JPH01174956A - ガスセンサー - Google Patents
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- JPH01174956A JPH01174956A JP33307487A JP33307487A JPH01174956A JP H01174956 A JPH01174956 A JP H01174956A JP 33307487 A JP33307487 A JP 33307487A JP 33307487 A JP33307487 A JP 33307487A JP H01174956 A JPH01174956 A JP H01174956A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はガスセンサー、更に詳しくは野菜あるいは肉の
腐った臭い、あるいはトイレの臭い等のような悪臭とし
て知覚される、例えばメチルメルカプタン等を選択的に
検知可能なガスセンサーに関するものである。
腐った臭い、あるいはトイレの臭い等のような悪臭とし
て知覚される、例えばメチルメルカプタン等を選択的に
検知可能なガスセンサーに関するものである。
[従来の技術]
従来から、特に−酸化炭素の測定を目的としたガスセン
サー等は種々提供されていた。
サー等は種々提供されていた。
ただ従来も、例えば一定濃度の臭気となった時に換気を
行なうような必要性のある場所として、トイレあるいは
野菜や肉等を保管している場所があった。
行なうような必要性のある場所として、トイレあるいは
野菜や肉等を保管している場所があった。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら従来は、野菜あるいは肉の腐った臭い、あ
るいはトイレの臭い等のような悪臭を高感度に検知する
ガスセンサーは提供されていなかった。
るいはトイレの臭い等のような悪臭を高感度に検知する
ガスセンサーは提供されていなかった。
そこで本発明は、悪臭を検知するガスセンサーを提供す
ることによって、悪臭を発するような場所等の換気等の
制御を容易なものとしたガスセンサーを提供することを
目的とする。
ることによって、悪臭を発するような場所等の換気等の
制御を容易なものとしたガスセンサーを提供することを
目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明は、セラミック基材
の表面に距離をおいて2つの電極を固定すると共に、こ
の電極上面及び電極間に相当する基材の上面にガス感応
層を設けたセンサーにおいて、触媒材料を、コバルト、
ニッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上でイオン交
換したゼオライトを4〜45重量%添加して形成したこ
とを特徴とする。
の表面に距離をおいて2つの電極を固定すると共に、こ
の電極上面及び電極間に相当する基材の上面にガス感応
層を設けたセンサーにおいて、触媒材料を、コバルト、
ニッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上でイオン交
換したゼオライトを4〜45重量%添加して形成したこ
とを特徴とする。
[作用]
本発明に係るガスセンサーとしては、半導体層と触媒層
とを混合層として一体にした、いわゆる1層構造のガス
センサーと、半導体層と触媒層とを分けた、いわゆる2
層構造のガスセンサーとがある。
とを混合層として一体にした、いわゆる1層構造のガス
センサーと、半導体層と触媒層とを分けた、いわゆる2
層構造のガスセンサーとがある。
1層構造のガスセンサーとしては、
酸化インジウム、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群の1
以上を55〜96重量%、コバルト。
以上を55〜96重量%、コバルト。
ニッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上を0.1〜
10重量%、ゼオライトにイオン交換した触媒を4〜4
5重量%混合したものに、バインダーを混合し、その後
粉砕、乾燥し、更に溶剤を加えてペースト状としたもの
を基材に塗布し、その後焼成、焼結してセンサーとする
ものである。
10重量%、ゼオライトにイオン交換した触媒を4〜4
5重量%混合したものに、バインダーを混合し、その後
粉砕、乾燥し、更に溶剤を加えてペースト状としたもの
を基材に塗布し、その後焼成、焼結してセンサーとする
ものである。
また2層構造のセンサーとしては、
酸化インジウム、酸化、スズ及び酸化亜鉛からなる群の
1以上にバインダーを混合し、その後粉砕、乾燥し、更
に水を加えてペースト状にして基材に塗布して半導体層
を形成した後、 その半導体層の表面に。
1以上にバインダーを混合し、その後粉砕、乾燥し、更
に水を加えてペースト状にして基材に塗布して半導体層
を形成した後、 その半導体層の表面に。
コバルト、ニッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上
をo、1−io重量%、ゼオライトにイオン交換した触
媒にバインダーを混合し、その後粉砕、乾燥し、更に水
を加えてペースト状としたものを触媒層として塗布して
センサーとするものである。
をo、1−io重量%、ゼオライトにイオン交換した触
媒にバインダーを混合し、その後粉砕、乾燥し、更に水
を加えてペースト状としたものを触媒層として塗布して
センサーとするものである。
[実施例]
以下図示例と共に、本発明の一実施例を説明する。
第1図は本発明に係るガスセンサーの斜視図である。
このガスセンサーは、半導体層10と触媒層11とから
成るいわゆる2層式のガスセンサーであって、筒状のセ
ラミック基材20の外周面に電極30.30を固定する
と共に、このセラミック基材20及び電極30.30の
外周面に半導体層10を設け、更にこの半導体層lOの
外周面に触媒材料から成る触媒層11を設けて、全体が
円筒状となるように形成しである。また製品としての全
体の寸法は、長さが約4■■程度である。
成るいわゆる2層式のガスセンサーであって、筒状のセ
ラミック基材20の外周面に電極30.30を固定する
と共に、このセラミック基材20及び電極30.30の
外周面に半導体層10を設け、更にこの半導体層lOの
外周面に触媒材料から成る触媒層11を設けて、全体が
円筒状となるように形成しである。また製品としての全
体の寸法は、長さが約4■■程度である。
電極30.30は2つ設け、かつ両電極30゜30を若
干離してセラミック基材20に固定しである。またこの
両電極からは、それぞれ2木づつリード線31.31が
設けである。
干離してセラミック基材20に固定しである。またこの
両電極からは、それぞれ2木づつリード線31.31が
設けである。
なおセラミック基材20の筒内部には、加熱用のコイル
ヒーター40が位置させである。
ヒーター40が位置させである。
またこのセンサーの取付けは、第2図に示したような上
面に網状のカバー50をかぶせた7ビンの取付体60中
に組込まれ、更に第3図に示した回路によって、悪臭の
検出を行なうものである。
面に網状のカバー50をかぶせた7ビンの取付体60中
に組込まれ、更に第3図に示した回路によって、悪臭の
検出を行なうものである。
次に2層式のガスセンサーの製造の一例を説明する。
なおこの説明では、
酸化インジウム、酸化スズ及び酸化亜鉛のなかからは酸
化インジウムを選択し。
化インジウムを選択し。
コバルト、ニッケル、鉄、銅及び金のなかからはコバル
トを選択した場合について説明する。
トを選択した場合について説明する。
まず最初に、酸化インジウムの粉末95重量%に対し、
ガラス粉末を5重量%混合し、更にこの全体に対して1
0重量%のセルロースを添加する。
ガラス粉末を5重量%混合し、更にこの全体に対して1
0重量%のセルロースを添加する。
更にこのようにして形成された粉体に、水を200重量
%程度加えた後、ミルで粉砕してペースト状の半導体材
料を用意する。
%程度加えた後、ミルで粉砕してペースト状の半導体材
料を用意する。
また触媒材料は、硝酸コバルトを水に溶かし。
この水溶液に微粉状のH型に交換されたゼオライト粉末
を浸漬し、約90〜95℃に加熱してコバルトをイオン
交換させる。その後純水によって洗浄した後、乾燥させ
、200メツシユスル一程度の粒度となるように粉砕す
る。
を浸漬し、約90〜95℃に加熱してコバルトをイオン
交換させる。その後純水によって洗浄した後、乾燥させ
、200メツシユスル一程度の粒度となるように粉砕す
る。
このようにして形成する半導体材料及び触媒材料を用意
しておく一方、外径が1,5φ、内径が1.2φ程度で
、かつ長さが4腫層程度のセラミック基材20としての
セラミック管を用意する。
しておく一方、外径が1,5φ、内径が1.2φ程度で
、かつ長さが4腫層程度のセラミック基材20としての
セラミック管を用意する。
このセラミック管は、熱衝撃に強い管、例えばアルミナ
、シリカ等を含有したムライト管等が好ましい。
、シリカ等を含有したムライト管等が好ましい。
次にこのセラミック管の外周面に、その両端からセラミ
ック管の表面が隠れる程度に金ペーストを塗布する。こ
の金ペーストは、2つの電極30.30とするためのも
ので、セラミック管の中央部分で0.5〜1m層の間隙
を有するように塗布するものである。
ック管の表面が隠れる程度に金ペーストを塗布する。こ
の金ペーストは、2つの電極30.30とするためのも
ので、セラミック管の中央部分で0.5〜1m層の間隙
を有するように塗布するものである。
この金ペーストの塗布が終了した後は、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行ない、
電極30.30とする。
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行ない、
電極30.30とする。
次いで、2つの電極30.30各々に、線径が80終鳳
程度のリード線31.31を位置させ、そのリード線3
1.31部分に金ペーストを塗布して、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行なって
固定する。
程度のリード線31.31を位置させ、そのリード線3
1.31部分に金ペーストを塗布して、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行なって
固定する。
このリード線31.31は、白金合金、例えばロジウム
によって硬度を増した白金ロジウム等が望ましい。
によって硬度を増した白金ロジウム等が望ましい。
その後、電極30、−30の形成部分の外周面及び画電
極30.30の間隙部分であるセラミック管の外周部分
に、前記ペースト状の半導体材料を塗布し、800℃の
温度で30分間加熱焼結させて゛ト導体層10を形成す
る。この加熱焼結は、半導体の破損を防止するために、
除熱、徐冷を行なうために、除熱、徐冷の時間を含める
と約1時間程度の時間が必要とされる。
極30.30の間隙部分であるセラミック管の外周部分
に、前記ペースト状の半導体材料を塗布し、800℃の
温度で30分間加熱焼結させて゛ト導体層10を形成す
る。この加熱焼結は、半導体の破損を防止するために、
除熱、徐冷を行なうために、除熱、徐冷の時間を含める
と約1時間程度の時間が必要とされる。
このようにして半導体材料が半導体層10としてセラミ
ック管に固定された状態で、電極のリード線31.31
を取付体60にスポット溶接すると共に、コイルヒータ
ー40をセラミック管の筒内部を通すようにして取付体
60にスポット溶接する。
ック管に固定された状態で、電極のリード線31.31
を取付体60にスポット溶接すると共に、コイルヒータ
ー40をセラミック管の筒内部を通すようにして取付体
60にスポット溶接する。
次いで前記粉体状の触媒材料を、バインダーとしてアル
ミナゾルを加えてペースト状とし、セラミック管に固定
された半導体層lOの外周面に塗布する。
ミナゾルを加えてペースト状とし、セラミック管に固定
された半導体層lOの外周面に塗布する。
その後、取付体60に固定したコイルヒーター40によ
って採熱乾燥させ、最終的な到達温度が350〜400
℃の状態で1〜7日間、触媒のエージングを行ない、触
媒層11を形成する。
って採熱乾燥させ、最終的な到達温度が350〜400
℃の状態で1〜7日間、触媒のエージングを行ない、触
媒層11を形成する。
エージングによって特性が安定した後に、カバー50を
かぶせて完成品となる。
かぶせて完成品となる。
また1層式のガスセンサーについては、第4図に示した
ように、第1図のガスセンサーにおける半導体層10と
触媒層11とが一体になっているものである。
ように、第1図のガスセンサーにおける半導体層10と
触媒層11とが一体になっているものである。
またその製造は、
まず最初に、
酸化インジウム 83重量%、コバルトを2
重量%イオン交換したゼオライト17重量%。
重量%イオン交換したゼオライト17重量%。
を混合する。
更にこのような混合物に、その全体重量に対してガラス
粉末を5重量%混合し、更にこの全体に対して10重量
%のセルロースを添加する。
粉末を5重量%混合し、更にこの全体に対して10重量
%のセルロースを添加する。
次にこのようにして調整された混合物に、水を200重
量%程度加えた後、ミルで混合し、ペースト状にしてあ
らかじめ用意しておく。
量%程度加えた後、ミルで混合し、ペースト状にしてあ
らかじめ用意しておく。
一方、外径が1.5φ、内径が1.2φ程度で、かつ長
さが4騰l程度のセラミック基材20としてのセラミッ
ク管を用意する。このセラミック管は、熱衝撃に強い管
、例えばアルミナ、シリカ等を含有したムライト管等が
好ましい。
さが4騰l程度のセラミック基材20としてのセラミッ
ク管を用意する。このセラミック管は、熱衝撃に強い管
、例えばアルミナ、シリカ等を含有したムライト管等が
好ましい。
次にこのセラミック管の外周面に、その両端からセラミ
ック管の表面が隠れる程度に金ペーストを塗布する。こ
の金ペーストは、2つの電極30.30とするためのも
ので、セラミック管の中央部分で0.5〜1m層の間隙
を有するように塗布するものである。
ック管の表面が隠れる程度に金ペーストを塗布する。こ
の金ペーストは、2つの電極30.30とするためのも
ので、セラミック管の中央部分で0.5〜1m層の間隙
を有するように塗布するものである。
この金ペーストの塗布が終了した後は、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行ない、
電極30.30とする。
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行ない、
電極30.30とする。
次いで、2つの電極30.30各々に、線径が80終璽
程度のリード線31.31を位置させ、そのリード線3
1.31部分に金ペーストを塗布して、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行なって
固定する。
程度のリード線31.31を位置させ、そのリード線3
1.31部分に金ペーストを塗布して、850〜900
℃の温度で、10〜20分間、乾燥及び焼付を行なって
固定する。
このリード線31.31は、白金合金1例えばロジウム
によって硬度を増した白金ロジウム等が望ましい。
によって硬度を増した白金ロジウム等が望ましい。
その後、電極30.30の形成部分の外周面及び円電極
30.30の間隙部分であるセラミック間の外周部分に
、前記半導体材料と触媒材料とを混合したペーストを塗
布し、800℃の温度で30分間加熱して、−層型のガ
ス感応!12を形成する。この加熱は、ガス感応層12
の破損を防止するために、徐熱、徐冷を行なうために、
徐熱、徐冷のための時間を含めると約1時間程度の時間
が必要とされる。
30.30の間隙部分であるセラミック間の外周部分に
、前記半導体材料と触媒材料とを混合したペーストを塗
布し、800℃の温度で30分間加熱して、−層型のガ
ス感応!12を形成する。この加熱は、ガス感応層12
の破損を防止するために、徐熱、徐冷を行なうために、
徐熱、徐冷のための時間を含めると約1時間程度の時間
が必要とされる。
次いで、コイルヒーター40をセラミック管の筒内部を
通すようにして取付体60にスポット溶接する。
通すようにして取付体60にスポット溶接する。
その後、取付体60に固定したコイルヒーター40によ
って徐熱し、最終的な到達温度が350〜400℃の状
態で1〜7日間、ガス感応層12の乾燥と共にエージン
グを行なう。
って徐熱し、最終的な到達温度が350〜400℃の状
態で1〜7日間、ガス感応層12の乾燥と共にエージン
グを行なう。
エージングによって特性が安定した後に、カバー50を
かぶせて完成品となる。
かぶせて完成品となる。
更にこのような実施例によるセンサーの特性について、
実験結果に基づいて説明する。
実験結果に基づいて説明する。
第5図は、ヒーター電圧とメチルメルカプタンlppm
の環境におけるガスセンサーの感度との関係を示したも
のである。ここでガスセンサー感度は、ガスが存在しな
い状態での出力とガスが存在する状態での出力の比であ
るR air / Rgasの値で示しである。
の環境におけるガスセンサーの感度との関係を示したも
のである。ここでガスセンサー感度は、ガスが存在しな
い状態での出力とガスが存在する状態での出力の比であ
るR air / Rgasの値で示しである。
この結果からも、本発明におけるセンサーの感度が特に
低電圧の状態で優れていることがわかる。
低電圧の状態で優れていることがわかる。
また第6図は、メチルメルカプタンが存在しない状態か
ら11分間00−1ppの雰囲気とし、更にその後11
分間1’ppmの雰囲気とした場合の、従来製品との比
較を示したものである。またここで従来製品として比較
対象としたのは、イオン交換せずに、単に混合しただけ
で形成したガスセンサーである。
ら11分間00−1ppの雰囲気とし、更にその後11
分間1’ppmの雰囲気とした場合の、従来製品との比
較を示したものである。またここで従来製品として比較
対象としたのは、イオン交換せずに、単に混合しただけ
で形成したガスセンサーである。
この結果から、本実施例と従来製品とは、次の表のよう
になることが確認できた。
になることが確認できた。
またこの表で本実施例と従来製品との比較は、測定回路
における出力電圧によって行なったものである。
における出力電圧によって行なったものである。
このように従来製品は、付加前に比べて出力電圧の増加
が少ないだけでなく、増加に要する時間、即ち立ち上り
に要する時間が多く、測定の迅速性がないものである。
が少ないだけでなく、増加に要する時間、即ち立ち上り
に要する時間が多く、測定の迅速性がないものである。
次に本願発明において、触媒材料として、コバルト、ニ
ッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上を用いるに至
った実験結果について説明する。
ッケル、鉄、銅及び金からなる群の1以上を用いるに至
った実験結果について説明する。
実験の段階では、酸化インジウム、ゼオライトのイオン
交換体を固定し、その上で、イオン交換のための元素と
して、コバルト、ニッケル、鉄、銅、金、セリウム、ユ
ーロピウム、クロム、バリウム等と種々の物質を用いて
実験した結果、次に示す表のようになった。
交換体を固定し、その上で、イオン交換のための元素と
して、コバルト、ニッケル、鉄、銅、金、セリウム、ユ
ーロピウム、クロム、バリウム等と種々の物質を用いて
実験した結果、次に示す表のようになった。
なおこの実験では、1層型ガスセンサーで実験を行なっ
たものであり、ゼオライト中の触媒元素の添加割合が2
重量%で、かつそのイオン交換体の重量が17重量%と
なっており、更に検出ガスとしてメチルメルカプタンl
ppmを用い、ヒータ電圧として3.Ovを印加して実
験を行なった。
たものであり、ゼオライト中の触媒元素の添加割合が2
重量%で、かつそのイオン交換体の重量が17重量%と
なっており、更に検出ガスとしてメチルメルカプタンl
ppmを用い、ヒータ電圧として3.Ovを印加して実
験を行なった。
このような実験の結果、触媒元素としては。
コバルト、ニッケル、鉄、銅あるいは金が適しているこ
とが確認でき、かつ詳細な説明は省略するがそれらから
なる群の2以上を混合しても同様の結果が得られること
が確認できた。
とが確認でき、かつ詳細な説明は省略するがそれらから
なる群の2以上を混合しても同様の結果が得られること
が確認できた。
またこのようなコバルト、ニッケル、鉄、銅、金からな
る群の1以上の物質は、ゼオライト中に0.1重量%以
下、あるいは10重量%以上とすると、いずれもガス感
度が低下してしまうことも実験の結果確認できた。また
このようなコバルト、ニッケル、鉄、銅及び金からなる
群の1以上でイオン交換したゼオライトを、4〜45重
量%としたのは、4重量%以下では抵抗値が小さくて実
用的でなく、かつ45重量%以上では抵抗値が大き過ぎ
て実用的でないことによる。
る群の1以上の物質は、ゼオライト中に0.1重量%以
下、あるいは10重量%以上とすると、いずれもガス感
度が低下してしまうことも実験の結果確認できた。また
このようなコバルト、ニッケル、鉄、銅及び金からなる
群の1以上でイオン交換したゼオライトを、4〜45重
量%としたのは、4重量%以下では抵抗値が小さくて実
用的でなく、かつ45重量%以上では抵抗値が大き過ぎ
て実用的でないことによる。
なお以上の説明において、セラミック基材20の形状を
円筒状として説明したが、板状等の他の形状に形成して
も、同様の効果がある。
円筒状として説明したが、板状等の他の形状に形成して
も、同様の効果がある。
[発明の効果1
以上説明したように1本発明は、悪臭を高感度で検知す
るガスセンサーを提供することによって、悪臭を発する
ような場所等の換気の制御等を容易にしたものである。
るガスセンサーを提供することによって、悪臭を発する
ような場所等の換気の制御等を容易にしたものである。
図面は本発明の一実施例及び諸特性を示すためのもので
、第1図は斜視図、第2図は取付体に取付けた状態での
正面図、第3図は検出回路図、第4図は他の実施例を示
す斜視図、第5図及び第6図は特性曲線である。 10・・・半導体層 11・・・触媒層12・・
・ガス感応層 20・・・セラミック基材30・・
・電極 31・・・リード線40・・・コ
イルヒーター 50・・・カバー60・・・取付体 代理人 弁理士 黒1)薄遇 代理人 弁理士 渡澄 −平 第1図 第2図 第4図
、第1図は斜視図、第2図は取付体に取付けた状態での
正面図、第3図は検出回路図、第4図は他の実施例を示
す斜視図、第5図及び第6図は特性曲線である。 10・・・半導体層 11・・・触媒層12・・
・ガス感応層 20・・・セラミック基材30・・
・電極 31・・・リード線40・・・コ
イルヒーター 50・・・カバー60・・・取付体 代理人 弁理士 黒1)薄遇 代理人 弁理士 渡澄 −平 第1図 第2図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、セラミック基材の表面に距離をおいて2つの電極を
固定すると共に、この電極上面及び電極間に相当する基
材の上面にガス感応層を設けたガスセンサーにおいて、 触媒材料を、コバルト、ニッケル、鉄、銅及び金からな
る群の1以上でイオン交換したゼオライトを4〜45重
量%添加して形成したことを特徴とするセンサー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33307487A JPH01174956A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | ガスセンサー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33307487A JPH01174956A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | ガスセンサー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01174956A true JPH01174956A (ja) | 1989-07-11 |
Family
ID=18261974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33307487A Pending JPH01174956A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | ガスセンサー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01174956A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01227951A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-12 | Figaro Eng Inc | Coセンサ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6390752A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-21 | Yazaki Corp | 半導体式ガスセンサー |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP33307487A patent/JPH01174956A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6390752A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-21 | Yazaki Corp | 半導体式ガスセンサー |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01227951A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-12 | Figaro Eng Inc | Coセンサ |
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