JPH01187472A - Burn-in device - Google Patents

Burn-in device

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JPH01187472A
JPH01187472A JP63011569A JP1156988A JPH01187472A JP H01187472 A JPH01187472 A JP H01187472A JP 63011569 A JP63011569 A JP 63011569A JP 1156988 A JP1156988 A JP 1156988A JP H01187472 A JPH01187472 A JP H01187472A
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heat medium
temperature
test
semiconductor device
heat
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Takeo Yamada
健雄 山田
Toshiya Saito
俊哉 斉藤
Shigeo Kuroda
黒田 重雄
Kanji Otsuka
寛治 大塚
Takahiro Oguro
崇弘 大黒
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Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To perform temperature control over a body to be inspected effectively without increasing the amount of a heat medium and the scale, etc., of the device unnecessarily by controlling the temperature of the body through the heat medium. CONSTITUTION:Heat generated by a semiconductor device 5 in an operation state is conducted effectively to the heat medium spouted from individual nozzles 3 to the semiconductor device 5. The semiconductor device 5 becomes stable at prescribed test temperature determined by the temperature, flow velocity, flow rate, etc., of the heat medium 9 spouted from the nozzles 3 and in this state, a tester 6 decides whether or not operation characteristics are normal according to operation test signals sent to and received from individual semiconductor devices 5. The heat medium 9 which rises in temperature owing to the heat from the individual semiconductor devices 5 circulates in a storage tank 10 from the bottom part of the test tank 1 through a recovery pipe 12 and is controlled to prescribed temperature through the operation of a heat exchanger 14a and a temperature control part 14 and supplied again to the test tank 1 to circulate between the storage tank 1 and test tank 1 for use. Consequently, the temperature of the body is controlled effectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、バーン・イン・テスト技術に関し、特に、動
作時の発熱量の大きな半導体装置の出荷や受入に際して
実施されるスクリーニングに適用して有効な技術に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to burn-in test technology, and is particularly applicable to screening performed when shipping or receiving semiconductor devices that generate a large amount of heat during operation. Concerning effective techniques.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

たとえば、汎用の電子計算機などに実装される大規模論
理集積回路などの半導体装置においては、動作の高速化
による消費電力の増大に伴って動作時における発熱量は
増大の一途を辿っており、実装状態における冷却方式と
しては、通常の強制空冷方式から液相の熱媒体を用いる
液冷方式へと移行しつつある。
For example, in semiconductor devices such as large-scale logic integrated circuits implemented in general-purpose computers, the amount of heat generated during operation continues to increase as power consumption increases due to faster operation. The current cooling method is shifting from the usual forced air cooling method to a liquid cooling method that uses a liquid-phase heat medium.

このため、この種の半導体装置の出荷や受入などに際し
て、製品の品質を安定させたり、品質が所定の水準に達
しない性能の不安定な製品を排除するスクリーニングの
一手段として実施される、通常の使用状態よりも温度な
どの条件が過酷な環境下で半導体装置を動作させて潜在
的な欠陥などを検出するバーン・イン・テストにおいて
も、次のような液冷方式のバーン・イン装置を使用する
ことが考えられる。
For this reason, when shipping or receiving this type of semiconductor device, screening is usually carried out as a means of stabilizing the quality of the product and eliminating products with unstable performance that do not meet a specified level of quality. In burn-in tests, in which semiconductor devices are operated under conditions such as temperature that are harsher than the operating conditions to detect latent defects, the following liquid-cooled burn-in equipment is used. It is possible to use it.

その概要は、所定の液体中に検査すべき半導体装置を浸
漬し、液体全体を強制的に撹拌して冷却しながら動作試
験を行うことにより、発熱量の比較的大きい半導体装置
の動作中の発熱による温度上昇を所定の設定値に安定に
制御しようとするものである。
The outline of this method is to immerse the semiconductor device to be tested in a predetermined liquid and perform an operation test while cooling the entire liquid by forcibly stirring the liquid. The aim is to stably control the temperature rise caused by this to a predetermined set value.

なお、バーン・イン・テスト技術については、株式会社
工業調査会、昭和61年11月18日発行、[電子材料
J 1986年11月号別冊、P249〜P253に記
載されている。
Incidentally, the burn-in test technique is described in "Electronic Materials J, November 1986 issue, supplementary volume, pages 249 to 253, published by Kogyo Chosenkai Co., Ltd., November 18, 1986.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、上記のような従来技術においては、試験槽に
貯溜された全体の熱媒体のうち、半導体装置に接触して
実際に冷却に寄与するものは一部であり、冷却効果を向
上させるためには、試験槽全体の熱媒体の撹拌速度を大
きくする必要があり、熱媒体の量や撹拌機構の規模など
がいたずらに増大するという欠点がある。
However, in the above-mentioned conventional technology, only a portion of the total heat medium stored in the test chamber comes into contact with the semiconductor device and actually contributes to cooling. This method has the disadvantage that it is necessary to increase the stirring speed of the heating medium throughout the test tank, which unnecessarily increases the amount of heating medium and the scale of the stirring mechanism.

そこで、本発明の目的は、熱媒体の量や装置の規模など
を必要以上に増大させることなく、被検査物の温度制御
を効果的に行うことが可能なバーン・イン技術を提供す
ることにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a burn-in technique that can effectively control the temperature of an object to be inspected without unnecessarily increasing the amount of heat medium or the scale of the equipment. be.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、被検査物を収容する試験槽と、被検査物に電
力および動作信号の少なくとも一方を供給する試験電源
系と、個々の被検査物毎に少なくとも一つ設けられ、被
検査物の各々に対して液相の熱媒体を噴射供給する熱媒
体噴射手段と、熱媒体を介して被検査物の温度を制御す
る温度制御系とを設けたものである。
That is, a test chamber that accommodates the test object, a test power supply system that supplies at least one of electric power and operation signals to the test object, and at least one test power system for each test object. The apparatus is provided with a heat medium injection means for injecting and supplying a liquid phase heat medium, and a temperature control system for controlling the temperature of the object to be inspected via the heat medium.

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、個々の被検査物に対して熱媒体
噴射手段から液体の熱媒体が噴射供給されるので、流動
する熱媒体のほぼ全量が被検査物の温度制御に効果的に
寄与することとなり、熱媒体の量や装置の規模などを必
要以上に増大させることなく、被検査物の温度制御を効
果的に行うことができる。
According to the above means, since the liquid heat medium is injected and supplied from the heat medium injection means to each object to be inspected, almost the entire amount of the flowing heat medium effectively contributes to temperature control of the object to be inspected. Therefore, the temperature of the object to be inspected can be effectively controlled without unnecessarily increasing the amount of heat medium or the scale of the apparatus.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、本発明の一実施例であるバーン・イン装置の
要部を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the main parts of a burn-in device that is an embodiment of the present invention.

密閉された試験槽1の内部には、分配槽2が収容されて
いる。
A distribution tank 2 is housed inside the sealed test tank 1 .

分配槽2の上部には、複数の分配管2aが垂直に突設さ
れており、この分配管2aの各々の側面には、複数のノ
ズル3 (熱媒体噴射手段)が水平な姿勢で突設されて
いる。
A plurality of distribution pipes 2a are vertically protruded from the top of the distribution tank 2, and a plurality of nozzles 3 (thermal medium injection means) are horizontally protruded from each side of the distribution pipes 2a. has been done.

分配管2aに設けられた複数のノズル3に対向する位置
には、複数の試験台4が配設されており、各々の試験台
4において個々のノズル3の先端部に対応する部位には
、ボード5aに搭載さ、れた大規模論理集積回路装置な
どの半導体装置5 (被検査物)が着脱自在に係止され
ている。
A plurality of test stands 4 are arranged at positions facing the plurality of nozzles 3 provided in the distribution pipe 2a, and on each test stand 4, at a portion corresponding to the tip of each nozzle 3, A semiconductor device 5 (object to be inspected) such as a large-scale logic integrated circuit device mounted on the board 5a is removably locked.

この試験台4は、たとえば電子計算機や電源などからな
るテスタ6 (試験電源系)に接続されており、このテ
スタから、ケーブル6aを介して、試験台4に着脱自在
に係止された複数の半導体装置5に対する動作電力の供
給や動作試験信号の入出力が行われるように構成されて
いる。
This test stand 4 is connected to a tester 6 (test power supply system) consisting of, for example, a computer and a power supply, and from this tester, a plurality of It is configured to supply operating power to the semiconductor device 5 and input/output operation test signals.

また、試験槽1には、図示しない扉が設けられ、この扉
を通じて試験台4に対する複数の半導体装置5の着脱が
行われる構造とされている。
The test chamber 1 is also provided with a door (not shown), through which a plurality of semiconductor devices 5 can be attached to and removed from the test stand 4.

分配槽2の底部には、複数に分岐した主配管7の分岐端
が接続され、この主配管7の基端部側はポンプ8を介し
て、液体の熱媒体9が貯溜された貯溜槽10に接続され
ている。
The bottom of the distribution tank 2 is connected to the branch end of a plurality of branched main pipes 7, and the base end side of the main pipe 7 is connected via a pump 8 to a storage tank 10 in which a liquid heat medium 9 is stored. It is connected to the.

そして、ポンプ8を作動させることにより、貯溜槽10
に貯溜された熱媒体9が、主配管71分配槽21分配管
2a、ノズル3を介して複数の半導体装置5の各々に対
して個別に噴射供給されるものである。
Then, by operating the pump 8, the storage tank 10
The heat medium 9 stored in the heating medium 9 is individually injected and supplied to each of the plurality of semiconductor devices 5 through the main pipe 71, the distribution tank 21, the branch pipe 2a, and the nozzle 3.

主配管7におけるポンプ8の吐き出し側には、試験槽1
の内部に供給される熱媒体9に含まれるイオン性不純物
や水分などを除去するフィルタ11が介設されている。
A test tank 1 is provided on the discharge side of the pump 8 in the main pipe 7.
A filter 11 is interposed to remove ionic impurities, moisture, etc. contained in the heat medium 9 supplied to the interior of the heat exchanger.

試験槽1の底部は回収管12を介して貯溜槽10に接続
されており、複数のノズル3を介して半導体装置5に噴
射供給された後に試験槽1の内部に飛散した熱媒体9が
貯溜槽10に還流するように構成されている。
The bottom of the test tank 1 is connected to a storage tank 10 through a recovery pipe 12, and the heat medium 9 that has been sprayed and supplied to the semiconductor device 5 through the plurality of nozzles 3 and then scattered inside the test tank 1 is stored. It is configured to flow back into the tank 10.

また試験槽1の内部において、複数の試験台4の上方の
空間には、凝縮器13aが配設されており、試験槽1の
外部に設けられた冷凍機13との間で循環する図示しな
い冷媒によって冷却されるように構成されている。
In addition, inside the test chamber 1, a condenser 13a is disposed in a space above the plurality of test stands 4, and a condenser 13a (not shown) is configured to circulate between the condenser 13a and a refrigerator 13 provided outside the test chamber 1. It is configured to be cooled by a refrigerant.

そして、半導体装置5の熱によって蒸発し、試験槽1の
内部空間に揮散した一部の熱媒体9が凝縮器13aに触
れることによって液化され、試験槽1の底部に滴下して
回収されるように構成されている。
Then, a part of the heat medium 9 that is evaporated by the heat of the semiconductor device 5 and volatilized in the internal space of the test chamber 1 is liquefied by touching the condenser 13a, and is dropped to the bottom of the test chamber 1 and collected. It is composed of

さらに、貯溜槽10の内部において熱媒体9の液面下に
没入する位置には、たとえば管状の熱交換体14a (
温度制御系)が配設されており、外部に設けられた温度
制御部14 (温度制御系)との間で循環する図示しな
い熱媒体を介して、貯溜槽10から試験槽1に供給され
る熱媒体9の温度が所望の値に制御される構造とされて
いる。
Furthermore, a tubular heat exchange body 14a (
A temperature control system (temperature control system) is provided, and heat is supplied from the storage tank 10 to the test chamber 1 via a heat medium (not shown) that circulates between the temperature control unit 14 (temperature control system) provided outside. The structure is such that the temperature of the heat medium 9 is controlled to a desired value.

以下、本実施例の作用について説明する。The operation of this embodiment will be explained below.

まず、貯溜槽10の内部の熱媒体9は、熱交換体14a
および温度制御部14によって所定の温度にされるとと
もに、図示しない扉を介して試験槽1の複数の試験台4
の各々には、ボード5aに搭載された複数の半導体装置
5が装着される。
First, the heat medium 9 inside the storage tank 10 is transferred to the heat exchanger 14a.
The temperature is set to a predetermined temperature by the temperature control unit 14, and the plurality of test stands 4 of the test chamber 1 are controlled through a door (not shown).
A plurality of semiconductor devices 5 mounted on a board 5a are mounted on each of the boards 5a.

その後、ポンプ8が起動され、貯溜槽10の内部の所定
の温度の熱媒体9は、フィルタ11を通過することによ
ってイオン性不純物や水分などが除去された後、主配管
72分配槽21分配管2aおよび複数のノズル3を介し
て、試験台4に固定された複数の半導体装置5の各々に
個別に、しかもほぼ均等な流量および流速で噴射供給さ
れる。
Thereafter, the pump 8 is started, and the heat medium 9 at a predetermined temperature inside the storage tank 10 passes through the filter 11 to remove ionic impurities and moisture, and then passes through the main pipe 72, distribution tank 21, and branch pipes. 2a and the plurality of nozzles 3, the liquid is sprayed and supplied to each of the plurality of semiconductor devices 5 fixed on the test stand 4 individually and at approximately equal flow rates and flow rates.

この時、ノズル3から噴射される熱媒体9は、半導体装
置5の表面に衝突した後、半導体装置5の表面に沿う方
向に急激に向きを変え、半導体装置5の表面は、熱伝達
係数の大きな薄い境界層を有する熱媒体9の流れに覆わ
れた状態となる。
At this time, after colliding with the surface of the semiconductor device 5, the heat medium 9 injected from the nozzle 3 suddenly changes direction in the direction along the surface of the semiconductor device 5, and the surface of the semiconductor device 5 has a heat transfer coefficient of The state is covered by the flow of the heat medium 9 having a large thin boundary layer.

この状態で、テスタ6からは、ケーブル5a。In this state, the cable 5a is sent from the tester 6.

試験台4.ボード5aを介して、個々の半導体装置5に
対して動作電力および動作試験信号などが印加され、個
々の半導体装置5は所定の動作状態にされる。
Test stand4. Operating power, operation test signals, and the like are applied to each semiconductor device 5 via the board 5a, and each semiconductor device 5 is brought into a predetermined operating state.

この時、動作状態の半導体装置5から発生する熱は、当
該半導体装置5に個々のノズル3から噴射供給される熱
媒体9に効果的に伝達され、個々の半導体装置5は、ノ
ズル3から噴射供給される熱媒体9の温度、流速、流量
などによって決まる所定の試験温度に安定し、この状態
で、所定の時間だけ動作が継続され、テスタ6は個々の
半導体装置5との間で授受される動作試験信号などに基
づいて動作特性の可否などを判別する。
At this time, the heat generated from the semiconductor device 5 in the operating state is effectively transferred to the heat medium 9 that is injected and supplied from the individual nozzles 3 to the semiconductor device 5, and the individual semiconductor device 5 is The test temperature is stabilized at a predetermined test temperature determined by the temperature, flow rate, flow rate, etc. of the supplied heat medium 9, and in this state, operation is continued for a predetermined time, and the tester 6 is transferred to and from each semiconductor device 5. It is determined whether the operating characteristics are acceptable or not based on the operating test signal etc.

一方、個々の半導体装置5からの熱によって温度が上昇
した熱媒体9は、試験槽1の底部から回収管12を通じ
て貯溜槽10の内部に還流し、熱交換体14aおよび温
度制御部14の作用によって所定の温度にされた後、再
び試験槽1に供給され、貯溜槽10と試験槽1との間を
循環して使用される。
On the other hand, the heat medium 9 whose temperature has increased due to the heat from the individual semiconductor devices 5 flows back into the storage tank 10 from the bottom of the test tank 1 through the recovery pipe 12, and is activated by the heat exchanger 14a and the temperature controller 14. After being brought to a predetermined temperature, it is again supplied to the test tank 1 and used by circulating between the storage tank 10 and the test tank 1.

また、試験槽1の内部空間に揮散した一部の熱媒体9は
、凝縮器13aによって凝縮され、試験槽1の底部に滴
下した後、回収管12を通じて貯溜槽10の内部に回収
される。
Further, a part of the heat medium 9 volatilized in the internal space of the test tank 1 is condensed by the condenser 13a, drops onto the bottom of the test tank 1, and is then collected into the storage tank 10 through the recovery pipe 12.

ここで、従来のように、熱媒体9の内部に半導体装置5
を浸漬させ、熱媒体9を撹拌することなどによって冷却
効率を向上させようとする方式では、全体の熱媒体9の
うち実際に半導体装置5に接して温度制御に寄与する量
が少ないため、たとえば、バイポーラ型の大規模論理集
積回路装置などの半導体装置5のように、動作時に極め
て大きな発熱を伴う場合には、必要以上に熱媒体9の量
を多くしたり撹拌速度を大きくすることが必須となり、
ポンプ8やその他の機器の所要動力や寸法などが増大す
るなどして装置の規模が大きくなることは避けられない
ものである。
Here, as in the conventional case, the semiconductor device 5 is placed inside the heat medium 9.
In the method of improving the cooling efficiency by immersing the heat medium 9 and stirring the heat medium 9, only a small amount of the whole heat medium 9 actually comes into contact with the semiconductor device 5 and contributes to temperature control. When a semiconductor device 5 such as a bipolar large-scale logic integrated circuit device generates an extremely large amount of heat during operation, it is essential to increase the amount of heat medium 9 or increase the stirring speed more than necessary. Then,
It is inevitable that the size of the device will increase as the required power and dimensions of the pump 8 and other equipment increase.

ところが、本実施例の場合には、個々の半導体装置5の
各々に対してノズル3から熱媒体9が集中的に噴射供給
される構造であるため、試験槽1と貯溜槽10との間を
循環する熱媒体9のほぼ全量を半導体装置5に接触させ
て温度制御に確実に寄与させることができる。
However, in the case of this embodiment, since the structure is such that the heat medium 9 is intensively sprayed and supplied from the nozzle 3 to each individual semiconductor device 5, there is no space between the test tank 1 and the storage tank 10. Almost the entire amount of the circulating heat medium 9 can be brought into contact with the semiconductor device 5 to reliably contribute to temperature control.

さらに、ノズル3から噴射され、半導体装置5の表面に
高速に接する熱媒体9においては、前述のように、熱媒
体9と半導体装置5の表面との間に形成される図示しな
い境界層が薄くなり、伝熱抵抗が小さくなって半導体装
置5と熱媒体9との間における伝熱効率が向上する。
Furthermore, in the heat medium 9 that is injected from the nozzle 3 and contacts the surface of the semiconductor device 5 at high speed, the boundary layer (not shown) formed between the heat medium 9 and the surface of the semiconductor device 5 is thin, as described above. Therefore, the heat transfer resistance is reduced, and the heat transfer efficiency between the semiconductor device 5 and the heat medium 9 is improved.

このため、動作時に極めて大きな発熱を伴う半導体装置
5などの場合でも、熱媒体9の量や、熱媒体9を循環さ
せるポンプ8などの付属機器の規模を必要以上に大きく
することなく、熱媒体9による半導体装置5の温度制御
を効果的に行うことができる。
Therefore, even in the case of a semiconductor device 5 that generates an extremely large amount of heat during operation, the heat medium can be used without increasing the amount of heat medium 9 or the size of attached equipment such as the pump 8 that circulates the heat medium 9 unnecessarily. 9 can effectively control the temperature of the semiconductor device 5.

本発明は、噴出口近くに半導体装置をセットし、冷媒を
いわゆる噴流として半導体装置にあてていることにより
冷却効率は非常によいことと、複数の半導体装置の各々
をほぼ同一の冷却条件のもとて冷却できるものである。
The present invention is characterized by the fact that cooling efficiency is very high by setting a semiconductor device near the spout and applying the refrigerant to the semiconductor device in the form of a so-called jet stream, and that each of a plurality of semiconductor devices can be cooled under almost the same cooling conditions. It can be cooled down.

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
As described above, according to this embodiment, the following effects can be obtained.

(1)8個々の半導体装置5の各々に対してノズル3か
ら熱媒体9が集中的に噴射供給される構造であるため、
試験槽lと貯溜槽10との間を循環する熱媒体9のほぼ
全量を半導体装置5に接触させ冷却などの温度制御に確
実に寄与させることができ、動作時に極めて大きな発熱
を伴う半導体装置5などの場合でも、熱媒体9の量や、
熱媒体を循環させるポンプ8などの付属機器の規模を必
要以上に大きくすることなく、熱媒体9による半導体装
置5の温度制御を効果的に行うことができる。
(1) Since the structure is such that the heat medium 9 is intensively sprayed and supplied from the nozzle 3 to each of the eight individual semiconductor devices 5,
Almost the entire amount of the heat medium 9 circulating between the test tank 1 and the storage tank 10 can be brought into contact with the semiconductor device 5 to reliably contribute to temperature control such as cooling, and the semiconductor device 5 generates an extremely large amount of heat during operation. Even in such cases, the amount of heat medium 9,
The temperature of the semiconductor device 5 can be effectively controlled by the heat medium 9 without unnecessarily increasing the size of accessory equipment such as the pump 8 that circulates the heat medium.

(2)、前記(1)の結果、バーン・イン装置の小型化
が可能となり、半導体装置5の製造におけるエージング
工程などでの生産性を向上させることができる。
(2) As a result of (1) above, it is possible to downsize the burn-in device, and it is possible to improve productivity in the aging process and the like in manufacturing the semiconductor device 5.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

たとえば、個々の半導体装置の各々に複数のノズルを設
けても良いことは言うまでもない。
For example, it goes without saying that each individual semiconductor device may be provided with a plurality of nozzles.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置のバーン
・イン技術に適用した場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、被検査物の温度を効率よく制
御することが要求される技術に広く適用することができ
る。
The above explanation has mainly been about the case where the invention made by the present inventor is applied to the burn-in technology of semiconductor devices, which is the background application field, but the invention is not limited to this. It can be widely applied to technologies that require efficient control of temperature.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、被検査物を収容する試験槽と、前記被検査物
に電力環よび動作信号の少なくとも一方を供給する試験
電源系と、個々の前記被検査物毎に少なくとも一つ設け
られ、当該被検査物の各々に対して液相の熱媒体を噴射
供給する熱媒体噴射手段と、前記熱媒体を介して前記被
検査物の温度を制御する温度制御系とを備えた構造であ
るため、個々の被検査物に対して熱媒体噴射手段から液
体の熱媒体が噴射供給されることによって、流動する熱
媒体のほぼ全量が被検査物の温度制御に効果的に寄与す
ることとなり、熱媒体の量や装置の規模などを必要以上
に増大させることなく被検査物の温度制御を効果的に行
うことができる。
That is, a test chamber that accommodates the object to be inspected, a test power supply system that supplies at least one of a power ring and an operation signal to the object to be inspected, and at least one test power system for each of the objects to be inspected; The structure includes a heat medium injection means for injecting a liquid phase heat medium to each object, and a temperature control system that controls the temperature of the object to be inspected via the heat medium. By injecting and supplying the liquid heat medium from the heat medium injection means to the object to be inspected, almost the entire amount of the flowing heat medium effectively contributes to temperature control of the object to be inspected, and the amount of heat medium The temperature of the object to be inspected can be effectively controlled without unnecessarily increasing the size of the device or the equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるバーン・イン装置の要
部を示す説明図である。 1・・・試験槽、2・・・分配槽、2a・・・分配管、
3・・・ノズル(熱媒体噴射手段)、4・・・試験台、
5・・・半導体装置(被検査物)、5a・・・ボード、
6・・・テスタ(試験電源系)、6a・・・ケーブル、
7・・・主配管、8・・・ポンプ、9・・・熱媒体、1
0・・・貯溜槽、11・・・フィルタ、12・・・回収
管、13・・・冷凍機、13a・・・凝縮器、14・・
・温度制御部(温度制御系)、14a・・・熱交換体く
温度制御系)。 代理人 弁理士 筒 井 大 和
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the main parts of a burn-in device which is an embodiment of the present invention. 1... Test tank, 2... Distribution tank, 2a... Distribution pipe,
3... Nozzle (thermal medium injection means), 4... Test stand,
5... Semiconductor device (tested object), 5a... Board,
6... Tester (test power supply system), 6a... Cable,
7... Main piping, 8... Pump, 9... Heat medium, 1
0... Storage tank, 11... Filter, 12... Recovery pipe, 13... Freezer, 13a... Condenser, 14...
- Temperature control section (temperature control system), 14a... heat exchanger temperature control system). Agent Patent Attorney Daiwa Tsutsui

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、被検査物を収容する試験槽と、前記被検査物に電力
および動作信号の少なくとも一方を供給する試験電源系
と、個々の前記被検査物毎に少なくとも一つ設けられ、
当該被検査物の各々に対して液相の熱媒体を噴射供給す
る熱媒体噴射手段と、前記熱媒体を介して前記被検査物
の温度を制御する温度制御系とを備えたことを特徴とす
るバーン・イン装置。 2、前記被検査物が、実装時に液相の熱媒体によって冷
却される半導体装置であることを特徴とする請求項1記
載のバーン・イン装置。
[Claims] 1. A test chamber for accommodating an object to be inspected, a test power supply system for supplying at least one of electric power and an operation signal to the object to be inspected, and at least one test power system provided for each of the objects to be inspected. is,
It is characterized by comprising a heat medium injection means for injecting a liquid phase heat medium to each of the objects to be inspected, and a temperature control system that controls the temperature of the objects to be inspected via the heat medium. burn-in equipment. 2. The burn-in apparatus according to claim 1, wherein the object to be inspected is a semiconductor device that is cooled by a liquid-phase heat medium during mounting.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59162465A (en) * 1983-03-07 1984-09-13 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Tester
JPS59195795U (en) * 1983-06-13 1984-12-26 三菱電機株式会社 Electronics
JPS60128629A (en) * 1983-12-16 1985-07-09 Toshiba Corp Method of measurement of semiconductor element

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