JPH01169433A - 液晶ディスプレイパネル - Google Patents
液晶ディスプレイパネルInfo
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- JPH01169433A JPH01169433A JP62327152A JP32715287A JPH01169433A JP H01169433 A JPH01169433 A JP H01169433A JP 62327152 A JP62327152 A JP 62327152A JP 32715287 A JP32715287 A JP 32715287A JP H01169433 A JPH01169433 A JP H01169433A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶ディスプレイパネルに係り、特に画素の開
口率を低下させることなく、付加容量を増大できる付加
容量の配置法に関する。
口率を低下させることなく、付加容量を増大できる付加
容量の配置法に関する。
あるゲート線に対応する画素と次段のゲート線の間に付
加容量を設けることに関する従来技術としては、特開昭
59−119329号、特開昭60−87393号、特
開昭62−152157号などが挙げられる。
加容量を設けることに関する従来技術としては、特開昭
59−119329号、特開昭60−87393号、特
開昭62−152157号などが挙げられる。
第2図は従来技術に係る付加容量を具備したアクティブ
マトリックス液晶ディスプレイパネルの一画素部を示す
図であり、(a)はその平面図。
マトリックス液晶ディスプレイパネルの一画素部を示す
図であり、(a)はその平面図。
(b)、(Q)は等価回路図である。一画素を選択する
薄膜トランジスタ(以下TPTと略する)4は、第2図
(b)に示すように、ゲート線2、ゲート絶縁膜11、
a−8i : H(i) ff18、a−8i :H(
n”)層15.信号線1、ソース電極5、画素電極9よ
りなっている。また、付加容量7は第2図(a)に示す
ように画素電極9と次段のゲート線3とを重なり合わせ
て形成する。
薄膜トランジスタ(以下TPTと略する)4は、第2図
(b)に示すように、ゲート線2、ゲート絶縁膜11、
a−8i : H(i) ff18、a−8i :H(
n”)層15.信号線1、ソース電極5、画素電極9よ
りなっている。また、付加容量7は第2図(a)に示す
ように画素電極9と次段のゲート線3とを重なり合わせ
て形成する。
誘電体層は第2図(b)に示すように、ゲート絶縁膜1
1をそのまま使用する。ここで、13はゲート配線抵抗
を低減するための抵抗金属配線、12は保護膜である。
1をそのまま使用する。ここで、13はゲート配線抵抗
を低減するための抵抗金属配線、12は保護膜である。
付加容量7を設ける目的に関して以下に概説する。TP
Tにゲート線とソース電極5の重なり部分に起因する寄
生容量が存在するため、この寄生容量を介して、ゲート
線2の走査パルスが洩れ込み1画素電極9の電位VSを
変動させる。この洩れ込み電圧成分は通常、走査パルス
のデユーティ比が(1/ゲート線数)であることと、正
負方向に非対称なパルスであるため画素電位に直流成分
が加算された形となる。この直流成分は液晶パネルの焼
付きを生じさせたり、残像特性を劣化させる。従って、
付加容量7を介して次段のゲート線3から直流成分とは
逆極性のパルスを洩れ込ませて直流成分を相殺すること
が行なわれる。
Tにゲート線とソース電極5の重なり部分に起因する寄
生容量が存在するため、この寄生容量を介して、ゲート
線2の走査パルスが洩れ込み1画素電極9の電位VSを
変動させる。この洩れ込み電圧成分は通常、走査パルス
のデユーティ比が(1/ゲート線数)であることと、正
負方向に非対称なパルスであるため画素電位に直流成分
が加算された形となる。この直流成分は液晶パネルの焼
付きを生じさせたり、残像特性を劣化させる。従って、
付加容量7を介して次段のゲート線3から直流成分とは
逆極性のパルスを洩れ込ませて直流成分を相殺すること
が行なわれる。
また、TPTOFF抵抗が低下した場合に、画素電極9
と液晶を介して対向電極17とで形成される画素界i1
6が十分に大きくないと一旦TFT4を介して書き込ま
れた画素電位Vsが1次の書き込みまでの期間内に保持
できないという問題が発生する。これは液晶パネルでは
黒しずみ、白ヌケといった欠陥を引き起こす、この時、
付加容量7は画素容量16を増大させる効果があるので
、上記の問題が発生しにくくなる。
と液晶を介して対向電極17とで形成される画素界i1
6が十分に大きくないと一旦TFT4を介して書き込ま
れた画素電位Vsが1次の書き込みまでの期間内に保持
できないという問題が発生する。これは液晶パネルでは
黒しずみ、白ヌケといった欠陥を引き起こす、この時、
付加容量7は画素容量16を増大させる効果があるので
、上記の問題が発生しにくくなる。
以上述べた如く、付加容量を設置することは、TPTで
画素選択を行うアクティブマトリックス液晶パネルにお
いては、その画質向上のために有効な方法であることが
知られている。
画素選択を行うアクティブマトリックス液晶パネルにお
いては、その画質向上のために有効な方法であることが
知られている。
一方、液晶ディスプレイパネルをカラー化するためには
、赤、緑、青(以下それぞれR,G、Bと略す)の三色
の画素の配列方法が問題になる。
、赤、緑、青(以下それぞれR,G、Bと略す)の三色
の画素の配列方法が問題になる。
配列方法として、現在、第3図に示すような配列方法と
して、現在、第3図に示すような配列方法が提案されて
いる。テレビジョン学会技術報告ED904.IPDI
OL−7昭和60年11月14日)。第3図(a)は縦
ストライプと呼ばれる配列でR,G、Bの画素列が縦方
向に並んでおり、縦縞が目立ちやすいどう欠点がある。
して、現在、第3図に示すような配列方法が提案されて
いる。テレビジョン学会技術報告ED904.IPDI
OL−7昭和60年11月14日)。第3図(a)は縦
ストライプと呼ばれる配列でR,G、Bの画素列が縦方
向に並んでおり、縦縞が目立ちやすいどう欠点がある。
第3図図(b)は斜めモザイクと呼ばれる配列で、Rl
G、Hの画素列が斜め方向に並んでおり、斜め線が気に
なり、画像の輪郭が気になり、画像の輪郭部分がギザギ
ザに見える欠点がある。第3図(c)はスクエア(矩形
)配列と呼ばれる配列で1力ラー画素内にGが二点ある
ために全体に緑がかって見え、色バランスの点で難点が
ある。第3図(d)はトライアングル(三角)と呼ばれ
る配列で画素が対称になっているため色再現性が良く、
同じ画素数、画素密度で比較した場合、他の第3図(a
)、(b)、(C)と比較した場合、最も画質の点で優
れている配列である。
G、Hの画素列が斜め方向に並んでおり、斜め線が気に
なり、画像の輪郭が気になり、画像の輪郭部分がギザギ
ザに見える欠点がある。第3図(c)はスクエア(矩形
)配列と呼ばれる配列で1力ラー画素内にGが二点ある
ために全体に緑がかって見え、色バランスの点で難点が
ある。第3図(d)はトライアングル(三角)と呼ばれ
る配列で画素が対称になっているため色再現性が良く、
同じ画素数、画素密度で比較した場合、他の第3図(a
)、(b)、(C)と比較した場合、最も画質の点で優
れている配列である。
従って、液晶カラーテレビ用には第3図(d)のトライ
アングル配列が最も一般的に用いられる。
アングル配列が最も一般的に用いられる。
しかし、トライアングルの画素配列は、上記第3図(d
)に示すように、あるR、G、’B繰り返し画素行(奇
数行とする)と次のR,G、B繰り返し画素行(偶数行
)が1.5画素ピッチあるいは0.5画素ピッチずらし
た配列であるため、データ線あるいはゲート線のどちら
か一方が鍵の字状に0.5画素ピッチ分だけジグザグな
配線を行う必要がある。これに伴って、付加容量の設置
位置の選択にも制限が生じる。他の第3図(a)。
)に示すように、あるR、G、’B繰り返し画素行(奇
数行とする)と次のR,G、B繰り返し画素行(偶数行
)が1.5画素ピッチあるいは0.5画素ピッチずらし
た配列であるため、データ線あるいはゲート線のどちら
か一方が鍵の字状に0.5画素ピッチ分だけジグザグな
配線を行う必要がある。これに伴って、付加容量の設置
位置の選択にも制限が生じる。他の第3図(a)。
(b)、(C)の配列ではゲート線およびデータ線は画
素ピッチのずれがないために、配線はゲート線、データ
線とも直線で行うことができる。−〔発明が解決しよう
とする問題点〕 上記従来技術においては、液晶カラーテレビパネルで画
質上量も優れているとされるR、G、B三色の画素配置
法であるトライアングル配置を行った場合、付加容量の
設置法については配慮がされておらず、所望の付加容量
(通常0.3 p Fから39Fの範囲にある)を設置
すると一画素の開口率が低下し、パネルの輝度が低下す
るという問題があり、開口率を維持しようとすると単位
長当りの線密度が低下するという問題が生じて両立が困
難であった。
素ピッチのずれがないために、配線はゲート線、データ
線とも直線で行うことができる。−〔発明が解決しよう
とする問題点〕 上記従来技術においては、液晶カラーテレビパネルで画
質上量も優れているとされるR、G、B三色の画素配置
法であるトライアングル配置を行った場合、付加容量の
設置法については配慮がされておらず、所望の付加容量
(通常0.3 p Fから39Fの範囲にある)を設置
すると一画素の開口率が低下し、パネルの輝度が低下す
るという問題があり、開口率を維持しようとすると単位
長当りの線密度が低下するという問題が生じて両立が困
難であった。
第4図は上記のように従来例を示した図である。
第4図(a)において、i行のゲート線2とTF・Tを
介して接続する1画素は、i−1画素とi+1画素と半
ピツチゲート線方向にずれて設置されている。従って、
1画素に隣接するj列およびj+1列のデータ線1o、
1は1画素を迂回して配線がなされる。この時、データ
線10.1は半ピッチ分だけゲート線と平行して配線さ
れる部分が生じる。平行して走るデータ線10,1はゲ
ート線2,3とのクロストリーク容量を低減するために
、上下いずれか一方にずらして配線する必要がある。第
4図(a)に示す例で、j+1列のデータ線1とi行の
ゲート線2とで選択される(i、j+1)画素に着目す
る。第4図(a)のA4−A4’部分の断面図を第4図
(b)に示す。
介して接続する1画素は、i−1画素とi+1画素と半
ピツチゲート線方向にずれて設置されている。従って、
1画素に隣接するj列およびj+1列のデータ線1o、
1は1画素を迂回して配線がなされる。この時、データ
線10.1は半ピッチ分だけゲート線と平行して配線さ
れる部分が生じる。平行して走るデータ線10,1はゲ
ート線2,3とのクロストリーク容量を低減するために
、上下いずれか一方にずらして配線する必要がある。第
4図(a)に示す例で、j+1列のデータ線1とi行の
ゲート線2とで選択される(i、j+1)画素に着目す
る。第4図(a)のA4−A4’部分の断面図を第4図
(b)に示す。
第4図(b)の基本的な構成は第2図(b)の従来例と
同じ構成になっている。第4図(a)において、(xy
j+1)画素の画素電極9はi+1行ゲートllA3と
で付加容量7が構成されており。
同じ構成になっている。第4図(a)において、(xy
j+1)画素の画素電極9はi+1行ゲートllA3と
で付加容量7が構成されており。
j列データ#!10はi+1行ゲートllA3に対して
、(ll j+1)画素の付加容量7と同じ側に設置さ
れている。従って、付加容量7の@Wは(行方向の画素
ピッチ)−(行方向の画素ずれピッチ)以下の幅に制限
されてしまう。この場合、十分な大きさの付加容量7を
設けるためにはゲート線幅を広くとってLを大とするか
、一画素の開口部(画素電極9の内側の領域に設定する
場合が多い)を削って設置するしかない。従って、第4
図の構成方向を採用すると、開口率(従って一画素の暉
度)の低下が、或いは、ゲート線幅を広げるための、単
位長さ当りの走査線本数の減少を免れることは困難であ
る。
、(ll j+1)画素の付加容量7と同じ側に設置さ
れている。従って、付加容量7の@Wは(行方向の画素
ピッチ)−(行方向の画素ずれピッチ)以下の幅に制限
されてしまう。この場合、十分な大きさの付加容量7を
設けるためにはゲート線幅を広くとってLを大とするか
、一画素の開口部(画素電極9の内側の領域に設定する
場合が多い)を削って設置するしかない。従って、第4
図の構成方向を採用すると、開口率(従って一画素の暉
度)の低下が、或いは、ゲート線幅を広げるための、単
位長さ当りの走査線本数の減少を免れることは困難であ
る。
そこで、画素ピッチにずれを持つ画素配列を行っても上
記の如き問題点のない付加容量の配置法が必要となった
。
記の如き問題点のない付加容量の配置法が必要となった
。
上記目的は、前述のように画素ピッチにずれを持つよう
な画素配列であり、信号線がゲート線と平行かつ近接し
て配置されている平行配置部分を少なくとも有するよう
な液晶ディスプレイパネルにおいて、第1行のゲート線
と第(j+1)列の信号線に接続されるTETを介して
選択される第j1行第(j+1)列画素が第(i+1)
行のゲート線との重畳部分を有し、上記重畳部分が、上
記第(i+1)行のゲート線の、上記平行配置部分の信
号線とは反対側に形成されるような構成とすることによ
り達成される。
な画素配列であり、信号線がゲート線と平行かつ近接し
て配置されている平行配置部分を少なくとも有するよう
な液晶ディスプレイパネルにおいて、第1行のゲート線
と第(j+1)列の信号線に接続されるTETを介して
選択される第j1行第(j+1)列画素が第(i+1)
行のゲート線との重畳部分を有し、上記重畳部分が、上
記第(i+1)行のゲート線の、上記平行配置部分の信
号線とは反対側に形成されるような構成とすることによ
り達成される。
上記の構成により、上記平行かつ近接して配置される信
号線にさまたげられることなく重畳部分が形成できるの
で、画素の開口率を低下させることなく所望の付加容量
を確保できる。
号線にさまたげられることなく重畳部分が形成できるの
で、画素の開口率を低下させることなく所望の付加容量
を確保できる。
実施例1
第1図は本発明の一実施例の液晶ディスプレイパネル配
置を示したものである。第1図において、(a)は(1
rj+1)画素およびその周辺を示した平面図、(b)
は(a)におけるA1−A1’部分の断面図を示したも
のである。第1図(b)において−(:iy j”l)
画素のTFT部は1行ゲート線2上にゲート#1!Im
膜11.a−5i:H(i)パターンB v a−8x
: H(n ’ ) M ’ 5rj+1行データ線
1.ソース電極5により構成されている。透光性の画素
電極9はソース電極5と電気的に接続されている。付加
容量7は画素電極9とi+1行ゲート線3との間でゲー
ト絶蒜膜11を介在させて重なり合う部分を設けて構成
される。
置を示したものである。第1図において、(a)は(1
rj+1)画素およびその周辺を示した平面図、(b)
は(a)におけるA1−A1’部分の断面図を示したも
のである。第1図(b)において−(:iy j”l)
画素のTFT部は1行ゲート線2上にゲート#1!Im
膜11.a−5i:H(i)パターンB v a−8x
: H(n ’ ) M ’ 5rj+1行データ線
1.ソース電極5により構成されている。透光性の画素
電極9はソース電極5と電気的に接続されている。付加
容量7は画素電極9とi+1行ゲート線3との間でゲー
ト絶蒜膜11を介在させて重なり合う部分を設けて構成
される。
上記の構成がなされた後、画素部、配線部上に保護膜お
よび配向膜が形成される。第1図(a)において、(1
tj+1)画素に隣接するj列のデータ線10はi行の
ゲート線2を乗り越えてから1行ゲート線2と平行に配
線され、次にi+1行ゲート線3を乗り越えてからi+
1ゲート線3と平行に配線されている。従って、(i+
j+1)画素の付加容量7とこれに隣接するj列信号
線10のi+1行ゲート線3と平行な配線部分はi+1
行ゲート線3を基準にして互いに反対側に設置される位
置関係になっている(第1図(b)のi+1行ゲート線
3と画素電極9で構成される付加容量とj列信号線10
の位置関係)、i+1行のTPTはi行画素の付加容量
7とはi+1行ゲート線を基準にして互いに反対側に設
置されているため、お互いに阻害し合うことはない。
よび配向膜が形成される。第1図(a)において、(1
tj+1)画素に隣接するj列のデータ線10はi行の
ゲート線2を乗り越えてから1行ゲート線2と平行に配
線され、次にi+1行ゲート線3を乗り越えてからi+
1ゲート線3と平行に配線されている。従って、(i+
j+1)画素の付加容量7とこれに隣接するj列信号
線10のi+1行ゲート線3と平行な配線部分はi+1
行ゲート線3を基準にして互いに反対側に設置される位
置関係になっている(第1図(b)のi+1行ゲート線
3と画素電極9で構成される付加容量とj列信号線10
の位置関係)、i+1行のTPTはi行画素の付加容量
7とはi+1行ゲート線を基準にして互いに反対側に設
置されているため、お互いに阻害し合うことはない。
上記実施例の構成によれば、第1図(a)から明らかな
ように1画素部への張り出し長りを一定とした場合に、
付加容量7の幅Wは行方向の画素ピッチ以内にまで広げ
ることができる。第4図(a)の付加容量7の@Wと変
発明の第11図(a)の付加容量7の幅Wとの差は明瞭
である。
ように1画素部への張り出し長りを一定とした場合に、
付加容量7の幅Wは行方向の画素ピッチ以内にまで広げ
ることができる。第4図(a)の付加容量7の@Wと変
発明の第11図(a)の付加容量7の幅Wとの差は明瞭
である。
尚、本実施例の変形としては次のようなものが考えられ
る。
る。
カラー液晶デイスプレィは画素電極およびTPTが搭載
されたTPT基板と対向電極、17およびカラーフィル
タが搭載された対向電極基板が液晶を挾持するように貼
り合わされて構成されている。
されたTPT基板と対向電極、17およびカラーフィル
タが搭載された対向電極基板が液晶を挾持するように貼
り合わされて構成されている。
対向電極に設置されたR、G、Bのカラーフィルターは
それぞれTPT基板の一画素電極と対応するように配置
する。一画素のカラーフィルタパターンは一画素電極パ
ターンの内側に一定の幅だけ狭めたパターン(これが一
画素の開口部となる)にし、カラーフィルタ以外の部分
は遮光性の膜で埋めつくす(ブラックマトリックスと呼
ぶ)ことが普通である。従って、一画素電極9の周囲に
はブラックマトリックスの外側にはみ出さないで付加容
量7が設置できるスペースが生じる。第5図はその一例
を示したもので、本発明の応用例の一つである。第5図
(、)の平面図において、(i。
それぞれTPT基板の一画素電極と対応するように配置
する。一画素のカラーフィルタパターンは一画素電極パ
ターンの内側に一定の幅だけ狭めたパターン(これが一
画素の開口部となる)にし、カラーフィルタ以外の部分
は遮光性の膜で埋めつくす(ブラックマトリックスと呼
ぶ)ことが普通である。従って、一画素電極9の周囲に
はブラックマトリックスの外側にはみ出さないで付加容
量7が設置できるスペースが生じる。第5図はその一例
を示したもので、本発明の応用例の一つである。第5図
(、)の平面図において、(i。
j+1)画素の付加容量7は画素電極9とi+1行ゲー
ト線から丁字形に張り出した部分とで構成される。A5
−A、’部分の断面図はな第5図(b)に示すようにな
り、(i、j+1)画素の付加容量7と5列データ線1
0の位置関係の基本的な構成は第1図(b)と同じであ
る。この場合1画素パターンの形状が信号線方向に縦長
の形状の画素パターンとなっており、i+1行ゲート線
の張り出し部分がブラックマトリックスの範囲内にあれ
ば、開口率を損うことなく付加容量7を設置できる。仮
に、丁字形張り出し部がブラックマトリックスの外側に
はみ出したとしても、開口率の減少は最小限にすること
が可能である。
ト線から丁字形に張り出した部分とで構成される。A5
−A、’部分の断面図はな第5図(b)に示すようにな
り、(i、j+1)画素の付加容量7と5列データ線1
0の位置関係の基本的な構成は第1図(b)と同じであ
る。この場合1画素パターンの形状が信号線方向に縦長
の形状の画素パターンとなっており、i+1行ゲート線
の張り出し部分がブラックマトリックスの範囲内にあれ
ば、開口率を損うことなく付加容量7を設置できる。仮
に、丁字形張り出し部がブラックマトリックスの外側に
はみ出したとしても、開口率の減少は最小限にすること
が可能である。
また、第1図と第5図を組み合わせた第6図に示すよう
な配置法も本発明の有効な応用例の一例である。第6図
においては、(x、、)+1)画素の付加容量7はi+
1行ゲート線と丁字形に張り出した部分とを用いてL字
形に構成される。A6−A8′部分の断面図は第6図(
b)に示す如く、第5図(b)と同様の構成になってい
る。第6図(a)の7に示す付加容量の配置法は本発明
の第1図、第2図の配置法と比較して、開口率を損なう
ことなく十分な大きさの付加容量を設置する上で最も有
利な方法である。
な配置法も本発明の有効な応用例の一例である。第6図
においては、(x、、)+1)画素の付加容量7はi+
1行ゲート線と丁字形に張り出した部分とを用いてL字
形に構成される。A6−A8′部分の断面図は第6図(
b)に示す如く、第5図(b)と同様の構成になってい
る。第6図(a)の7に示す付加容量の配置法は本発明
の第1図、第2図の配置法と比較して、開口率を損なう
ことなく十分な大きさの付加容量を設置する上で最も有
利な方法である。
本発明の第1図(a)、第5図(a)、第6図(a)の
平面図において、上下方向に鏡面対称に反転させたパタ
ーンとし、ゲート線の走査順序をi+1からi方向に逆
転させた駆動方法を採用しても、また、左右方向に鏡面
対称に反転させたパターンとし、信号線の走査順序をj
+1からj方向に逆転させた駆動方法を採用しても本発
明は全く同様に適用することができる。
平面図において、上下方向に鏡面対称に反転させたパタ
ーンとし、ゲート線の走査順序をi+1からi方向に逆
転させた駆動方法を採用しても、また、左右方向に鏡面
対称に反転させたパターンとし、信号線の走査順序をj
+1からj方向に逆転させた駆動方法を採用しても本発
明は全く同様に適用することができる。
また5本発明はTPTの半導体層とa−8i:H膜ばか
りでなく、多結晶Siを用いても有効なことは言うまで
もないことである。
りでなく、多結晶Siを用いても有効なことは言うまで
もないことである。
以下、上記実施例の液晶ディスプレイパネルの製造方法
を説明する。
を説明する。
第1図に示すように、透光性ガラス基板14上にCr/
AI2二溜膜よりなるゲート配線パターン2.3を形成
する。この時、AΩは配線抵抗の低減するために用い、
通常、TPT形成部(a−3i :H(i) 8)およ
び付加容量7のパータンの下はAfiを除去し、Crの
みを残すように形成する。次に、プラズマCVD用によ
り5iN11゜a−8i :H(i)8、a−8i :
H(n”) 15層を連続的に形成する。ここで、Si
Nの膜厚3o00人、 a−8i :H(i)膜厚は2
000人、 a−8i :H(n”)膜厚は400人と
した。
AI2二溜膜よりなるゲート配線パターン2.3を形成
する。この時、AΩは配線抵抗の低減するために用い、
通常、TPT形成部(a−3i :H(i) 8)およ
び付加容量7のパータンの下はAfiを除去し、Crの
みを残すように形成する。次に、プラズマCVD用によ
り5iN11゜a−8i :H(i)8、a−8i :
H(n”) 15層を連続的に形成する。ここで、Si
Nの膜厚3o00人、 a−8i :H(i)膜厚は2
000人、 a−8i :H(n”)膜厚は400人と
した。
次に、ドライエツチング法により、a−3i:H(i)
、(n”)島状パターン8,15を形成する。次に、C
r / A Q信号線パターン1,10およびソース電
極5を第1図(a)、(b)に示すような位置関係に形
成する。次に、Cr / A Q信号線パターン1,1
0.およびソース電極5をマスクとして、TPTのチャ
ンネル上のa−8i:H(n’)層を除去する。次に、
ITO画素電極9パターンを第1図(a)、(b)に示
す位置関係に形成する。この時、ゲート線3と画素電極
9との重なり部分で形成される付加容あ7は0.59F
である0次に、画面郡全体を被覆するようSiN保護膜
を形成し、TPT基板とする。
、(n”)島状パターン8,15を形成する。次に、C
r / A Q信号線パターン1,10およびソース電
極5を第1図(a)、(b)に示すような位置関係に形
成する。次に、Cr / A Q信号線パターン1,1
0.およびソース電極5をマスクとして、TPTのチャ
ンネル上のa−8i:H(n’)層を除去する。次に、
ITO画素電極9パターンを第1図(a)、(b)に示
す位置関係に形成する。この時、ゲート線3と画素電極
9との重なり部分で形成される付加容あ7は0.59F
である0次に、画面郡全体を被覆するようSiN保護膜
を形成し、TPT基板とする。
一方、別のガラス基板上にR,G、B三色の色フィルタ
ーを第3図(d)に示すトライアングル状に配列させた
パターンを形成し、この上に有機樹脂からなる保護膜を
形成し、ITO対向電極16をパネルの画面全体に対応
するように形成し、対向電極基板とする。この時、R,
G、B三色の色フイルタ−パターンはTPT基板の画素
電極9の内側に一定の幅5μmだけ狭めたパターンとし
。
ーを第3図(d)に示すトライアングル状に配列させた
パターンを形成し、この上に有機樹脂からなる保護膜を
形成し、ITO対向電極16をパネルの画面全体に対応
するように形成し、対向電極基板とする。この時、R,
G、B三色の色フイルタ−パターンはTPT基板の画素
電極9の内側に一定の幅5μmだけ狭めたパターンとし
。
色フイルタ−パターン以外の部分は非透光性のブラック
マトリックスにする。
マトリックスにする。
次に、TPT基板と対向電極に配向膜を塗布し、所定の
方向にラビング処理を行い、スペーサを分散させた後に
、両者をシール材を用いてのギャップ間隔に貼り合わせ
る。この時、TPT基板の画素電極9と色フイルタ−パ
ターンは一画素毎にそれぞれ所望の色の画素に対応する
ように位置合わせを行う。次に1両者の基板間のギャッ
プにTN液晶を封入して、カラー液晶ディスプレイパネ
ルが完成する。
方向にラビング処理を行い、スペーサを分散させた後に
、両者をシール材を用いてのギャップ間隔に貼り合わせ
る。この時、TPT基板の画素電極9と色フイルタ−パ
ターンは一画素毎にそれぞれ所望の色の画素に対応する
ように位置合わせを行う。次に1両者の基板間のギャッ
プにTN液晶を封入して、カラー液晶ディスプレイパネ
ルが完成する。
本実施例によれば、第1図(a)に示す如く、信号線1
0のゲート線3と平行な配線部分が付加容量7に対して
、ゲート線3と反対側に設置されているので、付加容量
7はゲート線と平行な方向の画素ピッチ以内の幅にとる
ことが出来、開口率を低下させることなくゲート線と平
行な方向に横長で十分な大きさの付加容量を設置するこ
とができる。
0のゲート線3と平行な配線部分が付加容量7に対して
、ゲート線3と反対側に設置されているので、付加容量
7はゲート線と平行な方向の画素ピッチ以内の幅にとる
ことが出来、開口率を低下させることなくゲート線と平
行な方向に横長で十分な大きさの付加容量を設置するこ
とができる。
実施例2
本実施例は先に述べた本発明の変形例の−っである。
TPT基板の製造工程は実施例1と同様に行い、第5図
に示す如きパターンの基板を作製する。第5図(a)に
おいて付加容量7は実施例1と同様に信号線10に阻害
されない位置関係にあるので、ゲート線3にTの字状に
張り出し部分を設けることが出来る。これと画素電極9
により1pFの付加容量7を形成する。この付加容量7
はブラックマトリックスの範囲内にあるので、画素の開
口率を低下させることなく良好な画質のカラー液晶デイ
スプレィを得ることができる。
に示す如きパターンの基板を作製する。第5図(a)に
おいて付加容量7は実施例1と同様に信号線10に阻害
されない位置関係にあるので、ゲート線3にTの字状に
張り出し部分を設けることが出来る。これと画素電極9
により1pFの付加容量7を形成する。この付加容量7
はブラックマトリックスの範囲内にあるので、画素の開
口率を低下させることなく良好な画質のカラー液晶デイ
スプレィを得ることができる。
実施例3
本実施例も先に述べた本発明の変形例の一つである。
TPT基板の製造工程は実施例1と同様に行い、第6図
に示す如きパターンの基板を作製する。第6図において
、付加容量7は第1図(a)と第5図(、)のパターン
を合成したL字状に設けられている。第6図に示される
如き、付加容量7は開口率を低下させることなく、十分
な大きさの付加容量を得るために、実施例1および2と
比較してさらに効果的な方法である。第6図の如き配置
の付加容量7は2pF程度の容量まで開口率を低下させ
ずに設置することが可能である。
に示す如きパターンの基板を作製する。第6図において
、付加容量7は第1図(a)と第5図(、)のパターン
を合成したL字状に設けられている。第6図に示される
如き、付加容量7は開口率を低下させることなく、十分
な大きさの付加容量を得るために、実施例1および2と
比較してさらに効果的な方法である。第6図の如き配置
の付加容量7は2pF程度の容量まで開口率を低下させ
ずに設置することが可能である。
本発明によれば、画質の最も良好とされるR2O,B三
色の画素のトライアングル画素配列により生じたゲート
線と信号線の平行な配線部分に阻害されることなく、−
画素内で効率良く十分な大きさの付加容量を設置できる
で、一画素の開口率の低下、輝度の減少を招くことなく
、良好な画質(明かるく、残像、焼付がなく、画面内の
明がるさのムラがない)を得ることができる。
色の画素のトライアングル画素配列により生じたゲート
線と信号線の平行な配線部分に阻害されることなく、−
画素内で効率良く十分な大きさの付加容量を設置できる
で、一画素の開口率の低下、輝度の減少を招くことなく
、良好な画質(明かるく、残像、焼付がなく、画面内の
明がるさのムラがない)を得ることができる。
第1図(a)は本発明の一実施例の平面図、第1図(b
)は第1図(a)のA1As’jlQrJrr面図、第
2図(a)は従来例の平面図、第2図(b)は第2図(
a)のA2−A2’線断面す2図(c)は第2図(b)
、(C)の等価回路図、第3図はカラー画素の配列方法
を示した図、第4図(a)は効率の悪い付加容量の配置
例を示した平面図、第4図(b)は第4図(a)のA4
−A、’線断面図、第5図(a)は本発明の第2の実施
例の平面図、第5図(b)は第5図(a)のA、−A、
’線断面図、第6図(a)は本発明の第3の実施例の平
面図、第6図(b)は第6図(a)のA8−A6.’線
断面図。 符号の説明 1・・・信号線、2・・・ゲート線、3・・・隣接する
ゲート線、4・・・TFT、5・・・ソース電極、6・
・・ゲート・ソース間容量、7・・・付加容量、 8−a−8i : H(i) 、 9一画素電極、10
・・・隣接する信号線、11・・・ゲート絶縁膜、14
−・・基板、 l 5−a−8i : H(n”)、1
6・・・画素容量、17・・・対向電極。 ’3を図 (a) <1y) YJ圀 (a)剰芝2スTライフ゛ (約@めモ
プ°イク(C) スクエアー
(d) )ライアングンン昂4図 (ダ) (b) 第 5図 (a) (kン
)は第1図(a)のA1As’jlQrJrr面図、第
2図(a)は従来例の平面図、第2図(b)は第2図(
a)のA2−A2’線断面す2図(c)は第2図(b)
、(C)の等価回路図、第3図はカラー画素の配列方法
を示した図、第4図(a)は効率の悪い付加容量の配置
例を示した平面図、第4図(b)は第4図(a)のA4
−A、’線断面図、第5図(a)は本発明の第2の実施
例の平面図、第5図(b)は第5図(a)のA、−A、
’線断面図、第6図(a)は本発明の第3の実施例の平
面図、第6図(b)は第6図(a)のA8−A6.’線
断面図。 符号の説明 1・・・信号線、2・・・ゲート線、3・・・隣接する
ゲート線、4・・・TFT、5・・・ソース電極、6・
・・ゲート・ソース間容量、7・・・付加容量、 8−a−8i : H(i) 、 9一画素電極、10
・・・隣接する信号線、11・・・ゲート絶縁膜、14
−・・基板、 l 5−a−8i : H(n”)、1
6・・・画素容量、17・・・対向電極。 ’3を図 (a) <1y) YJ圀 (a)剰芝2スTライフ゛ (約@めモ
プ°イク(C) スクエアー
(d) )ライアングンン昂4図 (ダ) (b) 第 5図 (a) (kン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、複数行のゲート線および信号線を有し、上記ゲート
線および信号線に接続される薄膜トランジスタを介して
画素選択を行い、 上記複数行のゲート線のうちの奇数行のゲート線から画
素選択される奇数行の画素と、上記複数行のゲート線の
うちの偶数行のゲート線から画素選択される偶数行の画
素とが、互いに上記ゲート線と平行な方向にずらさせて
配置され、上記信号線が上記ゲート線と平行かつ近接し
て配置されている平行配置部分を少なくとも有するよう
な液晶ディスプレイパネルにおいて、第i行のゲート線
と第(j+1)列の信号線に接続される薄膜トランジス
タを介して選択される第i行第(j+1)列画素が第(
i+1)行のゲート線と重畳部分を有し、上記重畳部分
は、上記第(i+1)行のゲート線の、上記平行配置部
分の信号線とは反対側に形成されていることを特徴とす
る液晶ディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32715287A JP2828981B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 液晶ディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32715287A JP2828981B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 液晶ディスプレイパネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01169433A true JPH01169433A (ja) | 1989-07-04 |
JP2828981B2 JP2828981B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=18195890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32715287A Expired - Lifetime JP2828981B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 液晶ディスプレイパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2828981B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO1995022782A1 (fr) * | 1994-02-17 | 1995-08-24 | Seiko Epson Corporation | Substrat matriciel actif et dispositif d'affichage couleur a cristaux liquides |
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US7139056B2 (en) | 1998-11-27 | 2006-11-21 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Liquid crystal display device having particular orientation control window |
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JP2013061676A (ja) * | 2005-03-31 | 2013-04-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
JP2015092275A (ja) * | 2007-12-03 | 2015-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
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-
1987
- 1987-12-25 JP JP32715287A patent/JP2828981B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2013061676A (ja) * | 2005-03-31 | 2013-04-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
US8866707B2 (en) | 2005-03-31 | 2014-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device, and apparatus using the display device having a polygonal pixel electrode |
JP2007094261A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Epson Imaging Devices Corp | 半透過型液晶表示パネル |
JP4661506B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2011-03-30 | ソニー株式会社 | 半透過型液晶表示パネル |
JP2015092275A (ja) * | 2007-12-03 | 2015-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
US9423657B2 (en) | 2007-12-03 | 2016-08-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | TFT arrangement for display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2828981B2 (ja) | 1998-11-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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