JPH0117099B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0117099B2 JPH0117099B2 JP55085965A JP8596580A JPH0117099B2 JP H0117099 B2 JPH0117099 B2 JP H0117099B2 JP 55085965 A JP55085965 A JP 55085965A JP 8596580 A JP8596580 A JP 8596580A JP H0117099 B2 JPH0117099 B2 JP H0117099B2
- Authority
- JP
- Japan
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- rays
- sample
- slit
- angle
- ray
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
Ｘ線回折装置においては、一般にピンホールコ
リメータを用いて試料上の一点に細い平行Ｘ線を
照射し、回折Ｘ線検出器の前面に小さいアパーチ
ヤを配置した光学系、あるいは試料面に発散Ｘ線
を照射して、回折Ｘ線をその検出器の前面に設け
たスリツトに集束させる光学系等が用いられる。
しかしこれらは試料面が所定の位置から多少でも
偏倚すると、回折Ｘ線が前述のアパーチヤまたは
スリツトを通らなくなるから、回折角または回折
線強度の測定に誤差を生ずる。従つて、歪測定の
ように試料の位置を正確に規制することが困難な
場合は、試料面に平行Ｘ線を照射して、該試料と
回折Ｘ線の検出器との間にソーラースリツトを配
置した光学系が用いられる。本発明はこのような
光学系のＸ線回折装置において、回折Ｘ線の検出
効率を向上しようとするものである。
リメータを用いて試料上の一点に細い平行Ｘ線を
照射し、回折Ｘ線検出器の前面に小さいアパーチ
ヤを配置した光学系、あるいは試料面に発散Ｘ線
を照射して、回折Ｘ線をその検出器の前面に設け
たスリツトに集束させる光学系等が用いられる。
しかしこれらは試料面が所定の位置から多少でも
偏倚すると、回折Ｘ線が前述のアパーチヤまたは
スリツトを通らなくなるから、回折角または回折
線強度の測定に誤差を生ずる。従つて、歪測定の
ように試料の位置を正確に規制することが困難な
場合は、試料面に平行Ｘ線を照射して、該試料と
回折Ｘ線の検出器との間にソーラースリツトを配
置した光学系が用いられる。本発明はこのような
光学系のＸ線回折装置において、回折Ｘ線の検出
効率を向上しようとするものである。
第１図は本発明実施例の構成を示した図で、Ｘ
線源１からソーラースリツト２を介して試料３の
表面に一定の波長の平行Ｘ線x1を照射し、回折Ｘ
線x2の検出器４と上記試料３との間にソーラース
リツト５を配置してある。従つてソーラースリツ
ト５の幅ｗを充分大きくしておくと、試料が３′
のように移動した場合でも回折Ｘ線x′2を検出す
ることができる。第２図は上記ソーラースリツト
５の一部を拡大した図で、該スリツトは少なくと
も３枚の薄板６，６…を適当な間隔ｓをもつて平
行に配列したものであるが、本発明はこの薄板６
を前記一定波長のＸ線が適当な臨界角以下の角度
で入射すると全反射を生ずるような材料で形成す
るか、または該薄板に表面処理を施してある。
線源１からソーラースリツト２を介して試料３の
表面に一定の波長の平行Ｘ線x1を照射し、回折Ｘ
線x2の検出器４と上記試料３との間にソーラース
リツト５を配置してある。従つてソーラースリツ
ト５の幅ｗを充分大きくしておくと、試料が３′
のように移動した場合でも回折Ｘ線x′2を検出す
ることができる。第２図は上記ソーラースリツト
５の一部を拡大した図で、該スリツトは少なくと
も３枚の薄板６，６…を適当な間隔ｓをもつて平
行に配列したものであるが、本発明はこの薄板６
を前記一定波長のＸ線が適当な臨界角以下の角度
で入射すると全反射を生ずるような材料で形成す
るか、または該薄板に表面処理を施してある。
上述の装置において、ソーラースリツト５の長
さをｌ、ｘ線の開き角を2αnとすると αn＝ｓ／ｌ の関係がある。このソーラースリツトに、その軸
とαの角度をなす方向から強度ｉ（α）のＸ線が
入射する場合に、薄板６，６…が全反射を生じな
いものとすると、該スリツトを通過するＸ線の強
度i′（α）は i′（α）＝ｉ（α）×（１−2α／φ） 但しααn であつて、この関係は第３図ａのような二等辺三
角形で表わされる。しかし前述のように薄板６，
６…によつてＸ線に全反射を生ずる場合は、その
臨界角をαrとするとき、軸に対する傾きが−αrか
ら＋αrまでの角度をもつたＸ線は該薄板に吸収さ
れることなく、ソーラースリツトを通過する。従
つて臨界角αrが前記開き角の２分の１のαnより、
小さい場合、等しい場合および大きい場合に応じ
て、それぞれソーラースリツトを通過するＸ線の
強度i′（α）は第３図ｂ，ｃ，ｄのように表わさ
れる。
さをｌ、ｘ線の開き角を2αnとすると αn＝ｓ／ｌ の関係がある。このソーラースリツトに、その軸
とαの角度をなす方向から強度ｉ（α）のＸ線が
入射する場合に、薄板６，６…が全反射を生じな
いものとすると、該スリツトを通過するＸ線の強
度i′（α）は i′（α）＝ｉ（α）×（１−2α／φ） 但しααn であつて、この関係は第３図ａのような二等辺三
角形で表わされる。しかし前述のように薄板６，
６…によつてＸ線に全反射を生ずる場合は、その
臨界角をαrとするとき、軸に対する傾きが−αrか
ら＋αrまでの角度をもつたＸ線は該薄板に吸収さ
れることなく、ソーラースリツトを通過する。従
つて臨界角αrが前記開き角の２分の１のαnより、
小さい場合、等しい場合および大きい場合に応じ
て、それぞれソーラースリツトを通過するＸ線の
強度i′（α）は第３図ｂ，ｃ，ｄのように表わさ
れる。
また第１図において、試料３または３′で回折
したＸ線の強度と回折角2θとの関係を第４図ａと
し、例えば第３図ｃの特性をもつたソーラースリ
ツト５および検出器４を第４図ｂの位置に設定し
てピークＡの強度を測定する場合に、ピークＢの
影響を受けないためには、ピークＡ，Ｂの間の角
度をΔ2θ、ピークＢの広がりをβとするとき、 αn（2Δθ−β） の条件を必要とする。従つて第４図のようにan
を（2Δθ−β）としたソーラースリツトを用いる
と、検出器４は第４図ｃに斜線を附した部分の面
積に相当した出力を送出する。これに対してソー
ラースリツトが第３図ａのように全反射を生じな
いものとすると、この場合も上記スリツトの開き
角に対する条件は同一であるから、その特性が第
４図ｂに破線で示したように表わされて、検出器
４は同図ｃの破線で囲まれる面積の出力を送出す
る。このように本発明の装置は、ピーク強度の測
定に際して角度分解能を損うことなく、検出器の
出力を２倍近くまで増大することができる。
したＸ線の強度と回折角2θとの関係を第４図ａと
し、例えば第３図ｃの特性をもつたソーラースリ
ツト５および検出器４を第４図ｂの位置に設定し
てピークＡの強度を測定する場合に、ピークＢの
影響を受けないためには、ピークＡ，Ｂの間の角
度をΔ2θ、ピークＢの広がりをβとするとき、 αn（2Δθ−β） の条件を必要とする。従つて第４図のようにan
を（2Δθ−β）としたソーラースリツトを用いる
と、検出器４は第４図ｃに斜線を附した部分の面
積に相当した出力を送出する。これに対してソー
ラースリツトが第３図ａのように全反射を生じな
いものとすると、この場合も上記スリツトの開き
角に対する条件は同一であるから、その特性が第
４図ｂに破線で示したように表わされて、検出器
４は同図ｃの破線で囲まれる面積の出力を送出す
る。このように本発明の装置は、ピーク強度の測
定に際して角度分解能を損うことなく、検出器の
出力を２倍近くまで増大することができる。
なお第３図ｂのように全反射の臨界角αrをソー
ラースリツトの開き角の２分の１のαnより小さ
くすると、前述の検出器出力が減少し、また同図
ｄのようにαrをαnより大きくすると、角度分解
能が低下する。従つて臨界角αrは、これを開き角
の２分の１のαnとほぼ同等に選定することが最
も有利である。
ラースリツトの開き角の２分の１のαnより小さ
くすると、前述の検出器出力が減少し、また同図
ｄのようにαrをαnより大きくすると、角度分解
能が低下する。従つて臨界角αrは、これを開き角
の２分の１のαnとほぼ同等に選定することが最
も有利である。
第１図は本発明実施例の構成を示した図、第２
図は第１図の一部を拡大した図、第３図は第１
図、第２図におけるソーラースリツトの特性を示
した線図、また第４図は本発明の装置の作用を説
明する線図である。なお図において、１はＸ線
源、２，５はソーラースリツト、３，３′は試料、
４はＸ線検出器である。
図は第１図の一部を拡大した図、第３図は第１
図、第２図におけるソーラースリツトの特性を示
した線図、また第４図は本発明の装置の作用を説
明する線図である。なお図において、１はＸ線
源、２，５はソーラースリツト、３，３′は試料、
４はＸ線検出器である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一定の波長の平行Ｘ線を照射される試料と該
試料で回折したＸ線の検出器との間に上記Ｘ線に
対して全反射作用を有する少なくとも３枚の薄板
を平行に配列したソーラースリツトを配置したこ
とを特徴とするＸ線回折装置。 ２ 全反射の臨界角をソーラースリツトの開き角
のほぼ２分の１程度に選定した特許請求の範囲第
１項のＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8596580A JPS5712354A (en) | 1980-06-26 | 1980-06-26 | Apparatus for x-ray diffraction |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8596580A JPS5712354A (en) | 1980-06-26 | 1980-06-26 | Apparatus for x-ray diffraction |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5712354A JPS5712354A (en) | 1982-01-22 |
| JPH0117099B2 true JPH0117099B2 (ja) | 1989-03-29 |
Family
ID=13873442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8596580A Granted JPS5712354A (en) | 1980-06-26 | 1980-06-26 | Apparatus for x-ray diffraction |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5712354A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS612100A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-08 | 科学技術庁無機材質研究所長 | Ｘ線発散角度制限器 |
| JP2007304063A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Shimadzu Corp | ソーラスリット |
| JP6199282B2 (ja) * | 2012-03-31 | 2017-09-20 | 真人 佐々木 | 放射線計測装置及び放射線計測システム |
-
1980
- 1980-06-26 JP JP8596580A patent/JPS5712354A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5712354A (en) | 1982-01-22 |
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