JPH01203003A - 選択透過膜 - Google Patents
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- JPH01203003A JPH01203003A JP2493488A JP2493488A JPH01203003A JP H01203003 A JPH01203003 A JP H01203003A JP 2493488 A JP2493488 A JP 2493488A JP 2493488 A JP2493488 A JP 2493488A JP H01203003 A JPH01203003 A JP H01203003A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は混合流体に対し選択透過性を有する膜、特に混
合気体に対し選択透過性を有する膜に関し、更に詳しく
は金属錯体と配位子ポリマーとの反応によって形成され
る分離活性層を有する選択透過膜に関する。
合気体に対し選択透過性を有する膜に関し、更に詳しく
は金属錯体と配位子ポリマーとの反応によって形成され
る分離活性層を有する選択透過膜に関する。
近年、膜の選択透過性を利用して流体混合物から特定の
成分を濃縮1分離する膜分離法が注目され、研究開発が
盛んに行われている。気体混合物従来合成ポリマーから
なる膜を用いて気体混合物を分離する試みは多くなされ
ているが、気体の選択透過性において充分とはいえず、
実用に供し得なかった。
成分を濃縮1分離する膜分離法が注目され、研究開発が
盛んに行われている。気体混合物従来合成ポリマーから
なる膜を用いて気体混合物を分離する試みは多くなされ
ているが、気体の選択透過性において充分とはいえず、
実用に供し得なかった。
選択性を高める目的で気体を選択的に配位する金属鏡体
を膜中に導入する試みが行われており、例えば持分[1
354−13476号公報には高分子金属鏡体からなる
膜状体の製造方法が開示されている。しかしながら、こ
れらの膜状体は鏡体の導入率を高めるとゲル化が起こり
、製膜性が落ちる等の問題点を有していた。
を膜中に導入する試みが行われており、例えば持分[1
354−13476号公報には高分子金属鏡体からなる
膜状体の製造方法が開示されている。しかしながら、こ
れらの膜状体は鏡体の導入率を高めるとゲル化が起こり
、製膜性が落ちる等の問題点を有していた。
土山らは金属鏡体をポリマー中にブレンドした膜あるい
は高分子配位子との高分子′S3体膜を用いて、高い選
択性を発現することを示した(E。
は高分子配位子との高分子′S3体膜を用いて、高い選
択性を発現することを示した(E。
l’5uchida 、 et、 al、 Chemi
stry 1−etters。
stry 1−etters。
198[343)が、やはりゲル化が起こるために鏡体
含有率を上けることは困難であった。又高選択性を1!
Iるためには供給圧力を下げねばならず、透過速度が小
さくなり実用化という観点からは満足Cを右する膜が優
れた選択性と大きな透過性をイ1していることを児出し
、本発明に到達した。
含有率を上けることは困難であった。又高選択性を1!
Iるためには供給圧力を下げねばならず、透過速度が小
さくなり実用化という観点からは満足Cを右する膜が優
れた選択性と大きな透過性をイ1していることを児出し
、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、
1、シッフ塩基金属鏡体と配位子ポリマーとの界面反応
によって形成される分離活性府を有する選択透過膜、 就中 2、該金属鏡体が下記一般式(T) からなるシッフ塩基金属鏡体化合物である上記第1項記
載の選択透過膜、 特に 3、配位子ポリマーがビニルピリジンの単独もしくは共
重合体及びビニルイミダゾールの単独もしくは共重合体
よりなる群の中から選ばれた配位子ポリマーである上記
第1項記載の選択透過膜である。
によって形成される分離活性府を有する選択透過膜、 就中 2、該金属鏡体が下記一般式(T) からなるシッフ塩基金属鏡体化合物である上記第1項記
載の選択透過膜、 特に 3、配位子ポリマーがビニルピリジンの単独もしくは共
重合体及びビニルイミダゾールの単独もしくは共重合体
よりなる群の中から選ばれた配位子ポリマーである上記
第1項記載の選択透過膜である。
本発明のシッフ塩基金属鏡体はシッフ塩基化合物からな
る配位子と低原子価状態にある中心金属との鏡体である
。
る配位子と低原子価状態にある中心金属との鏡体である
。
シッフ塩基化合物としては、下記式(II>[ここで、
RO、R+〜R6は前記定義に同じである。] で表わされる化合物が好ましいものとして挙げられる。
RO、R+〜R6は前記定義に同じである。] で表わされる化合物が好ましいものとして挙げられる。
本発明で用いられるシッフJg 73金属鉗体の中心金
属は鉄、コバルト、銅、ニッケル、マンカン。
属は鉄、コバルト、銅、ニッケル、マンカン。
クロム、亜鉛よりなる群より選ばれた低原子価の遷移金
属であり、特に鉄、コバルトが好ましい。
属であり、特に鉄、コバルトが好ましい。
本発明で用いられるシッフ塩基化合物からなる配位子は
サリチルアルデヒド誘導体とジアミンを反応させて得ら
れるシッフ塩基である。
サリチルアルデヒド誘導体とジアミンを反応させて得ら
れるシッフ塩基である。
本発明で用いられる配位子ポリマーはビニルピリジンの
単独もしくは共重合体及びビニルイミダゾールの単独も
しくは共重合体よりなる群の中から選ばれた配位子ポリ
マーである。
単独もしくは共重合体及びビニルイミダゾールの単独も
しくは共重合体よりなる群の中から選ばれた配位子ポリ
マーである。
好適なビニルピリジンの例としては4−ビニルピリジン
等が挙げられる。好適なビニルイミダゾールの例どして
は1−ビニルイミダゾール、4−ビニルイミダゾール、
1−ビニル−2−メチルイミダゾール等が挙げられる。
等が挙げられる。好適なビニルイミダゾールの例どして
は1−ビニルイミダゾール、4−ビニルイミダゾール、
1−ビニル−2−メチルイミダゾール等が挙げられる。
ビニルピリジン共重合体及びビニルイミダゾール共重合
体におけるビ反応によって反応づる該金属111体の割
合が小さく、充分な選択透過性能が1与られない。
体におけるビ反応によって反応づる該金属111体の割
合が小さく、充分な選択透過性能が1与られない。
本発明の分離活性層は、好ましくは平面型シッフ塩基金
属錯体と配位子ポリマーとの界面反応によって形成され
、実質的に選択透過膜の選択分離性能を支配する。該金
属錯体と配位子ポリマーとの界面反応は液−因、固−液
、液−液、気−因等いずれの反応系の組合せであっても
よいが、均一な薄膜を形成するためには界面の撹乱が起
こらない組合せが望ましい。
属錯体と配位子ポリマーとの界面反応によって形成され
、実質的に選択透過膜の選択分離性能を支配する。該金
属錯体と配位子ポリマーとの界面反応は液−因、固−液
、液−液、気−因等いずれの反応系の組合せであっても
よいが、均一な薄膜を形成するためには界面の撹乱が起
こらない組合せが望ましい。
一般式(I)における、Roは結合a、bど隣接した炭
素原子で結合している炭素原子数6以下の炭化水素基を
表わす。結合a、bと隣接した炭素原子で結合している
炭素原子数6以下の炭化水られる。
素原子で結合している炭素原子数6以下の炭化水素基を
表わす。結合a、bと隣接した炭素原子で結合している
炭素原子数6以下の炭化水られる。
一般式(I>にお(プる置換基R+ 、R2どしては、
水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基より選ばれた
任意の置換基が好ましい。
水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基より選ばれた
任意の置換基が好ましい。
一般式(I)におけるR3 、R4、R5,R6として
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
コキシ基または式−X−CnI−1lll(14≦n≦
22.21≦m≦45)で表わされる長鎖炭化水素基よ
り選ばれた任意の置換基が好ましい。
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
コキシ基または式−X−CnI−1lll(14≦n≦
22.21≦m≦45)で表わされる長鎖炭化水素基よ
り選ばれた任意の置換基が好ましい。
但し×は一〇−、−Coo−、−NHCO−。
−S−等の−Cn Hmと環A又はBとの連結基である
。−Cn 1−1mは14〜22個の炭素原子を有する
直鎖状のアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基で
ある。その具体例としては下記の基を挙げることができ
るが、これらに限定されるわけではない。即ち、テトラ
デシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、
オクタデシル、トコシル等のアルキル基、イソステアリ
ル等の分岐アルキル基、cis−9−へキサデセニル、
cis−9−cis−12−オクタデカジェニル、オク
タデカ−10゜12−ジイル等の直鎖状不飽和炭化水素
基などである。
。−Cn 1−1mは14〜22個の炭素原子を有する
直鎖状のアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基で
ある。その具体例としては下記の基を挙げることができ
るが、これらに限定されるわけではない。即ち、テトラ
デシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、
オクタデシル、トコシル等のアルキル基、イソステアリ
ル等の分岐アルキル基、cis−9−へキサデセニル、
cis−9−cis−12−オクタデカジェニル、オク
タデカ−10゜12−ジイル等の直鎖状不飽和炭化水素
基などである。
好適な他の置換基の具体例としては下記の置換基を挙げ
ることができるが、これらに限定されるわけではない。
ることができるが、これらに限定されるわけではない。
即ち、メチル、エチル、n−ブチル、 5ec−ブチル
、 tert−ブチル、n−ヘキシル等のアルキル【 る。
、 tert−ブチル、n−ヘキシル等のアルキル【 る。
本発明の選択透過膜は、2種以上の流体混合物から特定
の成分を濃縮する目的で使用される。例えば、大気から
の酸素富化空気の製造にきわめて有効である。
の成分を濃縮する目的で使用される。例えば、大気から
の酸素富化空気の製造にきわめて有効である。
以下、実施例によって本発明の内容を具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
(:、o (3alen) (ビス(2−ヒドロキ
シベンザル)エチレンジイミンコバルl−)の飽和クロ
ロホルム溶液にポリテトラフルオロエチレンの多孔質膜
[フロロポア■(平均孔径:0.1μ);住友電工■製
コフィルターを浸漬し、5分間超音波処理を行っτ均一
に含浸させ、乾燥してIH1体保持膜を得た。この鏡体
保持膜を高分子配位子(4−ビニルピリジン/ヘキシル
メタクリレート共重合体。
シベンザル)エチレンジイミンコバルl−)の飽和クロ
ロホルム溶液にポリテトラフルオロエチレンの多孔質膜
[フロロポア■(平均孔径:0.1μ);住友電工■製
コフィルターを浸漬し、5分間超音波処理を行っτ均一
に含浸させ、乾燥してIH1体保持膜を得た。この鏡体
保持膜を高分子配位子(4−ビニルピリジン/ヘキシル
メタクリレート共重合体。
4−ビニルビリジンユニツt−92mo1%)の2wt
%クロロホルム溶液にデイツプした所、直ちに灰色から
鮮かな紫色に変化し、分離活性層が形成された。この膜
は1次側圧力360T orrで酸素透過速度2,8X
1O−7crd / cri ・S −cm )(9
、窒素に対する酸素の選択率7.0と高い選択透過性能
を有していた。
%クロロホルム溶液にデイツプした所、直ちに灰色から
鮮かな紫色に変化し、分離活性層が形成された。この膜
は1次側圧力360T orrで酸素透過速度2,8X
1O−7crd / cri ・S −cm )(9
、窒素に対する酸素の選択率7.0と高い選択透過性能
を有していた。
実施例2
鏡体保持膜と高分子配位子溶液との界面形成を均一にす
るために、高分子配位子溶液の溶媒として錯体を溶解し
ないメタノールを用いるほかは実施例1と同様に製膜を
行って高分子錯体膜を得た。
るために、高分子配位子溶液の溶媒として錯体を溶解し
ないメタノールを用いるほかは実施例1と同様に製膜を
行って高分子錯体膜を得た。
この膜は1次側圧力695T orrで酸素透過速度2
、Ox IQ−8crd/ cti ・S −cmH9
,M択率(α(○2/N2))8.6と高い選択透過性
能を示した。
、Ox IQ−8crd/ cti ・S −cmH9
,M択率(α(○2/N2))8.6と高い選択透過性
能を示した。
実施例3
実施例1と同様に錯体溶液をフロロポア■フィルター(
0,1μ)に含浸させた後、ガラス板に密着させて乾燥
を行った所、フィルターの空気側の表面に錯体が濃縮さ
れた鏡体保持膜が得ら°れた。
0,1μ)に含浸させた後、ガラス板に密着させて乾燥
を行った所、フィルターの空気側の表面に錯体が濃縮さ
れた鏡体保持膜が得ら°れた。
この錯体保持膜に実施例1と同様にして分離活性層を形
成させた。この膜の選択透過性能を評価した所、1次側
圧力393Torr T:酸素透過速度1.26 X
IL7crd/ cm−3−cmH9,’33択率(α
’ (02/N2 ) ) 10.3と極めて高い
選択透過性能セルロース多孔膜(FR−20(平均孔径
:0.2μ);富士写真フィルム■製)を浸漬し、5分
間超音波処理を行って均一に含浸させた後、多孔膜表面
の1部をガラス板で覆って蒸発を抑えつつガラス根土で
乾燥を行ったところ、多孔膜の蒸発面に錯体が均一に含
浸された錯体保持膜が得られた。この鏡体保持膜に実施
例1と同様にして分離活性層を形成させた。この膜の選
択透過性能を評11IL、たところ、1次側圧カフ00
Torrで酸素透過速度:9.61 X 10’ ci
/ tri ・S−cmH9,選択率:α(02/N2
) ) : 22.3と極めて高い選択透過性能を示
した。
成させた。この膜の選択透過性能を評価した所、1次側
圧力393Torr T:酸素透過速度1.26 X
IL7crd/ cm−3−cmH9,’33択率(α
’ (02/N2 ) ) 10.3と極めて高い
選択透過性能セルロース多孔膜(FR−20(平均孔径
:0.2μ);富士写真フィルム■製)を浸漬し、5分
間超音波処理を行って均一に含浸させた後、多孔膜表面
の1部をガラス板で覆って蒸発を抑えつつガラス根土で
乾燥を行ったところ、多孔膜の蒸発面に錯体が均一に含
浸された錯体保持膜が得られた。この鏡体保持膜に実施
例1と同様にして分離活性層を形成させた。この膜の選
択透過性能を評11IL、たところ、1次側圧カフ00
Torrで酸素透過速度:9.61 X 10’ ci
/ tri ・S−cmH9,選択率:α(02/N2
) ) : 22.3と極めて高い選択透過性能を示
した。
別途、上述の方法にしたがって分離活性層を形成した膜
は1次側圧力100T Qrrで酸素透過速度:3、1
2 X 1O−8ci/ ci−3−cmHa 、選択
率(α(02/ N2 ) : 26.4と高い選択透
過性を有していた。
は1次側圧力100T Qrrで酸素透過速度:3、1
2 X 1O−8ci/ ci−3−cmHa 、選択
率(α(02/ N2 ) : 26.4と高い選択透
過性を有していた。
実施例5
Co (Salen)の飽和クロロホルム溶液の供給
源に接してフロロポア■フィルター(0,1μ)をΔ々
置し、フィルクーの17il孔空隙部に錯体溶液を浸透
含浸させた。この上に別に調製した高分子配位子(4−
ビニルピリジン/ヘキシルメタクリレート共重合体、
4−ビニルピリジンユニット94.9mo1%)フィル
ムを密着させ、高分子配位子フィルムの表面に分離活性
層を形成した。この膜は1次側圧カフ62 Torrで
酸素透過速度: 2.63 X10’ crtl/c
m−8−cmHg*選択率(α(02/N2): 13
,5と高い選択透過性能を示した。
源に接してフロロポア■フィルター(0,1μ)をΔ々
置し、フィルクーの17il孔空隙部に錯体溶液を浸透
含浸させた。この上に別に調製した高分子配位子(4−
ビニルピリジン/ヘキシルメタクリレート共重合体、
4−ビニルピリジンユニット94.9mo1%)フィル
ムを密着させ、高分子配位子フィルムの表面に分離活性
層を形成した。この膜は1次側圧カフ62 Torrで
酸素透過速度: 2.63 X10’ crtl/c
m−8−cmHg*選択率(α(02/N2): 13
,5と高い選択透過性能を示した。
実施例6
5℃にコントロールした水面上に高分子配位子(4−ビ
ニルピリジン/ヘキシルメタクリレート共重合体、 4
−ビニルピリジンユニット94.9mo1%)のクロロ
ホルム溶液を展開し、固体薄膜を17だ。これをポリプ
ロピレン多孔III <ジュラガード2400 :ポリ
プラスチックス■製)の上に5層積層し、高分子配位子
複合薄膜を得た。この膜の多孔膜側からGo (Sa
len)の飽和クロロホルム溶液を浸透させると直ちに
鮮かな紫色の分離活性層が形成した。
ニルピリジン/ヘキシルメタクリレート共重合体、 4
−ビニルピリジンユニット94.9mo1%)のクロロ
ホルム溶液を展開し、固体薄膜を17だ。これをポリプ
ロピレン多孔III <ジュラガード2400 :ポリ
プラスチックス■製)の上に5層積層し、高分子配位子
複合薄膜を得た。この膜の多孔膜側からGo (Sa
len)の飽和クロロホルム溶液を浸透させると直ちに
鮮かな紫色の分離活性層が形成した。
特許出願人 工 業 技 術 院 長
Claims (3)
- (1)シッフ塩基金属錯体と配位子ポリマーとの界面反
応によって形成される分離活性層を有する選択透過膜。 - (2)該金属錯体が下記一般式( I ) %識%( I ) 〔ここでR_0は結合a,bと隣接した炭素原子で結合
している炭素原子数6以下の炭化水素基を表わす。R_
1、R_2はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1
〜3のアルキル基より選ばれた基を表わす。 R_3〜R_6はそれぞれ独立に、水素原子、低級アル
キル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は−X−C
_nH_m(14≦n≦22.21≦m≦45)で表わ
される置換基より選ばれた基を表わす。但しXは−O−
、−COO−、−NHCO−、−S−等の−C_nH_
mと環A又はBとの連結基である。MはFe、Co、 Cu、Ni、Mn、Cr及びZnよりなる群から選ばれ
た金属を表わす。〕 からなるシッフ塩基金属錯体化合物である請求項第1項
記載の選択透過膜。 - (3)配位子ポリマーがビニルピリジンの単独もしくは
共重合体及びビニルイミダゾールの単独もしくは共重合
体よりなる群の中から選ばれた配位子ポリマーである請
求項第1項記載の選択透過膜。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2493488A JPH01203003A (ja) | 1988-02-06 | 1988-02-06 | 選択透過膜 |
DE8888113505T DE3871462D1 (de) | 1987-08-22 | 1988-08-19 | Membran zur gastrennung. |
EP88113505A EP0304818B1 (en) | 1987-08-22 | 1988-08-19 | Gas separation membrane |
US07/483,281 US4985053A (en) | 1987-08-22 | 1990-02-21 | Gas separation membrane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2493488A JPH01203003A (ja) | 1988-02-06 | 1988-02-06 | 選択透過膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01203003A true JPH01203003A (ja) | 1989-08-15 |
Family
ID=12151910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2493488A Pending JPH01203003A (ja) | 1987-08-22 | 1988-02-06 | 選択透過膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01203003A (ja) |
-
1988
- 1988-02-06 JP JP2493488A patent/JPH01203003A/ja active Pending
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