JPH01176065A - ガス浸炭熱処理方法 - Google Patents

ガス浸炭熱処理方法

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JPH01176065A
JPH01176065A JP33393687A JP33393687A JPH01176065A JP H01176065 A JPH01176065 A JP H01176065A JP 33393687 A JP33393687 A JP 33393687A JP 33393687 A JP33393687 A JP 33393687A JP H01176065 A JPH01176065 A JP H01176065A
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furnace
carburizing
temperature
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gas
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Keishichi Nanba
難波 恵七
Fumitaka Abukawa
文隆 虻川
Hitoshi Goi
五井 均
Kazuyoshi Fujita
藤田 一良
Kenichi Kitamoto
健一 北本
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Tokyo Heat Treating Co
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は必要浸炭深さを一所定短時間内に確保する能率
的かつ経済的なガス浸炭熱処理方法に関する。
〔従来の技術〕
従来提供されているガス浸炭熱処理方法は矛3図示のご
と<、930℃前後への昇温工程(A)−浸炭工程(B
)、拡散工程(E)、降温工程(F)、温度保持工程(
G)、焼入れ工程(5)からなり、浸炭深さは処理時間
により制御されていた。
なお、浸炭深さ(CD)は次式で表わされる。
(、D = K %lv″−−−−− fil上記式に
おいて、には温度による定数。
Vt は時間を示すものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来のガス浸炭熱処理方法における浸炭深さの制御
は昇温後、エンリッチガスを添加し。
温度を一定にし1時間で制御するものであった。
したがって、処理に長時間を要し、能率的とは言うこと
ができず、さらにガス及び電気使用1〜多くなり一経済
的とは言えなかった。
本発明は上記、のどとき欠点を除去してなるもので、処
理温度及び炭氷濃度に比例する浸炭速度の関係に着目1
−1所定短時間内に必要とする浸炭深さを確保する能率
的かつ経済的なガス浸炭熱処理方法を提供しようとする
ものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記のごとき従来の欠点を除去するため一必要
浸炭深さを、所定短時間内にオーステナイト領域での炭
素飽和濃度かつ温度制輝により確保して急冷するもので
あり、他の発明は上記方法の後−さらに再加熱焼入れを
行うものである。
〔作 用〕
本発明では処理温度及び炭素濃度を高めれば浸炭速度が
早められることに鑑み所定短時間内に実用に耐えるガス
浸炭熱処理を行うものである、 すなわち、まず、所定短時間を予め定め、つぎにオース
テナイト領域での炭素飽和濃度かつ何度の処理温度で必
要とする浸炭深さが得られ・るかが検討されるものであ
る。
したがって、必然的に処理温度は従来より高温となり−
さらに、炭素濃度を上げてもスーテイングの心配がない
ものである。
また、上記所定短時間は上記(1)式における効率のよ
い V’T >iの状態、すなわち、1時間以内、具体
的には30分程度に設定される。
そして、上記時間内に必要とする浸炭深さが得られない
被処理品等にかぎって例外的に処理時間延長等によりカ
バーするものである。
矛1の発明は従来の昇温工程から浸炭工程までの処理及
び急冷により完了する。すなわち。
従来の拡散工程、降温工程、温度保持工程、焼入れ工程
が不要である。さらに浸炭工程も従来と異る工程である
すなわち、昇温によるA、変態点(723℃)から所定
高温に至り、それかられずかの時間迄が浸炭工程とされ
、必要とする浸炭深さを所定短時間に得ることができる
ものである。
上記本発明の急冷は結晶粒の細粉化と炭化物の粒状化及
び粒界酸化の粒状化を図るものである。
また、矛2の発明における再加熱焼入れは炭化物の同容
を防止するものである。
さらに、上記本発明によれば、 A/変態点から浸炭が
開始されており一従来のごと< A/変態点より浸炭工
程までの時間その他のロスを省くことができるものであ
る。
〔実施例〕
図面は本発明の一実施例を示すもので、その詳細を以下
に説明する。
〔実施例1〕 、t−1図には変成炉を使用せずに直接熱処理炉内に原
料ガス、アンモニアガス及び少量の空気(Ct4H10
、NH,7、Lir )を供給して自動車用歯車(80
M201)のテストピース(15ψ)−18本を処理し
た例が示されている。
すなわち−昇温開始と同時に上記原料がス。
アンモニアガスと少量の空気を供給し。
1000℃まで昇温し、所定短時間、具体的には30分
処理して急冷したものである。
上記処理においてはA、変態点(723℃)以上より炉
内雰囲気の炭素濃度が従来(Q、75〜0.81より上
げられた状態(約1.41)とされ、オーステナイト領
域での炭素飽和濃度で処理されるものであり、すでにA
、変態点から浸炭が開始されているものである。
また−上記高温での処理時間は効率のよいF〉1の状態
、すなわち、1時間以内。
具体的には30分に設定され、該時間内に必要浸炭深さ
を得るに必要な温度(1000”C)に炉内が制御され
たものである。
また、上記急冷は結晶粒の細粒化−炭化物の粒状化及び
粒界酸化の粒状化を図るものである。
すなわち、高温処理においては結晶粒粗大化による脆化
の問題が生じるため炉四を避けて気化潜熱等を利用して
急冷したものである。
上記テストピースの浸炭状況を日本工業規格(JIS)
で定められている炉内9地点、すなわち、炉内有効ゾー
ンの8つのコーナーと炉内中央部(実公昭52−216
89号公報参照)で測定した結果は 浸炭深さ X(平均値)=0.52X R(バラツキ巾) = 0.05九 σ(標準偏差)=0.02ES であり、従来とかわらない数値が得られたものである。
〔実施例2〕 矛2図は上記実施例1と同様のテストピースを原料ガス
とアンモニアガスで処理し、さらに再加熱焼入れを示し
た例が示されている。
すなわち、昇温開始と同時に上記原料ガスとアンモニア
ガスを供給し一1050℃まで昇温してすぐに急冷し、
その後別炉−浸炭雰囲気で860℃に加熱し、20分程
度で820℃に降温させ焼入れを行ったものである。
上記急冷時点における炉内9地点の浸炭状況を測定した
結果は 浸炭深さ X(平均地)  =  0.58%R(バラ
ツキ巾)二〇、05% σ(標準偏差)=、0.024 であり、上記実施例1とほぼ同等となったものである。
その後の再加熱焼入れは炭化物の同容を防止するためで
あり、上記工程で得られたテストピースの表面からの硬
さ測定結果は0.3%までは700HrIL■以上、0
.6%までは500 HmV以上であり、十分に実用可
能数値が得られたものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば極めて能率的で経済的なガス浸炭熱処理
を行うことができるものである。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示すもので、矛1図はその処
理工程図、矛2図は他の実施例を示す処理工程図、矛3
図は従来の処理工程図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)必要浸炭深さを、所定短時間内にオーステナイト
    領域での炭素飽和濃度かつ温度制御により確保して急冷
    することを特徴とするガス浸炭熱処理方法。
  2. (2)必要浸炭深さを、所定短時間内にオーステナイト
    領域での炭素飽和濃度かつ温度制御により確保して急冷
    し、さらに再加熱焼入れを行うことを特徴とすることを
    特徴とするガス浸炭熱処理方法。
JP62333936A 1987-12-28 1987-12-28 ガス浸炭熱処理方法 Expired - Lifetime JP3021458B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994009175A1 (en) * 1992-10-15 1994-04-28 Kawasaki Steel Corporation Method of continuously carburizing metal strip
US5944916A (en) * 1996-11-14 1999-08-31 Hyundai Motor Company, Ltd. Method of heat treatment for steel
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60197864A (ja) * 1984-03-22 1985-10-07 Komatsu Ltd 流動層による熱処理方法

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