JPH01170575A - はんだ付け装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、噴流式はんだ槽およびはんだ面静止形はんだ
槽のいずれにも適用可能のはんだ付け装置に関するもの
である。

（従来の技術） 例えば、噴流式はんだ槽において、はんだウェーブの方
向がワーク（プリント配線基板・・以下、基板と呼ぶ）
の遂行方向と対向する場合、そのウェーブ上のはんだ酸
化膜を基板が拾い上げ、はんだ付けにおいて問題となる
ブリッジ等のはんだ付け不良を起こすことがある。

従来、この種の現象を防止するものとして、特公昭６２
−５０２２０号公報に示されるように、霧状にスプレー
されたフラックスを基板に吹付け、フラックスの酸化物
還元作用により、前記酸化膜を除去するようにしたもの
がある。

（ｆｌ明が解決しようとする問題点） しかし、このスプレー式には次のような種々の問題点ガ
ある。

先ず、加熱すると蒸発しやすい溶剤を主成分の一つとす
るフラックスは加温しにくいため、フラックスを加温し
た後に霧を作ることは現実的には困難であり、フラック
スを溶融はんだと同一温度まで加熱することなく、低温
状態で使用せざるを得ないが、その低温フラックスの影
響で、基板や溶融はｌυだが急冷されて、つらら状に固
化する問題がある。

また、フラックス中の溶剤が気化する際に、はんだ付け
中の基板や溶融はんだから気化熱を奪うため、熱全不足
になりやすく、このフラックスの気化熱により、基板か
らｌ１１１１１１２シようとする溶融はんだが冷え、つ
らら等が生ずる不十分な成形となる問題がある。

さらに、霧状のフラックスは、はんだウェーブ上に膜を
形成するのではなく、液滴状になり易く、これは、基板
に付着すると、まだらなフラックス残漬となり、基板の
汚染が激しい等の問題がある。

さらには、はんだ槽の周囲や基板の上面が霧状フラック
スによって汚染される問題もある。

本発明の目的は、これらの問題点を解決することにあり
、つらら等のはんだ付け不良を防止し、フラックスによ
る汚染をなくすものである。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段） 本発明は、溶融はｌυだ面２７にワークＷを接触させて
はんだ付けを行なうはんだ付け装置において、溶融はん
だ面２７に対し一部が接触される場所に取付けられ溶融
はんだ面２７に薄いフラックス膜５１を供給するフラッ
クス含有マット２５と、このフラックス含有マット２５
に７ラツクスを供給するフラックス供給部４２とを有す
るものである。

（作用） 本発明は、フラックス含有マット２５の一部から溶融は
んだ面２７上に液滴を作らぬように膜状にフラックスが
供給される。この溶融はんだ面２７上に形成されるフラ
ックス膜５１は高温の溶融はんだによって十分に加熱さ
れ、フラックス中の溶剤が気化されるので、フラックス
中に含まれているロジンが溶融はんだ面２７に沿って基
板や部品等のワークＷとの接触部分まで拡大され、溶融
はんだ而２７がこのロジンによって覆われる。したがっ
て、このロジンの酸化物還元作用によって、溶融はんだ
面２７上の酸化膜が除去されるとともに、その酸化膜の
発生が抑えられる。

〈実施例） 以下、本発明を図面に示される実施例を参照して詳細に
説明する。

第１図に示されるように、はんだ槽１１の内部に水平に
仕切板１２が設けられ、この仕切板１２の溶融はんだ圧
送口１３からノズル１４が立設されている。

このノズル１４は、上部がワーク搬送方向と対向する方
向に彎曲され、さらに連続的に噴流はんだ案内板部１５
が水平に設けられている。

このノズル１４の上端部１６にて、第２図に示されるよ
うに、両側のノズル側板２１問に受は板２２が固定され
、この受は板２２の上側にスペーサ２３を介して押え板
２４が一体的に設けられ、この受は板２２と押え板２４
との間にフラックス含有マット２５が挟持され、このフ
ラックス含有マット２５の先端部２５ａが、ノズル１４
から噴流された溶融はんだ面２７に接触されている。こ
のフラックス含有マット２５は、耐熱性および吸水性を
有するグラスウール等を使用する。

このマット２５の先端部２５ａの上側には、前記押え板
２４の先端から下方に折曲形成された抑圧部３１が係合
されている。そして、前記押え板２４の中央部から挿入
して受は板２２の雌ねじ部３２に螺合された押えねじ３
３によって押え板２４を締付けることによって、この押
え板２４の先端の抑圧部３１が下方に移動調整され、フ
ラックス含有マット２５の先端部２Ｓａが押下げ調整さ
れる。この調整により、マットの先端部２５ａを溶融は
んだ面２７に挿入するように接触させる。

また、前記押え板２４にはフラックス供給穴４１が設け
られ、この穴４１の上側にフラックス供給部としてのフ
ラックス供給ニードル４２の先端間口４３が臨んでいる
。このニードル４２は、前記押え板２４の基端上に固定
されたホルダ４４に一体に［されている。このフラック
ス供給ニードル４２の基端のチューブ接続部４５にフラ
ックス供給チューブ４６の下端が接続され、このチュー
ブ４６の上端が、はんだ槽１１より上方に設けられたフ
ラックスタンク４７の底部に接続されている。フラック
ス供給チューブ４６の中間部には、流量調整バルブ４８
が介設されている。

そうして、前記仕切板１２の一部に設けられた図示しな
いポンプによって仕切板１２の上側から下側に圧送され
た溶融はんだがノズル１４内に加圧供給され、このノズ
ル１４よりワークとしてのプリント配線基板Ｗ１の進行
方向とは逆の方向に噴流され、基板Ｗ１の下面に接触し
、その下面に電子部品Ｗ２のリードをはんだ付けする。

溶融はんだ面２７には、フラックス含有マット２５の先
端部２５ａからしみ出したフラックスによってフラック
ス膜５１が形成されている。このフラックス膜５１は、
噴流はんだの流れにのってワーク搬入側に拡大し、高温
の溶融はんだによって十分に加熱されている。そして、
この加熱により、フラックス中の溶剤が気化されるとと
もに、フラックス中に含まれているロジンが溶融はんだ
面２７を覆い、このロジンの酸化物還元作用によって、
溶融はんだ面２７上の酸化膜が除去されるとともに、そ
の酸化膜の発生が抑えられる。

フラックスタンク４７からチューブ４６に流れ落ちたフ
ラックスＦは、バルブ４８によって流量調整され、ニー
ドル４２の先端開口４３から押え板２４の穴４１を経て
マット２５に滴下される。このようにしてマット２５は
、常にフラックスの供給を受け、そのフラックスを溶融
はんだ面２７に供給している。

以上の第１図および第２図に示される実茄例は、基板進
行方向に対しはんだウェーブの流れが対向する場合であ
り、このはんだウェーブに乗せてフラックスを基板側に
供給するようにしているので、最も有効である。

しかし、フラックスは、溶融はんだの流れ方向の影響を
受けることがあっても、溶融はんだ面上で非常に良く伸
び広がる性質を持っているので、第３図に示されるよう
に、前記フラックス含有マット２５を、はんだ面静止形
はんだ槽６１の溶融は／νだ面６２上で使用することも
可能であり、静止形はんだ槽６１のワーク搬入側縁部お
よびワーク搬出側縁部に前記受は板および押え板等を介
してフラックス含有マット２５を取付けて使用すれば、
酸化物除去装置が不要となる。

同様の理由から、第４図に示される噴流式はんだ槽７０
のように、基板進行方向と同一方向へのはんだウェーブ
７１の流れがある場合においても、そのはんだウェーブ
７１が流れの遅いものであれば本発明が活用でき、ノズ
ル７２から基板進行側に突出されたフィン７３の先端部
に、前記受は板および押え板等を介して、フラックス含
有マット２５を、はんだ流れと対向するように取付ける
。そうして、前記マット２５からしみ出したフラックス
が、はんだウェーブ７１の流れに逆らって基板との接触
部分まで伸び広がる。

なお、以上の各実施例において、フラックス膜の移動に
より、はんだの流れそのものが阻害されることはない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、フラックス含有マットから溶融はんだ
面に薄いフラックス膜を穏やかに供給するようにしたか
ら、フラックスを溶融はんだ面にてｈ０熱しながらワー
クまで供給でき、フラックスの冷却作用による「つらら
」等のはんだ付け不良が発生しない。さらに、フラック
ス含有マットからしみ出したフラックスが溶融はんだ面
上に均一に伸び広がり、極薄のフラックス膜を形成する
ので、まだらなフラックス残渣によりワークを汚染する
問題がない。さらには、はんだ槽の周囲や基板の上面が
霧状フラックスによって汚染される問題もない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のはんだ付け装置の断面図、第２図はそ
の要部の拡大断面図、第３図は本発明の他の実施例を示
す断面図、第４図はさらに別の実施例を示す断面図であ
る。 Ｗ・・ワーク、Ｆ・・フラックス、２５・・フラックス
含有マット、２７・・溶融はんだ面、４２・・フラック
ス供給部としてのニードル、５１・・フラックス膜。 ｎΔ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）溶融はんだ面にワークを接触させてはんだ付けを
   行なうはんだ付け装置において、溶融はんだ面に対し一
   部が接触される場所に取付けられ溶融はんだ面に薄いフ
   ラックス膜を供給するフラックス含有マットと、このフ
   ラックス含有マットにフラックスを供給するフラックス
   供給部とを有することを特徴とするはんだ付け装置。