーティング方法に関し、更に詳
しくは特定の無機ポリシラザンを必須成分とするコーテ
ィング用組成物及びこのものを用いたコーティング方法
に関する。
〔従来技術〕
従来より金属材料や無機材料の表面をコーティング処理
して、該材料の耐熱性、耐摩耗性、更には耐薬品性を改
善することは広く行われている。
特に金属材料のコーティング法としては、メツキ、リン
酸処理、あるいはクロム酸処理して各種被膜を形成する
方法や種々の有機高分子系樹脂と顔料及び必要に応じ添
加剤を混合した塗料による塗装法が知られている。
しかしながら、メツキ、リン酸処理あるいはクロム酸処
理はその廃液による環境汚染が問題となり、廃液処理に
は多大の労力と費用を必要とする欠点があり、また各種
有機高分子系樹脂塗料は耐熱性が不充分であって、20
0℃以上で劣化するものが多く、300℃以上の高温下
で使用可能なものはほとんどない。
これらの欠点を解消する方法として、シリコン系塗料、
ポリチタノカルボシラン系塗料、更にはポリ(ジシリル
)シラザン重合体等(特公昭61−38933号公報)
を使用する方法が提案されている。
しかしながら、シリコーン系塗料は200℃以上の高温
雰囲気下でも耐熱効果に優れた被膜を与えるものの、ピ
ンホールが発生し易く、またこのピンホールの発生を防
止するためにその被膜の膜厚を厚くすると焼成中に被膜
にクラックやブリスターが生じたり剥離が生ずる場合が
ある。このような現象は300℃以上の温度領域下にお
いて特に顕著にみられるため、シリコーン系塗料を用い
る場合には、シリコーン樹脂の架橋密度を減少させる必
要があり、このため形成被膜の表面硬度が低下するとい
う難点が生じる。
また、ポリチタノカルボシラン系塗料は低温焼成(40
0℃以下)における表面硬度が充分でない上。
原料製造工程が複雑であり、その製造コストが高価とな
るという欠点がある。
また、ポリ(ジシル)シラザン系重合体を用いる方法は
、750℃以上の高温下で不活性雰囲気又は真空中で熱
分解を行うプロセスを採る必要があり。
その施行性に多く困難さを伴う。同様にポリシラザンか
ら得られた窒化珪素の被覆膜についての報告もなされて
いるが、クラックが生じており十分実用的価値を有する
ものが得られていない(w、 S、 Cabling 
et al、 ”Formation of Cera
micCompositions Lltilizir
+g Polymer Pyrolysis”、  p
271−285゜Materials 5cience
 Re5earch voll、 E+mergerr
t ProcessMethods For High
−Technology Ceramics edit
ed by R,F。
Dabis et、 al、 Plenun Pres
s N、 Y、)a〔目  的〕 本発明は前記従来技術の有する欠点を克服し。
耐熱性、耐摩耗性及び耐薬品性に優れると共に。
表面硬度の高い被覆を与えるコーティング用組成物を提
供することを目的とする。
〔構  成〕
本発明によれば、 一般式 (式中、R1,R,及びR3は各々独立に水素原子又は
炭化水素基を表わす。) で示される繰り返し単位を有する直鎖状構造、環状構造
又はこれらの混合構造を包含し、数平均分子量が100
〜so 、 oooであり、1分子中に3個以上のSi
H,基を有し、かつ元素比率がSi : 59−69重
量%。
N:24〜34重量%、H:5〜8重量2であるポリシ
ラザンを少くとも含有するコーティング用組成物が提供
される。
この場合、炭化水素基としてはアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、又はアリール基等が挙げられる
。この場合、アルキル基としては。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチ
ル、オクチル、デシル等及びこれらの各異性体が挙げら
れ、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル
、オクチル、デセニル等及びこれらの各異性体が挙げら
れ、アリール基としてはフェニル、トリル、キシリル、
ナフチル等が挙げられる。
本発明のコーティング用組成物の必須成分であるポリシ
ラザンは、100〜50,000の数平均分子量を有す
るもので、環状ポリシラザン、鎖状ポリシラザンあるい
はそれらの混合物から構成される。本発明において好ま
しく用いられるポリシラザンは、数平均分子f300〜
20000 、更に好ましくは600〜4000鎖状ポ
リシラザンである。
また、好ましいポリシラザンは、上記一般式のR□、R
2及びR3のすべてが水素原子であるものであり、” 
HNMRスペクトル測定により得られる1分子中のSi
H3の数が3個から15個のものであり、特に好ましい
範囲は5個から10個のものである。コーティング用組
成物として優れた性能を発揮するためには特に接着性に
優れ、硬度が高く高温下においても剥離しないものであ
ることが要求されるが、SiH3基の数は特に接着性の
発揮に寄与し得るもので、1分子中3個未満では剥離が
容易となり、又、15個以上の場合は、固化が進みすぎ
るので塗布の作業性に問題点があり、均一な被覆膜を得
ることが困難となる。
前記で示したポリシラザンは、たとえば下記に示す方法
で合成することができる。
即ち、一般式sxu*xz(式中Xはハロゲン原子であ
る。)で示されるジハロシランと塩基性化合物とを反応
させて、ジハロシランのアダクツを形成させたのち、当
該ハロシランのアダクツをアンモニアと反応させること
により合成することができる。
塩基性化合物としては、ハロシランと反応してアダクツ
を形成させるものであり、例えばルイス塩基、第三級ア
ミン類(トリアルキルアミン等)、ピリジン、ピコリン
及びこれらの誘導体、立体障害性の基を有する第二級ア
ミン類、フォスフイン、スチビン、アルシン及びこれら
の誘導体並びにチオフェン、ケトン、ジオキサン、セレ
ノフェン等を挙げることができる。好ましい塩基性化合
物は低沸点でかつアンモニアに比較して塩基性の小さい
塩基、例えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフ
イン、チオフェン及びフラン等であり、特に好ましい塩
基は、ピリジン、ピコリンである。
塩基の使用量は臨界的なものでなく、ハロシランに対し
て化学量論的量より過剰に存在させれば足りる。
本発明のアダクツを経由する無機ポリシラザンの合成方
法の実施態様としては、第1に上記のハロシランと塩基
を反応せしめて生成したアダクツを反応溶媒に加える方
法、第2にハロシランを塩基を含有する反応溶媒に加え
る方法、第3にハロシランを塩基溶媒に加える方法を挙
げることができる。
反応溶媒については、非反応性溶媒のうちポリシラザン
の溶解度のみに着目してハロシランの溶解度を考慮せず
選択することができる。このような溶媒としては例えば
ヘキサン、ベンゼン、ピリジン、塩化メタン、エーテル
、アセトニトリル等の軽質溶媒を使用することができる
が、好ましい溶媒として、ピリジン及び塩化メタン等を
挙げることができる。又、反応は不活性ガス雰囲気で行
なうことが好ましく、不活性ガスとしては窒素又はアル
ゴン等を使用することができる。
反応条件については、温度として一78℃〜100℃を
採用することができる。反応温度が一78℃以下の場合
は1反応溶媒に可溶なポリシラザンの収率が低下し、又
1反応温度が100℃を越えた場合は生成したポリシラ
ザンが再び分解するので好ましくない。又、反応圧力及
び反応時間は特に限定されるものではない。
上記の如き反応により、生成したポリシラザンは溶媒中
に溶融した状態で得ることができるので、副生じたアン
モニウム塩を例えば濾過等により分離し、次にポリシラ
ザン溶液から溶媒を除去すると無色透明な液状のポリシ
ラザンが得られる。
本発明において、前記ポリシラザンを用いてコーティン
グ用組成物を形成するには1通常ポリシラザンを溶剤に
溶解させればよい。溶剤としては。
脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭
化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハ
ロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エー
テル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用できる。好
ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、ト
リクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチ
ルブチルエーテル、ブチルエーテル、■、2−ジオキシ
エタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒド
ロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペンタ
ンヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン
、イソへブタン、オクタン、イソオクタン、シクロペン
タン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン等の炭化水素等である。
これらの溶剤を使用する場合、前記ポリシラザンの溶解
度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上の溶
剤を混合してもよい。
溶剤の使用量(割合)は採用するコーティング方法によ
り作業性がよくなるように選択され、またポリシラザン
の平均分子量、分子量分布、その構造によって異なるの
で、コーティング用組成物中溶剤は90重量%程度まで
混合することができ、好ましくは10〜50重量%の範
囲で混合することができる。
また溶剤濃度は原料シラザンの平均分子量1分子量分布
、その構造によって異なるが5通常0〜90重量2の範
囲で良い結果が得られる。
また、本発明においては、必要に応じて適当な充填剤を
加えてもよい、充填剤の例としてはシリカ、アルミナ、
ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あるい
は炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉等が
挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜鉛、
銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤の例
を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ツバキュライト、ケ
イ藻土などのシリカ系二合成無定形シリカニカオリナイ
ト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ
酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩ニガラ
ス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡
ガラス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化
アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケ
イ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸
化物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、アルミナ、
マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化
物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、弗化炭素その他無機物ニアルミニウム、ブロンズ
、釦、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末二カーボ
ンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボ
ン球等のカーボン体等があげられる。
これら充填剤は、針状(ウィスカーを含む、)、粒状、
鱗片状等積々の形状のものを単独又は2種以上混合して
用いることができる。又、これら充填剤の粒子の大きさ
は1回に塗布可能な膜厚よすも小さいことが望ましい、
また充填剤の添加量はポリシラザン1重量部に対し、0
.05重量部−10重量部の範囲であり、特に好ましい
添加量は0.2重量部−3重量部の範囲である。又、充
填剤の表面をカップリング剤処理、蒸着、メツキ等で表
面処理して使用してもよい。
コーティング用組成物には、必要に応じて各種顔料、レ
ベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、 P
H調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、
流れ止め剤を加えてもよい。
上記のように調製された本発明のコーティング用組成物
は均一に溶解、分解させて金属、セラミックス、プラス
チック等の基盤にコーティングされる。コーティングと
しての塗布手段としては、通常の塗布方法、つまり浸漬
、ロール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フ
ロー塗り等が用いられる。又、塗布前に基盤をヤスリか
け、脱脂、各種ブラスト等で表面処理しておくとコーテ
ィング組成物の付着性能は向上する。このような方法で
コーティングし、充分乾燥させた後、加熱・焼成する。
この焼成によってポリシラザンは架橋、縮合して硬化し
、強靭な被覆を形成する。
上記焼成条件はポリシラザンの分子量や構造によって異
なるが0.5〜b で100℃−1000℃の範囲の温度で焼成する。好ま
しい焼成温度は200℃〜500℃の範囲である。焼成
雰囲気は空気中あるいは不活性ガスのいずれであっても
よいが、非酸化性雰囲気であれば5i−N結合を、酸化
又は加水解性雰囲気であれば5i−0結合の被膜を形成
するので、基盤に応じて雰囲気を適当に選択することが
できる。
〔効  果〕 本発明のコーティング用組成物は、前記ポリシラザンを
必須成分としたことから、低温焼成で表面硬度が高く耐
摩耗性に優れるとともに耐剥離性に優れた被膜を与える
。したがって、本発明のコーティング用組成物は、鉄、
アルミニウム、銅、ステンレス鋼、黄銅等の金属類やセ
ラミックスの表面保護剤として好適なものである。
また本発明のコーティング用組成物は電子部品用の多属
配線の絶縁膜としても利用することができる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 〔ポリシラザンの合成〕 内容積500−の四つロフラスコにガス吹きこみ管、メ
タニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した
。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四ち
ロフラスコに脱気した乾燥ピリジン280 m12を入
れ、これを氷冷した。次にジクロロシラン51.6 g
を加えると白色固体状のアダクト(SiH,CQ 、・
2C,I(、N)が生成した0反応器合物を氷冷し、撹
拌しながら、水酸化ナトリウム管及び活性炭管を通して
精製したアンモニア30.0 gを吹き込んだ。
反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジンを
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾液
520−を得た。濾液5−から溶媒を減圧留去すると樹
脂状固体無機シラザン0.98 gが得られた。
得られたポリシラザンの数平均分子量はGPCにより測
定したところ、2200であった。また、このポリマー
のIR(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥オルト−キ
シレン;ポリシラザンの濃度:9.8g/n)を検討す
ると、波数(am−1)3350及び1175のNHに
基づく吸収;2170(ε=3.14)のSiH基に基
づく吸収;1020〜820のSiH基及び5iNSi
基に基づく吸収を示すことが確認された。またこのポリ
マーの1HNl’lR(プロトン核磁気共鳴)スペクト
ル(60MHz、溶媒CDCQ、/基準物質TMS)を
検討すると、いずれも幅広い吸収を示していることが確
認された。即ち64.8及び4.4(br、 5iH)
:L、5(br、 NH)の吸収が確認された。
1分子中のSiH,は7個であった。
〔コーティング組成物の調製〕
前記で得たポリシラザン(A)をオルトキシレンで濃度
調整し、60重墓石とする。この組成物に対し重量比で
0.5倍の充填剤SiC(平均粒子径約10ミクロン)
を加え、5US304基盤(70m X 30m X 
1m5t)の表面に刷毛にて塗布した。基盤に塗布した
後、窒素雰囲気下なる乾燥炉内で加熱乾燥させた。加熱
乾燥温度は400℃、1時間とした。昇温速度は3℃/
分とした。その結果厚み約160ミクロンなる被膜を得
た。この被膜の外観、鉛筆硬度及び基盤目剥離試験を以
下の検査方法に従って測定したところ、外観は良好であ
り、鉛筆硬度(常温)9回以上及び基盤目剥離試験(密
着性)は100/100であった。
採用した検査方法は以下に示す通りである。
イ)外a:肉眼観察でクラック、色調、その地塗膜の欠
点を調べる。
口)鉛筆硬度: JIS K5400に準する。
ハ)基盤目剥離試験(密着性):塗膜上に鋼ナイフで1
+m四方の素材に達する切れ目を基盤目に100個作り
、その上にセロハンテープ(種水化学工業)をはりつけ
た 後、そのセロハンテープを上方90°の方向に強くひき
はがした時に残ってい るます目の数で評価する。
実施例2 実施例1の方法で調製したポリシラザンをオルトキシレ
ンで希釈し、更に充填剤としてアルミナ(平均粒子径1
戸以下)を添加し、ポリシラザン30重量%、オルトキ
シレン20重量%及びアルミナ50型針%のコーティン
グ用組成物を調製した。このコーティング用組成物中に
5O5304基盤を5分間浸漬した後取り出して乾燥し
た。これを3回繰り返し空気中400℃で1時間焼成し
たところ、良好な外観の被覆膜が得られた。この被覆膜
の鉛筆硬度は7Hであり、基盤目剥離試験の結果は10
0/100であった。
実施例3〜4 実施例1における原料ポリシラザン、溶剤、充填剤、助
剤、基盤材料、焼成条件を表−1に示したものに代えた
以外は実施例1と同様にしてコーティング組成物を調製
し、その性能を評価した。
その結果を表−1に示す。
比較例1 実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち、参考例1で示した四つロフラスコに脱気した乾燥
ジクロロメタン260 nIQを入れ、これを氷冷した
0次にジクロロシラン25.0 gを加えた。この溶液
を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管及び活性
炭管を通して精製したアンモニア22.3gを窒素との
混合ガスとして吹き込んだ0反応中ガス流路に粉層が生
成したので、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いだ。
反応混合物を実施例1と同様処理すると、粘性油状無機
シラザンが4.9g得られた。得られたポリマーの数平
均分子量はGPCにより測定したところ620であり、
1分子中のSiH,基の数は1個未満であった。その結
果を表−1に示す。
比較例2〜3 実施例1と同一の装置を用いて反応を行なった。
すなわち参考例1で示した四つロフラスコに脱気した乾
燥ベンゼン300−を入れ、これを氷冷した。
次にジクロロシラン24.0 gを加えた。この溶液を
水冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管および活性
炭管を通して精製したアンモニア23.8 gを窒素と
の混合ガスとして吹き込んだ6反応中ガス流路に粉層が
生成したので、ガス流路を時々たたいて閉塞を防いだ。
反応混合物を実施例1と同様に処理すると粘性油状無機
シラザンが3.1g得られた。得られたポリマーの数平
均分子量はGPCにより測定したところ360であった
。その結果を表−1に示す。
比較例4 市販のポリチタノカルボシラン(商標名チタノコート)
を実施例1と同様の処理を行い、コーティング組成物を
得た。その性能を評価したが硬度が充分でなくまたコス
トも高いものであった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2及びR_3は各々独立に水素原
    子又は炭化水素基を表わす。) で示される繰り返し単位を有する直鎖状構造、環状構造
    又はこれらの混合構造を包含し、数平均分子量が100
    〜50,000であり、1分子中に3個以上のSiH_
    3基を有し、かつ元素比率がSi:59〜69重量%、
    N:24〜34重量%、H:5〜8重量%であるポリシ
    ラザンを少くとも含有するコーティング用組成物。
  2. (2)請求項(1)記載のコーティング組成物を基盤に
    1回又は2回以上繰り返し塗布した後、焼成し窒化珪素
    からなる被覆膜を形成させることを特徴とするコーティ
    ング方法。
JP2829488A 1988-02-08 1988-02-08 コーティング用組成物及びコーティング方法 Expired - Lifetime JP2670501B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2829488A JP2670501B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 コーティング用組成物及びコーティング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2829488A JP2670501B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 コーティング用組成物及びコーティング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01203476A true JPH01203476A (ja) 1989-08-16
JP2670501B2 JP2670501B2 (ja) 1997-10-29

Family

ID=12244599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2829488A Expired - Lifetime JP2670501B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 コーティング用組成物及びコーティング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2670501B2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04341705A (ja) * 1991-05-16 1992-11-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 酸化ケイ素系層間絶縁膜の製造方法
JPH04351684A (ja) * 1991-05-29 1992-12-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 耐湿性及び耐アルカリイオン性保護膜の製造方法
WO1993002472A1 (en) * 1991-07-16 1993-02-04 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Semiconductor device and production thereof
FR2680986A1 (fr) * 1991-09-05 1993-03-12 Rhone Poulenc Chimie Preparation d'un revetement a partir d'une barbotine comprenant un polymere precurseur de ceramique.
EP0697447A1 (en) * 1994-08-05 1996-02-21 Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha Baked color pencil lead and method for manufacturing the same
JPH08151538A (ja) * 1994-11-30 1996-06-11 Chugoku Marine Paints Ltd 防食塗料組成物
JPH0947722A (ja) * 1995-08-11 1997-02-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd シリカ系被膜の形成方法
US5935715A (en) * 1996-03-29 1999-08-10 Nitto Shoji, Ltd. Draft roller for fibers and preparation thereof
WO2000020927A1 (fr) * 1998-10-05 2000-04-13 Tonen General Sekiyu K.K. Composition de polysilazane photosensible et procede de formation d'une couche mince de polysilazane a motif
US6549195B2 (en) 1998-06-08 2003-04-15 Kaneka Corporation Resistance-film type touch panel for use in a liquid crystal display device and liquid crystal display device equipped with the same
JP2008544092A (ja) * 2005-06-28 2008-12-04 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト セラミック層を製作する方法
WO2011043264A1 (ja) * 2009-10-05 2011-04-14 株式会社Adeka 絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04341705A (ja) * 1991-05-16 1992-11-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 酸化ケイ素系層間絶縁膜の製造方法
JPH04351684A (ja) * 1991-05-29 1992-12-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 耐湿性及び耐アルカリイオン性保護膜の製造方法
WO1993002472A1 (en) * 1991-07-16 1993-02-04 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Semiconductor device and production thereof
FR2680986A1 (fr) * 1991-09-05 1993-03-12 Rhone Poulenc Chimie Preparation d'un revetement a partir d'une barbotine comprenant un polymere precurseur de ceramique.
US5733482A (en) * 1994-08-05 1998-03-31 Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha Baked color pencil lead manufactured by impregnation with perhydropolysilazane and heat treatment
EP0697447A1 (en) * 1994-08-05 1996-02-21 Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha Baked color pencil lead and method for manufacturing the same
JPH08151538A (ja) * 1994-11-30 1996-06-11 Chugoku Marine Paints Ltd 防食塗料組成物
JPH0947722A (ja) * 1995-08-11 1997-02-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd シリカ系被膜の形成方法
US5935715A (en) * 1996-03-29 1999-08-10 Nitto Shoji, Ltd. Draft roller for fibers and preparation thereof
US6549195B2 (en) 1998-06-08 2003-04-15 Kaneka Corporation Resistance-film type touch panel for use in a liquid crystal display device and liquid crystal display device equipped with the same
WO2000020927A1 (fr) * 1998-10-05 2000-04-13 Tonen General Sekiyu K.K. Composition de polysilazane photosensible et procede de formation d'une couche mince de polysilazane a motif
JP2008544092A (ja) * 2005-06-28 2008-12-04 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト セラミック層を製作する方法
WO2011043264A1 (ja) * 2009-10-05 2011-04-14 株式会社Adeka 絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法
JP2011079917A (ja) * 2009-10-05 2011-04-21 Adeka Corp 絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法
US8940380B2 (en) 2009-10-05 2015-01-27 Adeka Corporation Coating liquid for forming insulation film, insulation film using the same, and method for producing compound used in the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2670501B2 (ja) 1997-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2613787B2 (ja) 無機シラザン高重合体、その製造方法及びその用途
JP3370408B2 (ja) セラミックコーティングの製造方法
JP3307471B2 (ja) セラミックコーティング用組成物及びコーティング方法
JP3385060B2 (ja) 珪素−窒素−酸素−(炭素)−金属系セラミックス被覆膜の形成方法
JPH06122852A (ja) コーティング用組成物及びコーティング方法
JP3212400B2 (ja) セラミックコーティング用組成物及びコーティング方法
US6083860A (en) Method and composition for forming ceramics and article coated with the ceramics
JPH05238827A (ja) コーティング用組成物及びコーティング方法
US5405655A (en) Temperature-resistant and/or nonwetting coatings of cured, silicon-containing polymers
JP2651464B2 (ja) 改質ポリシラザン、その製造方法及びその用途
US5393815A (en) Silazane-based, heat resistant, dielectric coating compositions
JPH01203476A (ja) コーティング用組成物及びコーティング方法
JP3904691B2 (ja) ポリシラザン含有組成物及びシリカ質膜の形成方法
US5254411A (en) Formation of heat-resistant dielectric coatings
JPH01221466A (ja) コーティング用組成物及びコーティング方法
US6011167A (en) Polyorganosiloxazanes and process for the preparation thereof
EP0266912B1 (en) Novel preceramic polymers derived from cyclic silazanes and halogenated disilanes and a method for their preparation
JPH09157528A (ja) ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法、該組成物を用いたコーティング用組成物及び該コーティング用組成物を用いて得られるセラミックス被膜付プラスチック
EP0970981A1 (en) Epoxy resin composition and moldings
JP2920159B2 (ja) コーティング用組成物
JP4046809B2 (ja) 前駆体ポリマー組成物及び低誘電率絶縁材料
JPH02212361A (ja) ポリシラザン系セラミック前駆体組成物とその熱分解により得られるセラミツクス
JP3439554B2 (ja) セラミックコーティングを備えた金属基材の製造方法
JP3916278B2 (ja) フェニルシリル基架橋ポリシラザン及びその製造方法
JP3444628B2 (ja) 共重合オルガノヒドロシロキサザン及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711

Year of fee payment: 11