JPH0117234B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0117234B2 JPH0117234B2 JP1286081A JP1286081A JPH0117234B2 JP H0117234 B2 JPH0117234 B2 JP H0117234B2 JP 1286081 A JP1286081 A JP 1286081A JP 1286081 A JP1286081 A JP 1286081A JP H0117234 B2 JPH0117234 B2 JP H0117234B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass bulb
- solution
- halogen lamp
- thin film
- titanium dioxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 29
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 25
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 20
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- -1 titanate ester Chemical class 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-phenyl-1,3-thiazole-5-sulfonyl chloride Chemical compound S1C(S(Cl)(=O)=O)=C(C)N=C1C1=CC=CC=C1 NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N Omeprazole sulfide Chemical compound N=1C2=CC(OC)=CC=C2NC=1SCC1=NC=C(C)C(OC)=C1C XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ODPUKHWKHYKMRK-UHFFFAOYSA-N cerium;nitric acid Chemical compound [Ce].O[N+]([O-])=O ODPUKHWKHYKMRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Description
本発明は球状の部分を有するガラスバルブを用
いたハロゲンランプの製造方法に関するものであ
る。 映写機用、スタジオ用、一般照明用、投光用等
のハロゲンランプは、しばしば第１図に示すよう
に、ほぼ球状の部分を有するガラスバルブ１が用
いられている。ガラスバルブ１の材料としては、
石英やホウケイ酸ガラス等が使用されている。バ
ルブ１内には、フイラメント２があり、雰囲気３
として不活性ガスと共に微量のヨウ素、臭素、塩
素、フツ素等のハロゲン物質が封入されている。
電極４は図のような口金あるいはピン状等のもの
が使用されている。 ハロゲンランプのフイラメント２から放射され
るエネルギー強度スペクトルは、第２図に示す如
く、可視光のみならず赤外領域迄広くおよんでお
り、その最大値は赤外領域にある。映写機用、ス
タジオ用、投光用等の照明用光源としては、必要
な光は可視光部だけであり、ガラスバルブ１の外
表面に赤外線カツト・フイルタを設けることが
種々試みられている。これによりハロゲンランプ
からの赤外線の熱線による発熱を抑え、もつて映
写機、スタジオ用機器、照明器具等の小型、軽量
化がなされる。しかしながら、その一部に球状部
を有するガラスバルブの場合は、この表面に均質
な赤外線カツト・フイルタを形成することは容易
ではなかつた。 そこで、本発明は球状の部分を有するガラスバ
ルブの表面に均質な赤外線カツト・フイルタを設
けることが可能なハロゲンランプの製造方法を提
供するものである。 以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説
明する。本発明は第１図に示すような、ハロゲン
ランプにおいて球状の部分６と円柱状部７とを有
するガラスバルブ１の外側にデイツピング法によ
り赤外カツト・フイルタを形成するものである。 高屈折率の誘電体として二酸化チタン、低屈折
率の誘電体として二酸化シリコンを用いる場合に
ついて述べる。二酸化チタンの薄膜形成のため金
属酸化物としてチタン酸エステル、例えばチタン
テトラブトキシド（Ti（OC4H9）4）を3.4％含むエ
タノールと酢酸エチルの溶液（エタノールと酢酸
エチルの比は９：１）を第１の溶液として用い
る。二酸化シリコンの薄膜形成のためには金属酸
化物としてケイ酸エステルを用いる。ケイ酸エス
テルとしては、例えばケイ酸エチル（Si
（OC2H5）4）を5.9％含む。メタノールとエタノー
ルを主成分とし、それに酢酸メチルと酢酸エチル
を加えた溶液を第２の溶液として用いる。 デイツピング方法の概要は第３図に示す如くで
ある。即ち、ハロゲンランプ全体を溶液５にデイ
ツプし、次いで、図示しない引上げ装置で引上速
度を制御して引上げるものである。二酸化チタン
膜厚と引上速度の関係は第４図に示す如くであ
り、二酸化シリコンの膜厚と引上速度の関係は第
５図に示す如くである。いずれも引上速度を大き
くすると、膜厚は増加する。 ハロゲンランプバルブ１の外側に赤外線カツ
ト・フイルタを形成する方法は以下の如くであ
る。図示しない引上げ装置に口金４を固定する。
この場合、口金４の部分が下側に向くように固定
する。これは口金４を上に向けると、溶液から引
上げる際にハロゲンランプバルブ１の球状の部分
６での溶液の切れが悪く、この部分だけ膜厚の制
御が出来ず、赤外線カツト・フイルタが形成出来
ないためである。まず第１層目の二酸化チタンの
薄膜形成のために、ハロゲンランプを第１の溶液
にデイツプする。次にハロゲンランプを第１の溶
液より引上げる。このとき、ガラスバルブ１全体
に等しい膜厚が形成されるように、上部の球状の
部分６はゆつくりと引上げ、円柱状部７はそれよ
り速く、引上げる。第６図に二酸化チタンの薄膜
形成のための第１の溶液中での引上速度とガラス
バルブの位置の関係を示す。第１層目の二酸化チ
タン形成のためには第６図の曲線１１に示すガラ
スバルブの形成に応じて引上速度を可変したスケ
ジユールで引上げる。なお、上記引上速度はガラ
スバルブ１の球状の部分６の曲率、外径、形状等
の曲面の形態や所望膜厚によつてそれぞれ選べば
よい。 以上の工程によりガラスバルブ１全体に均一な
二酸化チタンの薄膜が形成される。次に例えば大
気中で250℃の熱処理を施こす。すると安定した
強固な二酸化チタンの薄膜が形成される。その膜
厚は約980Åである。次に前記二酸化チタンの薄
膜が形成されたハロゲンランプを第２の溶液中に
デイツプする。以下、二酸化チタンの薄膜を形成
した場合と同様の方法によりハロゲンランプの形
状に応じ引上速度を可変に制御して引上げること
により二酸化チタンの薄膜の上に二酸化シリコン
の薄膜を形成する。二酸化シリコンの場合の引上
げの際にも、ガラスバルブ１全体に等しい膜厚が
形成されるように、上部の球状の部分６はゆつく
りと引上げ、円柱状部７はやや速く引き上げる。
第７図に二酸化シリコンの薄膜形成のための第２
の溶液中での引上速度とガラスバルブの場所の関
係を示す。第２層目の二酸化シリコン形成のため
には第７図の曲線１３に示す引上速度を可変した
スケジユールで引上げる。次に例えば大気中250
℃の熱処理を施す。すると、前記二酸化チタンの
薄膜の上に安定な強固な二酸化シリコンの薄膜が
形成される。その膜厚は約1520Åである。 以下同様の方法により二酸化チタンの薄膜と二
酸化シリコンの薄膜の交互層を形成する。尚第３
層目の二酸化チタン薄膜形成のための引上速度ス
ケジユールは第６図曲線１２の如くであり、第４
層目の二酸化シリコン薄膜形成のための引上速度
スケジユールは第７図曲線１４の如くである。各
層の必要な膜厚は、赤外光をカツト・オフする半
値波長が約700nｍであることから決められる。
半値波長700nｍに対応する中心波長λ0を設定し、
nd＝λ0／４の条件より、各層の膜厚ｄが決定され る。ここでｎは屈折率である。今、二酸化チタン
の屈折率を2.3とすれば、二酸化チタンの薄膜は
980Åであり、二酸化シリコンの屈折率を1.46と
すれば、二酸化シリコンの薄膜は1390Åである。 表１に本実施例の各層の物質の構成と膜厚の関
係を示す。また第８図には、本実施例により得ら
れた赤外線カツト・フイルタ付きのガラスバルブ
の分光透過率曲線を示す。
いたハロゲンランプの製造方法に関するものであ
る。 映写機用、スタジオ用、一般照明用、投光用等
のハロゲンランプは、しばしば第１図に示すよう
に、ほぼ球状の部分を有するガラスバルブ１が用
いられている。ガラスバルブ１の材料としては、
石英やホウケイ酸ガラス等が使用されている。バ
ルブ１内には、フイラメント２があり、雰囲気３
として不活性ガスと共に微量のヨウ素、臭素、塩
素、フツ素等のハロゲン物質が封入されている。
電極４は図のような口金あるいはピン状等のもの
が使用されている。 ハロゲンランプのフイラメント２から放射され
るエネルギー強度スペクトルは、第２図に示す如
く、可視光のみならず赤外領域迄広くおよんでお
り、その最大値は赤外領域にある。映写機用、ス
タジオ用、投光用等の照明用光源としては、必要
な光は可視光部だけであり、ガラスバルブ１の外
表面に赤外線カツト・フイルタを設けることが
種々試みられている。これによりハロゲンランプ
からの赤外線の熱線による発熱を抑え、もつて映
写機、スタジオ用機器、照明器具等の小型、軽量
化がなされる。しかしながら、その一部に球状部
を有するガラスバルブの場合は、この表面に均質
な赤外線カツト・フイルタを形成することは容易
ではなかつた。 そこで、本発明は球状の部分を有するガラスバ
ルブの表面に均質な赤外線カツト・フイルタを設
けることが可能なハロゲンランプの製造方法を提
供するものである。 以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説
明する。本発明は第１図に示すような、ハロゲン
ランプにおいて球状の部分６と円柱状部７とを有
するガラスバルブ１の外側にデイツピング法によ
り赤外カツト・フイルタを形成するものである。 高屈折率の誘電体として二酸化チタン、低屈折
率の誘電体として二酸化シリコンを用いる場合に
ついて述べる。二酸化チタンの薄膜形成のため金
属酸化物としてチタン酸エステル、例えばチタン
テトラブトキシド（Ti（OC4H9）4）を3.4％含むエ
タノールと酢酸エチルの溶液（エタノールと酢酸
エチルの比は９：１）を第１の溶液として用い
る。二酸化シリコンの薄膜形成のためには金属酸
化物としてケイ酸エステルを用いる。ケイ酸エス
テルとしては、例えばケイ酸エチル（Si
（OC2H5）4）を5.9％含む。メタノールとエタノー
ルを主成分とし、それに酢酸メチルと酢酸エチル
を加えた溶液を第２の溶液として用いる。 デイツピング方法の概要は第３図に示す如くで
ある。即ち、ハロゲンランプ全体を溶液５にデイ
ツプし、次いで、図示しない引上げ装置で引上速
度を制御して引上げるものである。二酸化チタン
膜厚と引上速度の関係は第４図に示す如くであ
り、二酸化シリコンの膜厚と引上速度の関係は第
５図に示す如くである。いずれも引上速度を大き
くすると、膜厚は増加する。 ハロゲンランプバルブ１の外側に赤外線カツ
ト・フイルタを形成する方法は以下の如くであ
る。図示しない引上げ装置に口金４を固定する。
この場合、口金４の部分が下側に向くように固定
する。これは口金４を上に向けると、溶液から引
上げる際にハロゲンランプバルブ１の球状の部分
６での溶液の切れが悪く、この部分だけ膜厚の制
御が出来ず、赤外線カツト・フイルタが形成出来
ないためである。まず第１層目の二酸化チタンの
薄膜形成のために、ハロゲンランプを第１の溶液
にデイツプする。次にハロゲンランプを第１の溶
液より引上げる。このとき、ガラスバルブ１全体
に等しい膜厚が形成されるように、上部の球状の
部分６はゆつくりと引上げ、円柱状部７はそれよ
り速く、引上げる。第６図に二酸化チタンの薄膜
形成のための第１の溶液中での引上速度とガラス
バルブの位置の関係を示す。第１層目の二酸化チ
タン形成のためには第６図の曲線１１に示すガラ
スバルブの形成に応じて引上速度を可変したスケ
ジユールで引上げる。なお、上記引上速度はガラ
スバルブ１の球状の部分６の曲率、外径、形状等
の曲面の形態や所望膜厚によつてそれぞれ選べば
よい。 以上の工程によりガラスバルブ１全体に均一な
二酸化チタンの薄膜が形成される。次に例えば大
気中で250℃の熱処理を施こす。すると安定した
強固な二酸化チタンの薄膜が形成される。その膜
厚は約980Åである。次に前記二酸化チタンの薄
膜が形成されたハロゲンランプを第２の溶液中に
デイツプする。以下、二酸化チタンの薄膜を形成
した場合と同様の方法によりハロゲンランプの形
状に応じ引上速度を可変に制御して引上げること
により二酸化チタンの薄膜の上に二酸化シリコン
の薄膜を形成する。二酸化シリコンの場合の引上
げの際にも、ガラスバルブ１全体に等しい膜厚が
形成されるように、上部の球状の部分６はゆつく
りと引上げ、円柱状部７はやや速く引き上げる。
第７図に二酸化シリコンの薄膜形成のための第２
の溶液中での引上速度とガラスバルブの場所の関
係を示す。第２層目の二酸化シリコン形成のため
には第７図の曲線１３に示す引上速度を可変した
スケジユールで引上げる。次に例えば大気中250
℃の熱処理を施す。すると、前記二酸化チタンの
薄膜の上に安定な強固な二酸化シリコンの薄膜が
形成される。その膜厚は約1520Åである。 以下同様の方法により二酸化チタンの薄膜と二
酸化シリコンの薄膜の交互層を形成する。尚第３
層目の二酸化チタン薄膜形成のための引上速度ス
ケジユールは第６図曲線１２の如くであり、第４
層目の二酸化シリコン薄膜形成のための引上速度
スケジユールは第７図曲線１４の如くである。各
層の必要な膜厚は、赤外光をカツト・オフする半
値波長が約700nｍであることから決められる。
半値波長700nｍに対応する中心波長λ0を設定し、
nd＝λ0／４の条件より、各層の膜厚ｄが決定され る。ここでｎは屈折率である。今、二酸化チタン
の屈折率を2.3とすれば、二酸化チタンの薄膜は
980Åであり、二酸化シリコンの屈折率を1.46と
すれば、二酸化シリコンの薄膜は1390Åである。 表１に本実施例の各層の物質の構成と膜厚の関
係を示す。また第８図には、本実施例により得ら
れた赤外線カツト・フイルタ付きのガラスバルブ
の分光透過率曲線を示す。
【表】
また、第９図の曲線１５には、本実施例の赤外
線カツト・フイルタを有するハロゲンランプの放
射エネルギー強度の分光分布の測定結果を示す。
参考として赤外線カツト・フイルタを具備しない
ハロゲンランプの場合を曲線１６に示す。第９図
より、本発明によるハロゲンランプは、大幅に赤
外領域の光を遮光していることがわかる。 以上本実施例として、高屈折率の誘電体とし
て、二酸化チタンを用いた場合について詳述した
が、二酸化チタンの代りに他の高屈折率の誘電
体、例えば五酸化タンタルや酸化セリウムを用い
てもよい。五酸化タンタルの薄膜形成のための溶
液の溶質としては、塩化タンタル（Tacl5）を用
いれば良く、酸化セリウムの薄膜形成のための溶
液の溶質としては、硝酸セリウム（Ce（NO3）3）
を用いればよい。 また本実施例では、高屈折の誘電体と低屈折率
の誘電体のみを用いた赤外線カツト・フイルタの
場合につき詳述したが、中間の屈折率の誘電体を
所定の層に用いても赤外線カツト・フイルタが形
成されることも、もちろんのことである。例え
ば、ガラス管５側の第１層として二酸化チタン１
０の代りに酸化インジウム（In2O3）酸化イツト
リウム（Y2O3）あるいは酸化ジルコニウム
（ZrO2）等を用いてもよい。例えば、酸化イツト
リウムの薄膜形成のための溶液の溶質としては硝
酸イツトリウム〔Ｙ（NO3）3〕を用いれば良く、
酸化インジウムの薄膜形成のための溶液の溶質と
しては硝酸インジウム〔In（NO3）3〕を用いれば
よい。 さらに、ガラスバルブを構成するほぼ球状の部
分は適宜な曲率からなる曲面を有していればよ
い。さらにまた、この部分にランプの排気封縅部
があつてもよく、この封縅部はあまり特性に影響
がないので被膜が形成されていなくてもさしつか
えない。 本発明によればハロゲンランプを構成するほぼ
球状の部分と円柱状部とを有するガラスバルブの
表面に均質な赤外線カツト・フイルタを形成する
ことができる。
線カツト・フイルタを有するハロゲンランプの放
射エネルギー強度の分光分布の測定結果を示す。
参考として赤外線カツト・フイルタを具備しない
ハロゲンランプの場合を曲線１６に示す。第９図
より、本発明によるハロゲンランプは、大幅に赤
外領域の光を遮光していることがわかる。 以上本実施例として、高屈折率の誘電体とし
て、二酸化チタンを用いた場合について詳述した
が、二酸化チタンの代りに他の高屈折率の誘電
体、例えば五酸化タンタルや酸化セリウムを用い
てもよい。五酸化タンタルの薄膜形成のための溶
液の溶質としては、塩化タンタル（Tacl5）を用
いれば良く、酸化セリウムの薄膜形成のための溶
液の溶質としては、硝酸セリウム（Ce（NO3）3）
を用いればよい。 また本実施例では、高屈折の誘電体と低屈折率
の誘電体のみを用いた赤外線カツト・フイルタの
場合につき詳述したが、中間の屈折率の誘電体を
所定の層に用いても赤外線カツト・フイルタが形
成されることも、もちろんのことである。例え
ば、ガラス管５側の第１層として二酸化チタン１
０の代りに酸化インジウム（In2O3）酸化イツト
リウム（Y2O3）あるいは酸化ジルコニウム
（ZrO2）等を用いてもよい。例えば、酸化イツト
リウムの薄膜形成のための溶液の溶質としては硝
酸イツトリウム〔Ｙ（NO3）3〕を用いれば良く、
酸化インジウムの薄膜形成のための溶液の溶質と
しては硝酸インジウム〔In（NO3）3〕を用いれば
よい。 さらに、ガラスバルブを構成するほぼ球状の部
分は適宜な曲率からなる曲面を有していればよ
い。さらにまた、この部分にランプの排気封縅部
があつてもよく、この封縅部はあまり特性に影響
がないので被膜が形成されていなくてもさしつか
えない。 本発明によればハロゲンランプを構成するほぼ
球状の部分と円柱状部とを有するガラスバルブの
表面に均質な赤外線カツト・フイルタを形成する
ことができる。
第１図は球状の部分を有するバルブを用いたハ
ロゲンランプ、第２図はハロゲンランプからの放
射エネルギー強度の分光分布、第３図は本発明に
よる製造方法の概念図、第４図及び第５図は、そ
れぞれ二酸化チタン及び二酸化シリコンの薄膜形
成のためのデイツプ液の引上速度と膜厚の関係の
一例、第６図及び第７図は、それぞれ本発明によ
る二酸化チタン及び二酸化シリコン形成のための
デイツプ液からの引上速度とガラス外囲器の位置
の関係、第８図は本発明による赤外線カツト・フ
イルタの分光透過率曲線、第９図は従来のハロゲ
ンランプと本発明によるハロゲンランプの放射エ
ネルギー強度の分光分布の比較を示す図である。 １……ガラスバルブ、２……フイラメント、３
……ハロゲンランプ中の雰囲気、４……口金、５
……デイツプ溶液、６……ガラスバルブの球状の
部分、７……ガラスバルブの円柱状部。
ロゲンランプ、第２図はハロゲンランプからの放
射エネルギー強度の分光分布、第３図は本発明に
よる製造方法の概念図、第４図及び第５図は、そ
れぞれ二酸化チタン及び二酸化シリコンの薄膜形
成のためのデイツプ液の引上速度と膜厚の関係の
一例、第６図及び第７図は、それぞれ本発明によ
る二酸化チタン及び二酸化シリコン形成のための
デイツプ液からの引上速度とガラス外囲器の位置
の関係、第８図は本発明による赤外線カツト・フ
イルタの分光透過率曲線、第９図は従来のハロゲ
ンランプと本発明によるハロゲンランプの放射エ
ネルギー強度の分光分布の比較を示す図である。 １……ガラスバルブ、２……フイラメント、３
……ハロゲンランプ中の雰囲気、４……口金、５
……デイツプ溶液、６……ガラスバルブの球状の
部分、７……ガラスバルブの円柱状部。
Claims (1)
- １ ほぼ球状の部分と円柱状部とを備えたガラス
バルブの外表面に赤外線カツト・フイルタを形成
する工程を有するハロゲンランプの製造方法にお
いて、上記工程は、誘電体薄膜を形成するための
金属化合物を含む溶液中に上記ガラスバルブをデ
イツプする工程と、上記溶液より引上げる工程
と、上記溶液より引上げたガラス外囲器を熱処理
する工程とからなり、前記ガラスバルブを前記溶
液より引上げる工程は、前記球状の部分を上にし
て引上げるとともに、前記円柱状部の引上げ速度
は前記球状の部分のそれよりも速いことを特徴と
するハロゲンランプの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1286081A JPS57128455A (en) | 1981-02-02 | 1981-02-02 | Halogen lamp and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1286081A JPS57128455A (en) | 1981-02-02 | 1981-02-02 | Halogen lamp and method of producing same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57128455A JPS57128455A (en) | 1982-08-10 |
| JPH0117234B2 true JPH0117234B2 (ja) | 1989-03-29 |
Family
ID=11817159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1286081A Granted JPS57128455A (en) | 1981-02-02 | 1981-02-02 | Halogen lamp and method of producing same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57128455A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5958753A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | 株式会社東芝 | 白熱電球 |
| JP2623071B2 (ja) * | 1994-05-23 | 1997-06-25 | 東芝ライテック株式会社 | 管 球 |
-
1981
- 1981-02-02 JP JP1286081A patent/JPS57128455A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57128455A (en) | 1982-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4701663A (en) | Lamp having interference film | |
| US4006378A (en) | Optical coating with selectable transmittance characteristics and method of making the same | |
| DE2514494A1 (de) | Gluehlampe mit infrarotfilter | |
| HU202672B (en) | High pressure discharge lamp with small electric power consumption | |
| US4985275A (en) | Method for producing a fused silica envelope for discharge lamp | |
| US4734614A (en) | Electric lamp provided with an interference filter | |
| JPH0612663B2 (ja) | 白熱電球 | |
| US7396271B2 (en) | Method of making a plasma lamp | |
| US5146130A (en) | Incandescent lamp having good color rendering properties at a high color temperature | |
| JPH0117234B2 (ja) | ||
| US3162785A (en) | Projection lamp | |
| JP2003051284A (ja) | 蛍光ランプおよび照明器具 | |
| JPS62131463A (ja) | 高圧放電灯 | |
| JPH085833A (ja) | 光干渉体、管球およびハロゲン電球ならびに照明装置 | |
| JPS5823161A (ja) | 白熱電球 | |
| JPH0151023B2 (ja) | ||
| JPH0719567B2 (ja) | 発光管用石英 | |
| JPH0117232B2 (ja) | ||
| JPH0569259B2 (ja) | ||
| JPH0259585B2 (ja) | ||
| JPH05144416A (ja) | メタルハライドランプ | |
| JP2793267B2 (ja) | 一端封止型白熱電球の製造方法 | |
| JPH0721998A (ja) | 白熱電球 | |
| JPH03192649A (ja) | 白熱電球 | |
| JPH0258735B2 (ja) |