JPS6363064B2 - - Google Patents

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JPS6363064B2
JPS6363064B2 JP3876281A JP3876281A JPS6363064B2 JP S6363064 B2 JPS6363064 B2 JP S6363064B2 JP 3876281 A JP3876281 A JP 3876281A JP 3876281 A JP3876281 A JP 3876281A JP S6363064 B2 JPS6363064 B2 JP S6363064B2
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid

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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明はガス検知素子に係り、特に低濃度の還
元性ガス及びフレオンガスの検出に適したガス検
知素子に関する。 従来から金属酸化物半導体表面にガスが接触す
ると、金属酸化物半導体の表面の比抵抗が変化す
ることを利用したガス検知素子が知られている。
例えばN型半導体性を示すZnO、SnO2、Fe2O3
に還元性ガスが接触すると抵抗値は減少し、また
酸化性ガスが接触すると、抵抗値は増加する。ま
たP型半導体性を示す金属酸化物半導体において
は抵抗値の増減が逆の関係を示す。 前記のごとき金属酸化物半導体において、各種
ガスとの反応性すなわち選択性は、半導体表面温
度、表面電子レベルの構造、気孔率および気孔の
大きさ等により決まるが、一般には金属酸化物半
導体のみではガス検知素子として感度が小さく、
選択性も充分とは言えない。そこでPt、Pd等の
貴金属を触媒として用いることによりガス検出感
度を向上させる試みがなされている。すなわち、
貴金属を直接金属酸化物半導体に添加したり、あ
るいは、貴金属担持触媒層を設けるといつた方法
がとられている。これら貴金属を触媒として用い
た場合、無触媒の場合と比較してCO、iso−
C4H10等の還元性ガスに対するガス検出感度は向
上するものの低濃度ガスに対しては必ずしも充分
な感度が得られなかつた。また、所謂フレオンガ
スに対する検出感度は極めて低かつた。 本発明は上記の点に鑑み一酸化炭素、水素、炭
火水素等の還元性ガス及び一般に冷媒として使用
されるフレオンガスに対し優れた感度を有し、特
に低濃度ガスの検出に適したガス検知素子を提供
する事を目的とする。 即ち、本発明のガス検知素子は、 1対の電極を備えたガス感応体を有するガス検
知素子において、 前記ガス感応体が金属酸化物半導体から成り、
該ガス感応体の表面に、Al2O3、SiO2又はSiO2
Al2O3からなる担体にバナジウム、並びにロジウ
ム、パラジウム、白金及び金から選ばれた少なく
とも1種の貴金属を担持させてなる触媒の層が設
けられていることを特徴とするものである。 本発明の好ましい態様としては、触媒における
バナジウムの担持量が担体に対し0.1〜20重量%
に更に好ましくは0.5〜15重量%で、貴金属の担
持量がバナジウムに対するg原子比で表して0.05
〜0.5更に好ましくは0.1〜0.4であるものがあげら
れる。SiO2、Al2O3、SiO2−Al2O3等の担体に対
するバナジウム及び貴金属が上記範囲にあると
き、特に顕著な触媒作用が得られ、特に高感度の
ガス検知素子となる。 本発明において触媒の担体成分として使用する
ものは、Al2O3、SiO2、又はSiO2−Al2O3である
が、SiO2あるいはAl2O3を主成分とするケイソウ
土、シリカゲル、活性アルミナなども包含される
ものである。 本発明のガス検知素子は、CO、iso−C4H10
の還元性ガスに対する検出感度が高く、従来のも
のにくらべかなり低濃度の場合でも使用すること
ができる。また、従来のガス検知素子はフオレン
ガスに対してはほとんど検出能力がなかつたが、
本発明の素子はフレオンガスに対しても高感度の
検出能力を示す。 本発明のガス検出感度向上の効果は、触媒の担
体であるAl2O3、SiO2及びSiO2−Al2O3と、これ
に担持されたバナジウム及び貴金属との共存から
もたらされるものである。Pt、Pd等に代表され
る貴金属が還元性ガスの検出感度を増大させる働
きを有していることは既に知られているところで
あるが、これをバナジウムを併用したことにより
両者の相乗的作用がもたらされ、還元性ガスに対
する検出感度が更に増大した上に、検出困難であ
つたフレオンガスの検出も容易になつたのであ
る。本発明素子に用いられる上記触媒の触媒機構
は必ずしも明らかではないが、バナジウムイオン
の被酸化物による還元と気相酸素による再酸化に
よる酸化還元サイクルが大きく関与しているもの
と考えられる。 本発明において金属酸化物半導体からなるガス
感応体としては、還元性ガスとの接触により抵抗
値の変化するものであれば使用でき、例えばN型
半導体性を示すZnO、SnO2、Fe2O3等、さらにこ
れにSb2O3、Cr2O3等を微量添加した組成系等が
挙げられる。 第1図及び第2図は、本発明の一実施例を表し
たもので、第1図は円筒状素子の断面図であり、
第2図は該素子をピン足上に取付けた状態の斜視
図である。以下、図面に即して詳細に説明する。 このガス検知素子は、筒状絶縁基体1の外周面
上に1対の電極2が設けられ、該絶縁基体1及び
電極2を被覆するように金属酸化物半導体から成
る層3が設けられ、該層がガス感応体として機能
する。更に、該金属酸化物半導体層3の表面に触
媒層4が設けられている。これら、金属酸化物半
導体層3及び触媒層4は多孔質の状態にある。前
記のように構成されたガス検知素子は例えば第2
図に斜視的に示す如くピン足上に他と接触しない
状態に取付け、保持される。なお図中5は電極用
リード線を、6は絶縁板を、7はヒーターを示
す。ヒーターは、ガス感応体を約450℃前後に加
熱できるようになつており、素子の感度を向上さ
せるために設けられたものである。 本発明に係るガス検知素子は例えば以下の如く
製造される。 使用する触媒を調製するために、まず、バナジ
ウムおよび貴金属元素の標準溶液を作成する。例
えば、メタバナジン酸アンモニウムにH2Oを加
え、加熱状態でシユウ酸を加えることにより、所
定濃度のバナジン酸アンモニウム水溶液を作成す
る。また、貴金属元素に関しては、例えば、
H2PtCl6・6H2O、HAuCl4・4H2O、RhCl3
3H2O、PdCl2の水溶液を作成する。バナジウム
標準溶液と、使用する貴金属元素の標準溶液を所
定の割合で混合して、バナジウムと貴金属の混合
溶液を調製する。次に、Al2O3、SiO2およびSiO2
−Al2O3から使用する担体を選び、所定量秤量
し、所定量のバナジウム−貴金属元素系混合溶液
に浸漬し一昼夜放置する。放置後、蒸発乾固し、
乳鉢で粉砕し粉体として、石英ルツボに入れ電気
炉で300〜600℃で焼成することにより目的とする
触媒が得られる。 ガス感応体の形成には、使用する金属酸化物半
導体にメチルセルロース等のバインダーを適当量
加えてボールミル等で一定時間混合してペースト
とする。これを第1図に示す如く、例えば金ペー
ストを塗布、焼成して一対の電極2を予め設けた
絶縁基体1の表面に塗布し乾燥後600〜1000℃で
焼成する。しかる後、先に述べたバナジウム及び
貴金属を担持させた触媒を適当な溶媒を用いて泥
漿とし、ガス感応体3表面に塗布乾燥し、さらに
300〜600℃で焼成し本発明のガス検知素子を得
る。 なお、触媒の泥漿を調整する際に、水やアルコ
ールなどの溶媒のほかに、メチルセルロース、エ
チルセルロース、酢酸セルロースなどの有機バイ
ンダーを添加すると、形成される触媒層の機械的
強度が高まり、耐衝撃性なども向上する。 上記の如く製造した第1図の如き構造のガス検
知素子は第2図の如く取り付けて使用される。 以下、本発明の実施例をあげて具体的に説明す
る。 第1図及び第2図に示したごときガス検知素子
を製造し、濃度500ppmの各種ガスに対する感度
(約450℃)をRo/Rgとして測定した。ここで、
Roは被測定ガスを含まない空気中において素子
が示した抵抗値であり、Rgは各種ガスを500ppm
含む空気中において素子が示した抵抗値である。
使用した検知素子は金属酸化物半導体として
98ZnO−2Sb2O3組成系(重量比)のものを用い、
触媒層としてはAl2O3、SiO2又はSiO2−Al2O3
バナジウムと各種貴金属を担持させたものであ
る。各実施の構成及び測定結果を表1に示した。 比較のために、触媒層として貴金属をAl2O3
SiO2又はSiO2−Al2O3に担持させたものを設けた
ほかは、前記実施例と同様の構成からなるガス検
知素子を用い、各種ガスを2000ppm含む空気中に
おける感度を測定した。その結果を表2に示す。
【表】
【表】 表1、2より明らかなように、本発明に係る表
子の各種還元性ガス濃度500ppmに対する感度は、
貴金属のみを用いた素子の各種還元性ガス濃度
2000ppmに対する感度と同程度あるいはそれ以上
の感度を有することがわかる。 また、本発明に係る素子はフレオンと称される
ハロゲン化炭化水素系ガスにも高感度を示す。フ
レオンは部分ハロゲン化物(CHClF2、CHF3
CHCL2F等)と完全ハロゲン化物(CCl2F2
CCl3F、CClF3等)に大別でき、部分ハロゲン化
物はC−H結合を有し、還元ガスと同様の挙動を
示すが、完全ハロゲン化物はC−H結合を有して
おらず必らずしも還元性ガスとしての挙動を示さ
ないため従来のガス検知素子では感度が極めて小
さく、検知しにくいガスの一種とされていた。し
かしながら本発明に係る素子は表1にCHClF2
CCl2F2を代表させ、その感度を示したように、
表中に示した還元性ガスと同様に高感度で検出し
得ることが明らかである。 以上の説明のように、本発明に係る素子は還元
性ガスおよびフレオンガスに関して低濃度におけ
る感度特性に優れ、かつ高温安定性が良く、前記
ガスの低濃度用ガス検知素子として適していると
言える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るガス検知素子の構造例を
示す断面図、第2図は本発明素子を用いた装置例
を示す斜視図。 1……筒状絶縁体、2……電極、3……ガス感
応体、4……触媒層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 1対の電極を備えたガス感応体を有するガス
    検知素子において、 前記ガス感応体が金属酸化物半導体から成り、
    該ガス感応体の表面に、Al2O3、SiO2又はSiO2
    Al2O3からなる担体にバナジウム並びにロジウ
    ム、パラジウム、白金及び金から選ばれた少なく
    とも1種の貴金属を担持させてなる触媒の層が設
    けられていることを特徴とするガス検知素子。 2 特許請求の範囲第1項の記載において、触媒
    におけるバナジウムの担持量が担体に対して0.1
    〜20重量%であり、貴金属の担持量がバナジウム
    に対するg原子比で表して0.05〜0.5であるガス
    検知素子。
JP3876281A 1981-03-19 1981-03-19 Gas detecting element Granted JPS57154041A (en)

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JPS59108947A (ja) * 1982-12-13 1984-06-23 Fuigaro Giken Kk Coガス検出素子
JPS607351A (ja) * 1983-06-27 1985-01-16 Toshiba Corp 感ガス素子の製造方法

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