JPH01165669A - ナフトラクタムトリメチン染料ならびに新規染料を含有する光学的記録用媒体 - Google Patents

ナフトラクタムトリメチン染料ならびに新規染料を含有する光学的記録用媒体

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JPH01165669A
JPH01165669A JP63289010A JP28901088A JPH01165669A JP H01165669 A JPH01165669 A JP H01165669A JP 63289010 A JP63289010 A JP 63289010A JP 28901088 A JP28901088 A JP 28901088A JP H01165669 A JPH01165669 A JP H01165669A
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ペーター・ノイマン
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Heidi Benthack-Thoms
ハイデイ・ベンタツクートーマス
Klaus-Dieter Schomann
クラウスーデイーター・シヨーマン
Harald Kuppelmaier
ハラルト・クツペルマイヤー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、鎖員子としてシクロペンテンバルビッール酸
誘導体を有する新規なナフトラクタムトリメチン染料、
ならびにこの新規なナフトラクタムトリメチン染料を含
有する光学的記録用媒体に関する。
エネルギーに富む輻射線、例えばレーザー光線により局
部に限られた状態変化を起こし、これによりその光学的
性質の変化を生じる光学的記憶用媒体は公知であ゛る。
この熱により溶解する状態変化は情報及びデータの記録
に使用できる。
この種の情報記憶のための記録材料としては、金属（合
金でもよい）又は染料からの薄層が役立つ。染料は金属
層に対し層としての安定性が高い利点を有する。
７５０〜９５０ｎｍの波長範囲で発光する半導体インジ
ェクションレーザーを用いて操作するために適する光学
的記憶系においては、有機ＩＲ染料例えばフタロシアニ
ン化合物、メチン染料又は四角酸誘導体が用いられる。
本発明の課題は、光学的記録用媒体の製造に適する新規
なメチン染料を提供することである。
この染料は良好な使用技術上の性質を有すべきであり、
特に高い分子吸収を示しかつ有機溶剤に良く溶解すべき
である。
欧州特許公開１０２７８１号明細書によれば、その橋状
員子がシクロペンテンバルビッール酸誘導体であるシア
チン染料が知られている。その際の末端複素環としては
、例えばベンゾチアゾール又はインドレニン誘導体があ
げられる。
しかし技術水準から公知の染料は、その使用技術上の性
質がしばしば不満足である。
本発明はこの課題を解決するもので、−最大〔式中Ｒ１
、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一でも異なってもよく互いに
無関係に、それぞれｃ、４　ａｎ−アルキル基（これは
置換されていてもよく、そして／又は１個もしくは数個
の酸素原子、１個もしくは数個のイミノ基又は１個もし
くは数個のＣ。
〜Ｃ４−アルキルイミノ基により中断されていてもよい
）、置換されていてもよいＣ２〜Ｃ１−シクロアルキル
基又は置換されていてもよいフェニル基を嫌味し、環Ａ
、Ｂ、Ｃ及びＤは置換されていてもよく、そして／又は
ベンゾ縮合していてもよい〕で表わされる新規なナフト
ラクタムトリメチン染料である。
前記の基に存在するすべてのアルキル基は直鎖状でも分
岐状でもよい。
基Ｒ’　、　Ｒ２、Ｒ３及び／又はＲ４が、１個もしく
は数個の酸素原子、１個もしくは数個のイミノ基又は１
個もしくは数個のＣ１〜ｃ４−アルキルイミノ基により
中断されていてもよい置換０１〜Ｃ２２−アルキル基で
あるときは、置換基としては、例えばフェニル基、ハロ
ゲン原子、水酸基、０１〜Ｃ６−アルカノイル基、カル
ボキシル基、ｃ１〜Ｃ２−アルカノイルアミノ基、０１
〜Ｃ２−アルコキシカルボニル基、　Ｃ，〜Ｃ３−アル
コキシカルボニルアミノ基又はＮ−（Ｃ，〜ｃ４−アル
キル）アニリノ基があげられる。
基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及び／又はＲ４が置換Ｃ，〜Ｃ７−
シクロアルキル基であるときは、置換基としては、例え
ば０１〜Ｃ３−アルキル基、ハロゲン原子特に０１又は
Ｂｒがあげられる。
式■のナフトラクタムトリメチン染料に置換フェニル基
が存在するときは、置換基としては、例えば０１〜Ｃ４
−アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、ハロゲン原
子特にＣ１又はＢｒ、又はＣ，−Ｃ２−ジアルキルアミ
ノ基があげられる。
式ｉのす７トラクタムトリメチン染料に、酸素原子、イ
ミノ基もしくはＣ１〜Ｃ２−アルキルイミノ基により中
断されたアルキル基が存在するときは、このアルキル基
が１〜３個の酸素原子又は１〜３個のイミノ基もしくは
０１〜Ｃ４−アルキルイミノ基により中断されている染
料が優れている。
基Ｒ’、Ｒ”、Ｒ３及びＲ４は例えば次の基である。
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、二級ブチル、三級ブチル、ペンチル、イソペ
ンチル、ネオペンチル、三級ペンチル、ヘキシル、２−
メチルペンチル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキ
シル、インオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イ
ンデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イント
リデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル
、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナテシル、エイコシ
ル、ヘンエイコシル、トコシル（インオクチル、イソノ
ニル、イソデシル及びイソトリデシルの名称は慣用名で
、オキソ合成により得られるアルコールに由来し、これ
についてはウルマンス・エンチクロペテイ・チル・テヒ
ニツシエン・ヘミ−第４版７巻２１５〜２１７頁ならび
に第１１巻４３５〜４６６頁参照）、ヘンシル、１−又
は２−フェニルエチル、トリフルオルメチル、トリクロ
ルメチル、１．１．１−トリフルオルエチル、ヘプタフ
ルオルプロピル、２−メトキシエチル、２−エトキシエ
チル、２−プロポキシエチル、２−ブトキシエチル、２
−ベンジルオキシエチル、２−エトキシプロピル、３−
エトキシプロピル、６−ベンジルオキシプロビル、３，
６−シクロヘプチル、３，６−シオキサオクチル、６，
６−シオキサデシル、３，６．９−）リオキサデシル、
４−オキサ−６−二チルデシル、６，６−シオキサー７
−フエニルへブチル、プロパン−２−オン−１−イル、
ブタン−３−オン−１−イル、ブタン−３−オン−２−
イル、２−エチルペンタン−３−オン−１−イル、カル
ボキシメチル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシ
プロピル、４−カルボキシブチル、５−カルボキシペン
チル、４−カルボキシ−６−オキサブチル、アセチルア
ミノメチル、２−（アセチルアミノ）エチル、２−（プ
ロピオニルアミノ）エチル、２−（７’チリルアミノ）
エチル、エトキシカルボニルメチル、２−（エトキシカ
ルボニル）エチル、２−又は３−（メトキシカルボニル
）プロピル、エトキシカルボニルアミノメチル、２−（
エトキシカルボニルアミノ）エチル、Ｎ−メチルアニリ
ノメチル、２−（Ｎ−インプロピルアニリノ）エチル、
２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−
ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、４−ヒド
ロキシブチル、８−ヒドロキシオクチル、３−アザブチ
ル、３−アザ−３−メチルブチル、３−アザ−３−エチ
ルヘンチル、４−アザ−４−メチルペンチル、３−アザ
ヘキシル、３−アザヘプチル、３−アザ−６−ブチルヘ
プチル、３−アザ−６−（２−ヒドロキシエチル）ヘプ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、６−メチルシクロペンチル、４−エチルシクロヘキ
シル、　２．３−ジクロルシクロヘキシル、フェニル、
４−メチルフェニル、４−インプロピルフェニル、４−
メトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、２−
クロルフェニル、４−７’ロムフエニル又は４−ジメチ
ルアミノフェニル。
環Ａ、Ｂ、Ｃ及び／又はＤが置換されており、そして場
合によりベンゾ縮合しているときは、置換基として、例
えばＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４にあげた基があげられ、
そのほか例えば次の原子又は基があげられる。ハロゲン
特にＣ１又はＢｒ、０１〜Ｃ２□−アルコキシ（これは
１個もしくは数個の酸素原子により中断されていてもよ
（、そして／又はフェニル置換されていてもよい）、ニ
トロ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ４−モノ−又は−ジアルキルア
ミン、１−アザシクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ２゜−７に＃
ルチオ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ４
−アルコキシスルホニル、置換されていてもよいフェニ
ルスルホニル、ヒドロキシスルホニル、アニリノ、Ｎ−
（Ｃ１〜Ｃ，−Ｃルール）アニリノ、Ｃ１〜Ｃ４−アル
カノイル、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイルアミノ、ＣＩＡ−
０４−アルコキシカルボニル、０１〜Ｃ４フルコキシカ
ルボニルアミノ、カルバモイル、Ｃ１〜Ｃ６−モノ−又
は−ジアルキルカルバモイル、スルファモイル、Ｃ１〜
Ｃ４−モノ−又は−ジアルキルスルファモイル、ウレイ
ド、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル置換ウレイド、フェノキシ、
フェニルチオ又は次式の残基。
１−アザシクロアルキル基は、例えば５〜７員の飽和の
窒素複素環の基で、この基は窒素原子を介して結合し、
そしてさらに他の異種原子を含有していてもよい。個々
の例は次のものである。
酸素原子により中断されていてもよく、そして／又はフ
ェニル置換されていてもよい０１〜Ｃ２□−アルキル基
の例については、ＲＩ　Ｍ＋　Ｒ４にあげた前記の相当
するアルキル基が参照される。
ナフトラクタム系における置換型の例を下記に示す。
好ましい式Ｉのナフトラクタムトリメチン染料は、Ｒ１
及びＲ４が互いに無関係にｃ、　％　Ｃ１２−アルキル
基（これは１個もしくは２個の酸素原子により中断され
ていてもよく、そして／又はフェニル基により置換され
ていてもよい）、Ｒ２及びＢＳが互いに無関係に０１〜
Ｃ２Ｑ−アルキル基（これは１個もしくは２個の酸素原
子又は１個もしくは２個のイミノ基により中断されてい
てもよく、そして／又は水酸基、カルボキシル基もしく
はＣ１〜Ｃ２−アルカノイル基により置換されていても
よい）を意味し、環Ａ１Ｂ、Ｃ及びＤが非置換であるか
、又は０１〜Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル基、Ｃ１〜ＣｔＺ
−アルコキシ基（これらは１個もしくは数個の酸素原子
により中断されていてもよく、そして／又はフェニル基
により置換されていてもよい）、フェニル基、Ｃ１〜Ｃ
１２−アルキルチオ基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ１２−モノ
−又は−ジアルキルアミノ基、１−アザシクロアルキル
基、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシスルホニル基、フ
ェニルチオ基又は次式 の残基により置換されており、そして／又はベンゾ縮合
しているものである。
特に好ましい式Ｉのナフトラクタムトリメチン染料は、
Ｒ１及びＲ４が互いに無関係に０１〜Ｃ。
−アルキル基、Ｒ２及びＲ３が互いに無関係にＣ８〜Ｃ
ｔＯ−アルキル基（これは１個もしくは２個の酸素原子
により中断されていてもよく、そして／又は水酸基又は
カルボキシル基により置換されていてもよい）を意味し
、環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤがそれぞれ非置換であるものであ
る。
本発明の染料は、次式 （式中Ｒ’、Ａ及びＢはそれぞれ前記の意味を有し、又
はアニオン例えばＣ１−１Ｂｒ−又はＪｅを意味する）
で表わされるナフトラクタム化合物を、次式 ン、ピリジン又はモルホリンを添加して、２０〜１２０
℃の温度で縮合させることにより製造される。（ＩＩ）
　：　（［１）のモル比は一般に２：１ないし４：１で
ある。ナフトラクタムＨの１モルにつき通常は１〜１０
モルの有機塩基を用いる。
出発物質として必要な式■のナフトラクタム化合物なら
びに式■のバルビッール酸誘導体は既知であるか、又は
自体既知の方法により製造できる。
式■のナフトラクタムトリメチン染料は、７００〜９５
０　ｎｍの範囲で高い吸収を示す。この化合物は有機溶
剤及び／又は熱可塑性の又は架橋された合成樹脂によく
溶解する。
膜を有し、前記の染料が一般式 〔式中Ｒ’　、　Ｒ’　、Ｒ３及びＲ４は同一でも異な
ってもよ（互いに無関係に、それぞれＣ８〜Ｃ２２−ア
ルキル基（これは置換されていてもよ（、そして／又は
１個もしくは数個の酸素原子、１個もしくは数個のイミ
ノ基又は１個もしくは数個の０８〜Ｃ１−アルキルイミ
ノ基により中断されていてもよい）、置換されていても
よいＣ６〜Ｃ７−シクロアルキル基又は置換されていて
もよいフェニル基を意味し、環Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは置換
されていてもよく、そして／又はベンゾ縮合していても
よい〕で表わされるナフトラクタムトリメチン染料であ
ることを特徴とする、光学的記録用媒体である。
好ましい光学的記録用媒体は、Ｒ１及びＲ４が互いに無
関係にＣ８〜Ｃ８２−アルキル基（これは１個もしくは
２個の酸素原子により中断されていてもよく、そして／
又はフェニル基により置換されていてもよい）、Ｒ２及
びＲｓが互いに無関係にＣ８〜Ｃｔｏ−アルキル基（こ
れは１個もしくは２個の酸素原子又は１個もしくは２個
のイミノ基により中断されていてもよく、そして／又は
水酸基、カルボキシル基もしくは０１〜Ｃ２−アルカノ
イル基により置換されていてもよい゛）を意味し、環Ａ
、Ｂ、Ｃ及びＤが非置換であるか、又はＣ８〜ＣＵ−ア
ルキル基、Ｃ８〜Ｃ１２−アルコキシ基（これらは１個
もしくは数個の酸素原子により中断されていてもよく、
そして／又は７エ二ル基により置換されていてもよい）
、フェニル基、Ｃ８〜Ｃｌ０−アルキルチオ基、シアノ
基、Ｃ１〜Ｃ＋Ｚ−モノ−又は−ジアルキルアミノ基、
１−アザシクロアルキル基、塩素原子、臭素原子、ヒド
ロキシスルホニル基、フェニルチオ基又ハ次式 の残基により置換されており、そして／又はベンゾ縮合
している式Ｉのナフトラクタムトリメチン染料を含有す
るものである。
特に好ましい光学的記録用媒体は、Ｒ１及びＲ４が互い
に無関係にＣ，％　Ｃ，−アルキル基、Ｒ２及びＲ３が
互いに無関係に０１〜Ｃ１０−アルキル基（これは１個
もしくは２個の酸素原子又は１個のイミノ基により中断
されていてもよく、そして／又は水酸基又はカルボキシ
ル基により置換されていてもよい）を意味し、環Ａ、Ｂ
、Ｃ及びＤがそれぞれ非置換である式Ｉのナフトラクタ
ムトリメチン染料を含有するものである。
記録用媒体の構成は公知である。
支持体としては、例えばガラスの板又は円板あるいは合
成樹脂の板又は円板、特にポリメチルメタクリレート、
ポリスチロール、スチロール共重合体、ポリ塩化ビニル
、ポリメチルペンテン又はポリカーボネートの板又は円
板が用いられ、これらは軌道溝を有していてもよい。
支持体はベルト、長方形もしくは正方形の板又は好まし
くは円盤の形を有していてもよく、１０〜１１２Ｆ＋の
直径を有するレーザー光学的記録用材料に普通で既知の
円盤が優れている。
レーザー光学的記録用媒体が結合剤を含有する場合は、
結合剤としては輻射線又は熱のいずれかにより硬化しう
る樹脂、例えば感光性重合体、シリコーン樹脂又はエポ
キシド樹脂、あるいは熱可塑性合成樹脂が用いられる。
熱可塑性合成樹脂は、結晶分が全くないか又はきわめて
少なく、かつ〉３５℃特に〉７５℃のガラス転移温度を
有するものが好ましい。そのほか結合剤例えば樹脂又は
熱可塑性合成樹脂は、式■のナフトラクタムトリメチン
染料との相溶性が良好であることを要する。例えばナフ
トラクタムトリメチン染料に対する溶解能の高い水溶性
結合剤、例えば（メト）アクリレートの重合体又は共重
合体、スチロールの単独重合体又は共重合体、ポリビニ
ルカルバゾール、ビニルエステル共重合体、ポリ塩化ビ
ニル又はセルロースエステルカ好適テアル。
輻射線感受性層と支持体との間にはさらに反射層が存在
していてもよ（、その結果として入射して有色層を通過
した光は、それが吸収されない限り反射層で反射され、
そして再び有色層を通過する。
照射は透明な基質を通して行うこともできる。
この場合の層の頑序としては、基質−輻射線感受性層一
場合により反射層の配置が用いられる。
好適な光反射性材料は、例えばアルミニウム、ロジウム
、金、錫、鉛、ビスマス、銅又は誘電性鏡である。光反
射層はこれが記録又は走査のために利用される光をでき
るだけ完全に反射する厚さを有すべきである。
この目的のためには熱伝導性の小さい鏡が特に有利であ
る。支持体又は光反射層は光学的に平滑で平らな表面を
有し、そしてその上に吸収層が接着固定する表面状態を
有すべきである。
表面品位及び接着現象に好ましい影響を与えるために、
支持体及び／又は反射層にデュロ可塑性又は熱可塑性材
料の平滑層を設けることもできる。
光学的記録用媒体が金属反射体を有するときは、金属反
射層を施すには、好ましくは既知の方法例えば支持体上
への真空蒸着により又は適当な金属箔を支持体上に付着
することにより行われる。
輻射線感受性層の塗布は、好ましくは溶解又は分散され
た染料を結合剤の存在下に遠心塗布することにより行わ
れる。この層の製造法としては、ドクター塗布又は浸漬
塗布も用いられる。
溶液から吸収層を塗布するには、適当な溶剤例えば塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、ドルオール、アセ
トニトリル、酢酸エステル、メタノール又はこれらの溶
剤の混合物中の染料又は染料混合物及び結合剤の溶液又
は場合により分散液を調製する。
次いでこの染料調製物をドクター塗布、浸漬塗布又は好
ましくは遠心塗布により、あらかじめ清浄化された又は
前処理された（サビングーレイヤー）基質上に塗布し、
そしてこの層を空気で乾燥又は硬化する。この膜は真空
中で、高められた温度で又は場合により照射して乾燥又
は硬化することもできる。
系の構造に応じて、まず輻射線感受性層を、次いで反射
層を施し、あるいはその逆に操作する。中間−及び保護
層又は反射層の塗布は場合により省略できる。
中間層を省略できない場合は、これに用いられる材料の
屈折率及び用いられるレーザー光線の波長を考慮して、
妨害となる干渉が生じ得ないように中間層の厚さを選択
する。
輻射線感受性層が充分な機械的安定性を有しない場合は
、これを透明な保護層で被覆することができる。このた
めには一連の重合体例えば弗素化重合体が用いられ、こ
れは溶解した重合体の遠心塗布、ドクター塗布又は浸漬
塗布により、あるいは真空蒸着により塗布することがで
きる。
系（データ記憶）を２個の同−又は異なる記録用媒体か
ら「サンドイッチ」の形で構成する場合には、保護層を
省略できる。「サンドインチ」構造は、大きな機械的及
び回転力学的安定性を与えるほか、２倍の記憶容量を与
える利点を有する。
本発明の記録用媒体は、約７５０〜９５０ｎｍの半導体
レーザーの波長においてきわめて高い吸収を有する。輻
射線感受性層は光反射層の上に、良好な波長エネルギー
を有する光学品位の高い平滑な吸収層が生成するように
塗布することができる。
新規な記録用媒体は大気の影響及び太陽光線に対してき
わめて安定である。この媒体は半導体レーザーにより記
入しかつ読取ることができきわめて高い。
レーザー光線の吸収に際して生じる熱は、放射状に外側
へ向かう熱可塑性樹脂の流れを生じるので、辺縁の鮮明
な「小孔」゛を生じ、これにより卓越したシグナル：ノ
イズ比が達成される。
（Ａ）染料の製造： 実施例１ １−メチル−２−メチルメルカプト−ベンゾ［Ｃ，ａ］
インドリウム−ヨーシト２ｇ（６ミリモル）及び５−（
シクロペンテン−１−イル−１）−１，３−ジメチルバ
ルビッール酸０．６５ｇ（３ミリモル）を、無水エタノ
ール６５ｍ１中でトリエチルアミン１．７ミリモルと共
に１時間還流煮沸する。反応終了後、水浴中で数時間冷
却し、染料を吸引濾過する。エーテル５Ｑｍｌの添加に
より、母液からさらに染料を得ることができる。
得られた粗製染料をアセトンで洗浄し、メタノールから
再結晶する。次式の染料が１ｇ得られる。
吸収極大値：　８２０　ｎｍ　（ＣＨ２Ｃ１２）。
実施例２〜８ 下記表中に示す染料は、実施例１と同様にして製造され
る。吸収極大値の測定に用いた溶剤。
も個々に示す。
次表に示す染料も同様にして得られる。
（Ｂｌ光学的記録用媒体の製造： メチルメタクリレート７０％及びメタクリル酸３０％の
共重合体０．０９９９をエタノール１〜Ｃ１０３０２ｙ
に溶解した。これに実施例６の染料１〜Ｃ１０２３ｇな
らびにエタノール６、３９　ｆｉ及びジアセトンアルコ
ール１．１８９を加えた。１時間攪拌し、この溶液を濾
過し、そしてポリメチルメタクリレート基質上に２００
　Ｏｒ−で遠心塗布した。
この層は均質で欠陥がなかった。この層は１３３ｎｍの
厚さを有し、きわめて広い吸収バンドを示した。８３０
　ｎｍにおける吸光度は０．５であった。
回転円板上に取付けたＡｌＧａＡｓ−レーザー（λ＝８
２０ｎｍ）を用いて、活性層中にそれぞれ約１μの大き
さの小孔を記入した。この層の感度は１ｎＪ／小孔より
良好であった。これらの点を読取るときに、優れたシグ
ナル：ノイズ比が認められた。
出願人　　　ビーニーニスエフ・アクチェンゲゼルシャ
フト代理人　弁理士小　　林　　正　　雄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一でも異
    なつてもよく互いに無関係に、それぞれＣ＿１〜Ｃ＿２
    ＿２−アルキル基（これは置換されていてもよく、そし
    て／又は１個もしくは数個の酸素原子、１個もしくは数
    個のイミノ基又は１個もしくは数個のＣ＿１〜Ｃ＿４−
    アルキルイミノ基により中断されていてもよい）、置換
    されていてもよいＣ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又
    は置換されていてもよいフェニル基を意味し、環Ａ、Ｂ
    、Ｃ及びＤは置換されていてもよく、そして／又はベン
    ゾ縮合していてもよい〕で表わされるナフトラクタムト
    リメチン染料。 ２、Ｒ＾１及びＲ＾４が互いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿１
    ＿２−アルキル基（これは１個もしくは２個の酸素原子
    により中断されていてもよく、そして／又はフェニル基
    により置換されていてもよい）、Ｒ＾２及びＲ＾３が互
    いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿２＿０−アルキル基（これは
    １個もしくは２個の酸素原子又は１個もしくは２個のイ
    ミノ基により中断されていてもよく、そして／又は水酸
    基、カルボキシル基もしくはＣ＿１〜Ｃ＿４−アルカノ
    イル基により置換されていてもよい）を意味し、環Ａ、
    Ｂ、Ｃ及びＤが非置換であるか、又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿
    ２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルコキシ基（
    これらは１個もしくは２個の酸素原子により中断されて
    いてもよく、そして／又はフェニル基により置換されて
    いてもよい）、フェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０−アル
    キルチオ基、シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−モノ−又
    は−ジアルキルアミノ基、１−アザシクロアルキル基、
    塩素原子、臭素原子、ヒドロキシスルホニル基、フェニ
    ルチオ基もしくは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の残基により置換されており、そして／又はベンゾ縮合
    していることを特徴とする、第１請求項に記載のナフト
    ラクタムトリメチン染料。 ３、Ｒ＾１及びＲ＾４が互いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿４
    −アルキル基、Ｒ＾２及びＲ＾３が互いに無関係にＣ＿
    １〜Ｃ＿１＿０−アルキル基（これは１個もしくは２個
    の酸素原子又は１個のイミノ基により中断されていても
    よく、そして／又は水酸基もしくはカルボキシル基によ
    り置換されていてもよい）を意味し、環Ａ、Ｂ、Ｃ及び
    Ｄがそれぞれ非置換であることを特徴とする、第１請求
    項に記載のナフトラクタムトリメチン染料。 ４、支持体、ならびに輻射線感受性染料及び所望により
    結合剤を含有する被覆膜を有し、前記の染料が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一でも異
    なつてもよく互いに無関係に、それぞれＣ＿１〜Ｃ＿２
    ＿２−アルキル基（これは置換されていてもよく、そし
    て／又は１個もしくは数個の酸素原子、１個もしくは数
    個のイミノ基又は１個もしくは数個のＣ＿１〜Ｃ＿４−
    アルキルイミノ基により中断されていてもよい）、置換
    されていてもよいＣ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又
    は置換されていてもよいフエニル基を意味し、環Ａ、Ｂ
    、Ｃ及びＤは置換されていてもよく、そして／又はベン
    ゾ縮合していてもよい〕で表わされるナフトラクタムト
    リメチン染料であることを特徴とする、光学的記録用媒
    体。 ５、Ｒ＾１及びＲ＾４が互いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿１
    ＿２−アルキル基（これは１個もしくは２個の酸素原子
    により中断されていてもよく、そして／又はフェニル基
    により置換されていてもよい）、Ｒ＾２及びＲ＾３が互
    いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿２＿０−アルキル基（これは
    １個もしくは２個の酸素原子又は１個もしくは２個のイ
    ミノ基により中断されていてもよく、そして／又は水酸
    基、カルボキシル基もしくはＣ＿１〜Ｃ＿４−アルカノ
    イル基により置換されていてもよい）を意味し、環Ａ、
    Ｂ、Ｃ及びＤが非置換であるか、又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿
    ２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルコキシ基（
    これらは１個もしくは２個の酸素原子により中断されて
    いてもよく、そして／又はフェニル基により置換されて
    いてもよい）、フェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０−アル
    キルチオ基、シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−モノ−又
    は−ジアルキルアミノ基、１−アザシクロアルキル基、
    塩素原子、臭素原子、ヒドロキシスルホニル基、フェニ
    ルチオ基もしくは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の残基により置換されており、そして／又はベンゾ縮合
    していることを特徴とする、第４請求項に記載の光学的
    記録用媒体。 ６、Ｒ＾１及びＲ＾４が互いに無関係にＣ＿１〜Ｃ＿４
    −アルキル基、Ｒ＾２及びＲ＾３が互いに無関係にＣ＿
    １〜Ｃ＿１＿０−アルキル基（これは１個もしくは２個
    の酸素原子又は１個のイミノ基により中断されていても
    よく、そして／又は水酸基もしくはカルボキシル基によ
    り置換されていてもよい）を意味し、環Ａ、Ｂ、Ｃ及び
    Ｄがそれぞれ非置換であることを特徴とする、第４請求
    項に記載の光学的記録用媒体。
JP63289010A 1987-11-17 1988-11-17 ナフトラクタムトリメチン染料ならびに新規染料を含有する光学的記録用媒体 Pending JPH01165669A (ja)

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