JPH01165419A - 被覆された成形物及びそれらの製造方法 - Google Patents
被覆された成形物及びそれらの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、熱可塑性プラスチックの成形物を、熱可塑性
プラスチックの共押出しされた5μmないし100μm
そして好ましくは20pmないし50μm厚さの層で被
覆するための方法であって、この層が、以下の式 式中、 R1及びR2は同一または異なっていてよくモしてH1
ハロゲン、C、−C、。アルキル、C5−01゜シクロ
アルキル、C,−C,3アラルキル、CI−C147リ
ー/L/、−OR’または−GOOR’を表し、ここで
R7はH,C,−C,。アルキル、C、−C、。シクロ
アルキル、C,−C,、アラルキル、Ci−CI4アリ
ールであり、 R3及びR4は同一または異なっていてよくそしてH−
Ct−C+sアルキル、C、−C、シクロアルキル、C
,−C,。アラルキルまたはCl−Cl4アリールを表
し、 Rs及びR1は同一または異なっていてよくモしてC、
−c +sアルキル、Cs−Cr。シクロアルキル、C
、−C!。アラルキル、Cl−CI4アリール、−〇R
7または一〇〇OR’を表し、 a、bは同一または異なっていてよくそして112.3
または4の値を有し、そしてC%dは同一または異なっ
ていてよくそして 。
プラスチックの共押出しされた5μmないし100μm
そして好ましくは20pmないし50μm厚さの層で被
覆するための方法であって、この層が、以下の式 式中、 R1及びR2は同一または異なっていてよくモしてH1
ハロゲン、C、−C、。アルキル、C5−01゜シクロ
アルキル、C,−C,3アラルキル、CI−C147リ
ー/L/、−OR’または−GOOR’を表し、ここで
R7はH,C,−C,。アルキル、C、−C、。シクロ
アルキル、C,−C,、アラルキル、Ci−CI4アリ
ールであり、 R3及びR4は同一または異なっていてよくそしてH−
Ct−C+sアルキル、C、−C、シクロアルキル、C
,−C,。アラルキルまたはCl−Cl4アリールを表
し、 Rs及びR1は同一または異なっていてよくモしてC、
−c +sアルキル、Cs−Cr。シクロアルキル、C
、−C!。アラルキル、Cl−CI4アリール、−〇R
7または一〇〇OR’を表し、 a、bは同一または異なっていてよくそして112.3
または4の値を有し、そしてC%dは同一または異なっ
ていてよくそして 。
1.2または3の値を有する、
に対応するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%
、好ましくは2重量%ないし10重量%そしてさらに好
ましくは5重量%ないし10重量%含むことを特徴とす
る、方法に関する。
、好ましくは2重量%ないし10重量%そしてさらに好
ましくは5重量%ないし10重量%含むことを特徴とす
る、方法に関する。
好ましい置換基R1及びR2はH,CI及び−CH,で
あり、好ましい置換基R3及びR6はH及びC、−C4
アルキルであり、好ましい置換基R6及びR“はC4−
C、アルキル、シクロヘキシル、Cr−Csアラルキル
、フェニル及びす7チルであり、そしてa、b、c及び
dに対する好ましい値はlである。
あり、好ましい置換基R3及びR6はH及びC、−C4
アルキルであり、好ましい置換基R6及びR“はC4−
C、アルキル、シクロヘキシル、Cr−Csアラルキル
、フェニル及びす7チルであり、そしてa、b、c及び
dに対する好ましい値はlである。
好ましい化合物■は、R1及びR2がHを表し、R3及
びR’がH!たl:tcHst”表し、R’及びR6が
C、−C、アルキルまたはCt−C、アラルキルを表し
、そしてa、b、c及びdが1の値を有する化合物であ
る。
びR’がH!たl:tcHst”表し、R’及びR6が
C、−C、アルキルまたはCt−C、アラルキルを表し
、そしてa、b、c及びdが1の値を有する化合物であ
る。
単一のUV吸収剤を使用すること及びまたお互いに混合
した式Iの数個のUV吸収剤を使用することの両方が可
能である。
した式Iの数個のUV吸収剤を使用することの両方が可
能である。
本発明はまた、本発明による方法によって得られる被覆
された成形物に関する。
された成形物に関する。
加えて、本発明は、熱可塑性プラスチックの5μmない
し100μm厚さの層そして好ましくは20μmないし
50μm厚さの層で被覆された熱可塑性プラスチックの
成形物であって、この層が式Iに対応するUV吸収剤を
0.1重量%ないし20重量%、好ましくは2重量%な
いし15重量%そしてさらに好ましくは5重量%ないし
10重量%含むことを特徴とする成形物に関する。
し100μm厚さの層そして好ましくは20μmないし
50μm厚さの層で被覆された熱可塑性プラスチックの
成形物であって、この層が式Iに対応するUV吸収剤を
0.1重量%ないし20重量%、好ましくは2重量%な
いし15重量%そしてさらに好ましくは5重量%ないし
10重量%含むことを特徴とする成形物に関する。
成形物及び保護層を構成する熱可塑性プラスチックは、
同じタイプのものまたは異なったタイプのものでよい;
それらは同一であってさえもよい。
同じタイプのものまたは異なったタイプのものでよい;
それらは同一であってさえもよい。
同じタイプのプラスチックの成形物及び保護層が特に適
当である。
当である。
成形物及び/または保護層を構成する適当な熱可塑性プ
ラスチックは、例えば、熱可塑性芳香族ポリカーボネー
ト、熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネート、熱可塑
性芳香族ポリエステル、イソ及びテレフタル酸の熱可塑
性脂肪族芳香族ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、スチレン及び/またはメチルスチレンと
マレイン酸無水物との及び/またはアクリロニトリルと
の熱可塑性コポリマー、ポリブタジェンゴム上のスチレ
ン及びアクリロニトリルの熱可塑性グラフトポリマー、
熱可塑性ポリ−α−オレフィン例えばポリエチレン及び
ポリプロピレン、随時改変されてよい熱可塑性ポリアク
リレート及びポリメタクリレート、そしてポリスチレン
、並びに上述の熱可塑性プラスチックの任意の組み合わ
せ及びポリスチレンとポリフェニレンオキシドとの組み
合わせからなるブレンドである。
ラスチックは、例えば、熱可塑性芳香族ポリカーボネー
ト、熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネート、熱可塑
性芳香族ポリエステル、イソ及びテレフタル酸の熱可塑
性脂肪族芳香族ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、スチレン及び/またはメチルスチレンと
マレイン酸無水物との及び/またはアクリロニトリルと
の熱可塑性コポリマー、ポリブタジェンゴム上のスチレ
ン及びアクリロニトリルの熱可塑性グラフトポリマー、
熱可塑性ポリ−α−オレフィン例えばポリエチレン及び
ポリプロピレン、随時改変されてよい熱可塑性ポリアク
リレート及びポリメタクリレート、そしてポリスチレン
、並びに上述の熱可塑性プラスチックの任意の組み合わ
せ及びポリスチレンとポリフェニレンオキシドとの組み
合わせからなるブレンドである。
好ましい熱可塑性プラスチックは、熱可塑性の線状のS
iを含まないポリカーボネート、熱可塑性の分岐したS
iを含まないポリカーボネート及び熱可塑性のSi含有
ポリカーボネートである。
iを含まないポリカーボネート、熱可塑性の分岐したS
iを含まないポリカーボネート及び熱可塑性のSi含有
ポリカーボネートである。
その他の好ましい熱可塑性プラスチックは、熱可塑性の
芳香族のSiを含まないポリエステルカーボネート、熱
可塑性芳香族ポリエステル、イソ及び/またはテレフタ
ル酸の脂肪族芳香族ポリエステル、そしてまた本発明に
よる方法に適した上述の熱可塑性プラスチックのブレン
ド、例えば2.2−ビス−(4〜ヒドロキシ−3,5−
ジメチルフェニル)−プロパンからのポリカーボネート
とスチレン及びアクリロニトリルのコポリマーとのブレ
ンドである。
芳香族のSiを含まないポリエステルカーボネート、熱
可塑性芳香族ポリエステル、イソ及び/またはテレフタ
ル酸の脂肪族芳香族ポリエステル、そしてまた本発明に
よる方法に適した上述の熱可塑性プラスチックのブレン
ド、例えば2.2−ビス−(4〜ヒドロキシ−3,5−
ジメチルフェニル)−プロパンからのポリカーボネート
とスチレン及びアクリロニトリルのコポリマーとのブレ
ンドである。
上述の熱可塑性プラスチックは公知であるかまたは公知
の方法によって得ることができる。
の方法によって得ることができる。
適当な成形物/保護層の組み合わせを例えば以下の表1
に示す: 表1 PC=Siを含まないポリカーボネート5iCoPC−
Si含有ポリカーボネートApec−芳香族ポリエステ
ルカーボネートApse−芳香族ポリエステル PMMA−ポリメチルメタクリレート 好ましい成形物/保護層の組み合わせは、分岐したまた
は線状の熱可塑性芳香族ポリカーボネート(成形物及び
保護層)からあるいは熱可塑性芳香族ポリカーボネート
(線状のまたは分岐した)または熱可塑性のSi含有ポ
リカーボネート(成形物及び保護層)から成る。
に示す: 表1 PC=Siを含まないポリカーボネート5iCoPC−
Si含有ポリカーボネートApec−芳香族ポリエステ
ルカーボネートApse−芳香族ポリエステル PMMA−ポリメチルメタクリレート 好ましい成形物/保護層の組み合わせは、分岐したまた
は線状の熱可塑性芳香族ポリカーボネート(成形物及び
保護層)からあるいは熱可塑性芳香族ポリカーボネート
(線状のまたは分岐した)または熱可塑性のSi含有ポ
リカーボネート(成形物及び保護層)から成る。
上述の熱可塑性プラスチックは、実際において及び文献
から公知であるかまたは文献から公知の方法によって得
ることができる。
から公知であるかまたは文献から公知の方法によって得
ることができる。
線状のSiを含まないポリカーボネートの基礎となるジ
フェノールは、好ましくは以下の式に対応するジフェノ
ールであり、これらは再び文献からそのまま公知である
かまたは文献から公知の方法によって得ることができる
。弐〇において、AはCl−08アルキレン、C、−C
、アルキリデン、C,−C,5シクロアルキレンまたは
シクロアルキリデン%C,−C,,アラルキル例えば=
so−、−so、−、−o−あるいはンC−Oを表し、 e、fはお互いに独立にOまたは1の値を有し、 X’、X’は同一または異なっていてよくそしてH1ハ
ロゲンまたはC、−C、アルキルを表し、n、mはお互
いに独立に0.1.2.3または4の値を有する。
フェノールは、好ましくは以下の式に対応するジフェノ
ールであり、これらは再び文献からそのまま公知である
かまたは文献から公知の方法によって得ることができる
。弐〇において、AはCl−08アルキレン、C、−C
、アルキリデン、C,−C,5シクロアルキレンまたは
シクロアルキリデン%C,−C,,アラルキル例えば=
so−、−so、−、−o−あるいはンC−Oを表し、 e、fはお互いに独立にOまたは1の値を有し、 X’、X’は同一または異なっていてよくそしてH1ハ
ロゲンまたはC、−C、アルキルを表し、n、mはお互
いに独立に0.1.2.3または4の値を有する。
適当なビスフェノールは、例えば、ヒドロキノン、レソ
ルシノール、4.4’〜ジヒドロキシジフエニル、ビス
−(ヒドロキシフェニル)−アルカン、シクロアルカン
、エーテル、ケトン、スルホキシド、スルホネート、ス
ルフィド、α、α−ビスー(ヒドロキシフェニル)−エ
チルベンゼン及びジイソグロピルベンゼン、そしてまた
対応する核アルキル化された及び核ハロゲン化された化
合物である。
ルシノール、4.4’〜ジヒドロキシジフエニル、ビス
−(ヒドロキシフェニル)−アルカン、シクロアルカン
、エーテル、ケトン、スルホキシド、スルホネート、ス
ルフィド、α、α−ビスー(ヒドロキシフェニル)−エ
チルベンゼン及びジイソグロピルベンゼン、そしてまた
対応する核アルキル化された及び核ハロゲン化された化
合物である。
アルキル基を含むビスフェノールもまた、フルオロアル
キル基によって完全にまたは部分的にあるいはフッ素化
されたアルキル基によって部分的に置換されたビスフェ
ノール、例えばビス=(4−ヒドロキシフェニル) −
2,2−へキサフルオロプロパンの形で使用することが
できる。
キル基によって完全にまたは部分的にあるいはフッ素化
されたアルキル基によって部分的に置換されたビスフェ
ノール、例えばビス=(4−ヒドロキシフェニル) −
2,2−へキサフルオロプロパンの形で使用することが
できる。
上述のジフェノールの混合物もまた使用することができ
る。
る。
好ましいポリカーボネートは、ビス−(4−ヒドロキン
フェニル)−2,2−プロパン(ビスフェノールA)、
ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)
−2,2−プロパン(テトラクロロビスフェノールA)
、ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル
)−2,2−プロパン(テトラブロモビスフェノールA
)、ビス=(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−2,2−プ0/(ン(テトラメチルビスフェノー
ルA)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル) −1,1
−シクロヘキサン(ビスフェノールZ)、ビス−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−スルホン(
ジキシレノールスルホン)及び三核ビスフェノール、例
えばα、α−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
ジイソプロピルベンゼン、そしてこれらの化合物の混合
物を基にしている。
フェニル)−2,2−プロパン(ビスフェノールA)、
ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)
−2,2−プロパン(テトラクロロビスフェノールA)
、ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル
)−2,2−プロパン(テトラブロモビスフェノールA
)、ビス=(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−2,2−プ0/(ン(テトラメチルビスフェノー
ルA)、ビス−(4−ヒドロキシフェニル) −1,1
−シクロヘキサン(ビスフェノールZ)、ビス−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−スルホン(
ジキシレノールスルホン)及び三核ビスフェノール、例
えばα、α−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−p−
ジイソプロピルベンゼン、そしてこれらの化合物の混合
物を基にしている。
弐〇に対応するジフェノールに加えて、三官能基のまた
は三より多い官能基の分岐剤、例えば三または三より多
いフェノールのOH基を含むものを、好ましくは分岐し
たSiを含まないポリカーボネート中に公知の方法でそ
して公知の量で混入する。
は三より多い官能基の分岐剤、例えば三または三より多
いフェノールのOH基を含むものを、好ましくは分岐し
たSiを含まないポリカーボネート中に公知の方法でそ
して公知の量で混入する。
本発明に従っての使用に適した、三または三より多いフ
ェノールのヒドロキシル基を含む分岐剤の例は、2.4
−ビス−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−フ
ェノール、2.6−ビス−(2′−ヒドロキシ−5゛−
メチルベンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−
ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシジ
フェニル)−プロパン及び1.4−ビス−(4,4’−
ジヒドロキシトリフェニルメチル)−ベンゼンを含む。
ェノールのヒドロキシル基を含む分岐剤の例は、2.4
−ビス−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−フ
ェノール、2.6−ビス−(2′−ヒドロキシ−5゛−
メチルベンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−
ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシジ
フェニル)−プロパン及び1.4−ビス−(4,4’−
ジヒドロキシトリフェニルメチル)−ベンゼンを含む。
その他の三官能基の化合物の例は、2,4−ジヒドロキ
シ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、3.3−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−2,3
−ジヒドロインドール及び3.3−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−2,3−ジ
ヒドロインドールを含む。
シ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、3.3−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−2,3
−ジヒドロインドール及び3.3−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−2,3−ジ
ヒドロインドールを含む。
分岐したポリカーボネートは、芳香族熱可塑性ポリカー
ボネートを製造するだめの公知の方法によって、即ち、
ジフェニルカーボネートを用いる融成物中でのエステル
交換法によってか、あるいはホスゲンを用いる二相界面
法によって製造される(例えばH,シュネル(Schn
ell)、ポリカーボネートの化学と物理、ポリマー
レブ、(Rev、)、11巻、27頁以降、インターサ
イエンス(Interscience)出版社ニューヨ
ーク、1964、DE−O31570533、DE−O
51595762、DE−PS 2500092及びU
S−PS 3.544゜514またはUS−RE 27
682参照)。
ボネートを製造するだめの公知の方法によって、即ち、
ジフェニルカーボネートを用いる融成物中でのエステル
交換法によってか、あるいはホスゲンを用いる二相界面
法によって製造される(例えばH,シュネル(Schn
ell)、ポリカーボネートの化学と物理、ポリマー
レブ、(Rev、)、11巻、27頁以降、インターサ
イエンス(Interscience)出版社ニューヨ
ーク、1964、DE−O31570533、DE−O
51595762、DE−PS 2500092及びU
S−PS 3.544゜514またはUS−RE 27
682参照)。
両方の製造法のための反応条件は良く知られている。
S1含有熱可塑性ポリカーボネートは線状または分岐し
ていてよく、そして好ましくは、例えばEP−O501
35794(Le A 22390 EP)から公知の
タイプのポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネート
ブロック共縮合物である。
ていてよく、そして好ましくは、例えばEP−O501
35794(Le A 22390 EP)から公知の
タイプのポリジオルガノシロキサン−ポリカーボネート
ブロック共縮合物である。
ポリジオルガノシロキサンーポリカーポネートブロック
コボリマーは、それらがポリマ一連鎖中に、一方では芳
香族カーボネート構造単位(1)、及び他方ではアリー
ルオキシで末端停止されたポリジオルガノシロキサン(
2) l −0−Ar−0−C−0−Ar−0−(1)RRR’ RRR’ 式中、 Arは同一または異なっていてよくそして上述のタイプ
のジフェノールからのアリーレン基を表し、そして R及びR1は同一または異なっていてよくぞして線状ア
ルキル、分岐したアルキル、アルケニル、ハロゲン化さ
れた線状アルキル、ハロゲン化された分岐したアルキル
、アリールまたはハロゲン化されたアリール、しかし好
ましくはメチルを表し、そして ジオルガノシロキシ単位の数n=a+b+cは2ないし
120そして好ましくは40ないし50である、 を含むことを特徴とする。
コボリマーは、それらがポリマ一連鎖中に、一方では芳
香族カーボネート構造単位(1)、及び他方ではアリー
ルオキシで末端停止されたポリジオルガノシロキサン(
2) l −0−Ar−0−C−0−Ar−0−(1)RRR’ RRR’ 式中、 Arは同一または異なっていてよくそして上述のタイプ
のジフェノールからのアリーレン基を表し、そして R及びR1は同一または異なっていてよくぞして線状ア
ルキル、分岐したアルキル、アルケニル、ハロゲン化さ
れた線状アルキル、ハロゲン化された分岐したアルキル
、アリールまたはハロゲン化されたアリール、しかし好
ましくはメチルを表し、そして ジオルガノシロキシ単位の数n=a+b+cは2ないし
120そして好ましくは40ないし50である、 を含むことを特徴とする。
上の式(1)において、アルキル置換基は、例えばC、
−C、。アルキルであり、アルケニル置換基は、例えば
C、−C、アルケニルであり、そしてアリール置換基は
Cs−c 14アリールである。上の式において、ハロ
ゲン化されたとは、部分的にまたは完全に塩素化された
、臭素化されたまたはフッ素化されたことを意味する。
−C、。アルキルであり、アルケニル置換基は、例えば
C、−C、アルケニルであり、そしてアリール置換基は
Cs−c 14アリールである。上の式において、ハロ
ゲン化されたとは、部分的にまたは完全に塩素化された
、臭素化されたまたはフッ素化されたことを意味する。
アルキル、アルケニル、アリール、ハロゲン化されたア
ルキル及びハロゲン化されたアリールの例は、メチル、
エチル、プロピル、n−ブチル、tert、−ブチル、
ビニル、フェニル、ナフチル、クロロメチル、ペルフル
オロブチル、ペルフルオロオクチル及びクロロフェニル
である。
ルキル及びハロゲン化されたアリールの例は、メチル、
エチル、プロピル、n−ブチル、tert、−ブチル、
ビニル、フェニル、ナフチル、クロロメチル、ペルフル
オロブチル、ペルフルオロオクチル及びクロロフェニル
である。
問題のタイプのポリジオルガノシロキサン−ポリカーボ
ネートブロックコポリマーは、例えば、US−PS 3
.189.662、US−PS 3.821.325及
びUS−PS 3゜832.419から公知である。そ
れらの改良された低温での機械的性質は、関連する文献
中に述べられている(例えば、B、M、ビーチ(Bea
ch)、R,P、カンポア(Kambour)及びA、
R,シュルツ(Schultz)、ジェイ、ポリマ、サ
イ、(J、Po1y+o、Sci、)、ポリマ、レタ。
ネートブロックコポリマーは、例えば、US−PS 3
.189.662、US−PS 3.821.325及
びUS−PS 3゜832.419から公知である。そ
れらの改良された低温での機械的性質は、関連する文献
中に述べられている(例えば、B、M、ビーチ(Bea
ch)、R,P、カンポア(Kambour)及びA、
R,シュルツ(Schultz)、ジェイ、ポリマ、サ
イ、(J、Po1y+o、Sci、)、ポリマ、レタ。
ニド、(Polym、Lett、Ed、) 12.24
7(1974))。
7(1974))。
10.000ないし200.000の平均分子量枦、(
重量平均、超遠心分離または散乱光測定によって測定さ
れた)を有しそして約75ないし97.5重量%の芳香
族カーボネート構造単位及び25ないし2.5重量%の
ジオルガノシロキシ単位を含む、好ましいポリジオルガ
ノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは
、α、ω−ビスヒドロキシアリールオキシで末端停止さ
れたポリジオルガノシロキサンを他のジフェノールと一
緒に、随時通常の量の連鎖停止剤を用いてそして随時通
常の量の分岐剤を用いて、例えば二相界面法によって(
H,シュネル、ポリカーボネートの化学と物理、ポリマ
ーレブ0、■巻、27頁以降、インターサイエンス出版
社ニューヨーク、1964参照)反応させることによっ
て製造され、二官能基のフェノール性反応物の間の比は
、芳香族カーボネート構造単位及びジオルガノシロキシ
単位の、本発明による含量を与えるように選ばれる。
重量平均、超遠心分離または散乱光測定によって測定さ
れた)を有しそして約75ないし97.5重量%の芳香
族カーボネート構造単位及び25ないし2.5重量%の
ジオルガノシロキシ単位を含む、好ましいポリジオルガ
ノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは
、α、ω−ビスヒドロキシアリールオキシで末端停止さ
れたポリジオルガノシロキサンを他のジフェノールと一
緒に、随時通常の量の連鎖停止剤を用いてそして随時通
常の量の分岐剤を用いて、例えば二相界面法によって(
H,シュネル、ポリカーボネートの化学と物理、ポリマ
ーレブ0、■巻、27頁以降、インターサイエンス出版
社ニューヨーク、1964参照)反応させることによっ
て製造され、二官能基のフェノール性反応物の間の比は
、芳香族カーボネート構造単位及びジオルガノシロキシ
単位の、本発明による含量を与えるように選ばれる。
問題のタイプのα、ω−ビスヒドロキシアリールオキシ
末端停止ポリジオルガノシロキサンは、例えばUS−P
S3.419,634から公知である。
末端停止ポリジオルガノシロキサンは、例えばUS−P
S3.419,634から公知である。
α、ω−ビスヒドロキシアリールオキシ末端停止ポリジ
オルガノシロキサン及びポリジオルガノシロキサンーポ
リカーポネートブロックコボリマーの製造のために使用
されるべきジフェノールは、再び、好ましくは式(D)
に対応するジフェノールである。
オルガノシロキサン及びポリジオルガノシロキサンーポ
リカーポネートブロックコボリマーの製造のために使用
されるべきジフェノールは、再び、好ましくは式(D)
に対応するジフェノールである。
適当な熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネートまたは
熱可塑性芳香族ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸及
びジフェノールから合成され、少なくとも一つの炭酸誘
導体、例えばホスゲンが、ポリエステルカーボネートの
合成に付加的に加わる。
熱可塑性芳香族ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸及
びジフェノールから合成され、少なくとも一つの炭酸誘
導体、例えばホスゲンが、ポリエステルカーボネートの
合成に付加的に加わる。
好ましい芳香族ジカルボン酸は、例えば、イソフタル酸
、テレフタル酸、ジフェニルエーテル−4゜4′−ジカ
ルボン酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸である。
、テレフタル酸、ジフェニルエーテル−4゜4′−ジカ
ルボン酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸である。
イソフタル酸及びテレフタル酸が特に好ましい。好まし
い炭酸誘導体はホスゲンである。
い炭酸誘導体はホスゲンである。
本発明による芳香族ポリエステル及びポリエステルカー
ボネートの製造のために好ましいジフェノールは、以下
の式: %式%([) 式中、 Zは6ないし30の炭素原子を含む二官能基の単核また
は多核の芳香族基であり、Zの構造は二つのOH基が各
々直接芳香族系の炭素原子に結合しているようである、 に対応する化合物である。
ボネートの製造のために好ましいジフェノールは、以下
の式: %式%([) 式中、 Zは6ないし30の炭素原子を含む二官能基の単核また
は多核の芳香族基であり、Zの構造は二つのOH基が各
々直接芳香族系の炭素原子に結合しているようである、 に対応する化合物である。
特に好ましいジフェノールは、以下の弐式中、
Yは単結合、C,−C,アルキレンまたはアルキリデン
基、C5−Ct*シクロアルキレンまたはシクロアルキ
リデン基、−〇−1 に対応する化合物、及びまた核アルキル化されたそして
核ハロゲン化されたこれらの誘導体、例えばヒドロキノ
ン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−
(ヒドロキシフェニル)−アルカン、ビス−(ヒドロキ
シフェニル)−シクロアルカン、ビス−(ヒドロキシフ
ェニル)−エーテル、ビス−(ヒドロキシフェニル)−
ケトン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルホキシド
、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルホン及ヒα、σ
′−ビス−(ヒドロキシフェニル)−ジイソプロピルベ
ンゼン、及びまた核アルキル化されたそして核ハロゲン
化されたこれらの誘導体である。。
基、C5−Ct*シクロアルキレンまたはシクロアルキ
リデン基、−〇−1 に対応する化合物、及びまた核アルキル化されたそして
核ハロゲン化されたこれらの誘導体、例えばヒドロキノ
ン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−
(ヒドロキシフェニル)−アルカン、ビス−(ヒドロキ
シフェニル)−シクロアルカン、ビス−(ヒドロキシフ
ェニル)−エーテル、ビス−(ヒドロキシフェニル)−
ケトン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルホキシド
、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルホン及ヒα、σ
′−ビス−(ヒドロキシフェニル)−ジイソプロピルベ
ンゼン、及びまた核アルキル化されたそして核ハロゲン
化されたこれらの誘導体である。。
もっとも重要なジフェノールは、ビスフェノールA1テ
トラメチルビスフエノールA、 1.1−ビス=(4−
ヒドロキシフェニル)−イソブタン、1、l−ビス−(
4−ヒ)’ロキシフェニル)−シクロヘキサン、4.4
’−ジヒドロキシジフエニルスルフイド、4.4’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン及びまたこれらのジモし
てテトラハロゲン化誘導体である。ビスフェノールAが
特に好ましい。述べられたジフェノールの混合物を使用
することもできる。
トラメチルビスフエノールA、 1.1−ビス=(4−
ヒドロキシフェニル)−イソブタン、1、l−ビス−(
4−ヒ)’ロキシフェニル)−シクロヘキサン、4.4
’−ジヒドロキシジフエニルスルフイド、4.4’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン及びまたこれらのジモし
てテトラハロゲン化誘導体である。ビスフェノールAが
特に好ましい。述べられたジフェノールの混合物を使用
することもできる。
可能な分岐剤は、DE−OS 2949924及び30
07934中に述べられている。
07934中に述べられている。
芳香族ポリエステル及びポリエステルカーボネートのた
めの好ましい連鎖停止剤は、フェノール、CI−CI2
アルキル基を含むアルキルフェノール、ハロゲン化され
たフェノール、ヒドロキシジフェニル、ナフトール、こ
のようなフェノール性化合物のクロロ炭酸エステル、及
び随時C、−C2□アルキル基及びハロゲン原子によっ
て置換されていてよい芳香族モノカルボン酸の塩化物で
ある。これらの連鎖停止剤は、0.1ないし10モル%
の量で(フェノール類の場合、酸二塩化物を基にして)
使用される。22までの炭素原子を含む脂肪族モノカル
ボン酸の塩化物もまた適当である。
めの好ましい連鎖停止剤は、フェノール、CI−CI2
アルキル基を含むアルキルフェノール、ハロゲン化され
たフェノール、ヒドロキシジフェニル、ナフトール、こ
のようなフェノール性化合物のクロロ炭酸エステル、及
び随時C、−C2□アルキル基及びハロゲン原子によっ
て置換されていてよい芳香族モノカルボン酸の塩化物で
ある。これらの連鎖停止剤は、0.1ないし10モル%
の量で(フェノール類の場合、酸二塩化物を基にして)
使用される。22までの炭素原子を含む脂肪族モノカル
ボン酸の塩化物もまた適当である。
それらがフェノール性化合物である場合には、連鎖停止
剤は、反応の始まる前にまたは反応の間に反応混合物に
添加1−でよい。しかしながら、それらがなお反応しそ
して連鎖を止めることができるのを確実にするために、
十分な塩化物及び/またはホスゲンがなお利用できねば
ならない。例えば、連鎖停止剤はジフェノールと一緒に
使用されてよく、そして芳香族ジカルボン酸の塩化物の
溶液中に存在してよく、あるいは予備線金物の製造後に
反応混合物に添加り、−rよい。
剤は、反応の始まる前にまたは反応の間に反応混合物に
添加1−でよい。しかしながら、それらがなお反応しそ
して連鎖を止めることができるのを確実にするために、
十分な塩化物及び/またはホスゲンがなお利用できねば
ならない。例えば、連鎖停止剤はジフェノールと一緒に
使用されてよく、そして芳香族ジカルボン酸の塩化物の
溶液中に存在してよく、あるいは予備線金物の製造後に
反応混合物に添加り、−rよい。
酸塩化物及びクロロ炭酸エステルが連鎖停止剤として使
用される場合には、それらは好ましくは芳香族ジカルボ
ン酸二塩化物及び/またはホスゲンと一緒に使用される
。これらの連鎖停止剤はまた、ジカルボン酸の塩化物及
びホスゲンが既に大部分または完全に反応した時点で反
応混合物に添加することもできる。
用される場合には、それらは好ましくは芳香族ジカルボ
ン酸二塩化物及び/またはホスゲンと一緒に使用される
。これらの連鎖停止剤はまた、ジカルボン酸の塩化物及
びホスゲンが既に大部分または完全に反応した時点で反
応混合物に添加することもできる。
芳香族ポリエステル及びポリエステルカーボネートの合
成においては、ジカルボン酸及びジヒドロキシ化合物の
30モル%までは、脂肪族基、例えばアジピン酸、ブタ
ン−1,4−ジオールが含まれてもよい。
成においては、ジカルボン酸及びジヒドロキシ化合物の
30モル%までは、脂肪族基、例えばアジピン酸、ブタ
ン−1,4−ジオールが含まれてもよい。
加えて、芳香族ポリエステル及びポリエステルカーボネ
ートはまた、部分的に芳香族ヒドロキシカルボン酸、例
えばp−ヒドロキシ安息香酸から合成されてもよい。こ
のようなヒドロキシカルボン酸の割合は、100モル%
(ビスフェノールを基にして)まででよい。
ートはまた、部分的に芳香族ヒドロキシカルボン酸、例
えばp−ヒドロキシ安息香酸から合成されてもよい。こ
のようなヒドロキシカルボン酸の割合は、100モル%
(ビスフェノールを基にして)まででよい。
イン7タル酸及びテレフタル酸が共に芳香族ポリエステ
ル及びポリエステルカーボネートの合成に含まれる場合
には、それらの間の比は1:20ないし20:1でよい
。
ル及びポリエステルカーボネートの合成に含まれる場合
には、それらの間の比は1:20ないし20:1でよい
。
本発明の目的のために適当な芳香族ポリエステルカーボ
ネートは、エステル及びカーボネート基の和を基にして
、80モル%までのそして好ましくは50モル%までの
カーボネート基を含んでよい。
ネートは、エステル及びカーボネート基の和を基にして
、80モル%までのそして好ましくは50モル%までの
カーボネート基を含んでよい。
本発明による芳香族ポリエステルカーボネートのエステ
ル成分及びカーボネート成分の両方とも、ブロックの形
であるいは統計的な分布で重縮合物中に存在してよい。
ル成分及びカーボネート成分の両方とも、ブロックの形
であるいは統計的な分布で重縮合物中に存在してよい。
芳香族ポリエステル及びポリエステルカーボネートの製
造は公知でありそして例えばDE−OS 149562
6.2232877.2703376.3000610
.2949924.3007934中に述べられている
。界面法が特に好ましい。
造は公知でありそして例えばDE−OS 149562
6.2232877.2703376.3000610
.2949924.3007934中に述べられている
。界面法が特に好ましい。
芳香族ポリエステル及びポリエステルカーボネートの相
対溶液粘度(+7.。I)は、1.18ないし1.4の
範囲内にそして好ましくは1.22ないし1.3の範囲
内にある(25°Cで10On+IのCH,CI、溶液
中の0゜5gのポリエステルカーボネートのポリエステ
ルの溶液で測定して)。
対溶液粘度(+7.。I)は、1.18ないし1.4の
範囲内にそして好ましくは1.22ないし1.3の範囲
内にある(25°Cで10On+IのCH,CI、溶液
中の0゜5gのポリエステルカーボネートのポリエステ
ルの溶液で測定して)。
本発明に従って保護されるべき成形物は、好ましくは、
シート、壁のついた(walled)シート、プロフィ
ール(prof i 1es)、壁のついたプロフィー
ル、フィルム、窓プロフィール及びすべての種類の構造
的部品、即ち例えばランプハウジング、スクリーン、カ
バーパネルなどである。これらのような成形物の押出し
による製造は公知である。パネルは好ましくは0 、5
mmないし30mmの厚さを持つべきである。
シート、壁のついた(walled)シート、プロフィ
ール(prof i 1es)、壁のついたプロフィー
ル、フィルム、窓プロフィール及びすべての種類の構造
的部品、即ち例えばランプハウジング、スクリーン、カ
バーパネルなどである。これらのような成形物の押出し
による製造は公知である。パネルは好ましくは0 、5
mmないし30mmの厚さを持つべきである。
UV吸収剤を含むプラスチックは公知である(例えば、
US−PS 3.004.896、プラスチック74(
1984)、620ないし623頁、プラスチック添加
物のポケットブック、第2版、Dr、 F、ググムス(
Gugumus)、”熱可塑性プラスチックのための光
保護剤゛′、124頁以降及びUS−PS 2.965
,578参照)。
US−PS 3.004.896、プラスチック74(
1984)、620ないし623頁、プラスチック添加
物のポケットブック、第2版、Dr、 F、ググムス(
Gugumus)、”熱可塑性プラスチックのための光
保護剤゛′、124頁以降及びUS−PS 2.965
,578参照)。
熱可塑性プラスチックの共押出しもまた公知であり(例
えば“シート及び箔の共押出しの概要″、プラスチック
相談書10(1976)、538ないし541頁、DE
−OS 2832676、EP−O30065619、
EP−PS O110221及びnE−O532449
53参照)、、UV吸収剤を含むプラスチックでのプラ
スチックの被覆もまた、この先行技術中に述べられてい
る。しかしながら、これらの方法には、なかんずく共押
出し方法を窓プロフィールの製造のために真空中で実施
しなければならない時には、UV吸収剤の潜在的な移動
から生じる問題が常にある。この理由のために、安全で
あるためには、二層法(two−1ayer proc
ess)(DE−O53244953及びEP−O50
110238参照)に変更することが必要であるが、こ
れはまさしく付加的な出費を含む。
えば“シート及び箔の共押出しの概要″、プラスチック
相談書10(1976)、538ないし541頁、DE
−OS 2832676、EP−O30065619、
EP−PS O110221及びnE−O532449
53参照)、、UV吸収剤を含むプラスチックでのプラ
スチックの被覆もまた、この先行技術中に述べられてい
る。しかしながら、これらの方法には、なかんずく共押
出し方法を窓プロフィールの製造のために真空中で実施
しなければならない時には、UV吸収剤の潜在的な移動
から生じる問題が常にある。この理由のために、安全で
あるためには、二層法(two−1ayer proc
ess)(DE−O53244953及びEP−O50
110238参照)に変更することが必要であるが、こ
れはまさしく付加的な出費を含む。
別の可能性は、重合性UV吸収剤を使用することである
(例えばDE−O52231531、DE−O3223
1532、EP−O5O141140、DE−O534
24066及びDE−O33424555参照)。しか
しながら、重合性UV吸収剤の使用は、UV吸収剤と保
護されるべき母体との間に不適合性が生じ得るという欠
点を有する。
(例えばDE−O52231531、DE−O3223
1532、EP−O5O141140、DE−O534
24066及びDE−O33424555参照)。しか
しながら、重合性UV吸収剤の使用は、UV吸収剤と保
護されるべき母体との間に不適合性が生じ得るという欠
点を有する。
加えて、公知の重合性UV吸収剤は、例えば本来UVに
不安定であるか及び/または保護されるべき母体を砕け
やすくする(例えばポリカーボネートのためのPMMA
ベースの重合性UV吸収剤の場合には)。
不安定であるか及び/または保護されるべき母体を砕け
やすくする(例えばポリカーボネートのためのPMMA
ベースの重合性UV吸収剤の場合には)。
加えて、ポリアクリレートまたはポリカーボネート成形
物を、同一のまたは異なる熱可塑性プラスチックのUV
吸収剤を含む溶液で被覆することができることが知られ
ている(DE−O51694273参照)。しかしなが
ら、このような方法の欠点は、大きな成形物を取り扱う
ことに含まれる技術的な問題を全く別にしても、被覆を
乾燥しそして硬化しなければならないことである。
物を、同一のまたは異なる熱可塑性プラスチックのUV
吸収剤を含む溶液で被覆することができることが知られ
ている(DE−O51694273参照)。しかしなが
ら、このような方法の欠点は、大きな成形物を取り扱う
ことに含まれる技術的な問題を全く別にしても、被覆を
乾燥しそして硬化しなければならないことである。
ポリカーボネートをUV吸収剤を含む溶液で含浸するこ
とができることもまた知られている(例えばUS−PS
S 3,617,330及び3,892.889参照)
。この方法もまた、付加的な乾燥工程及び大きな成形物
と浴の複雑な取り扱いの欠点を有する。
とができることもまた知られている(例えばUS−PS
S 3,617,330及び3,892.889参照)
。この方法もまた、付加的な乾燥工程及び大きな成形物
と浴の複雑な取り扱いの欠点を有する。
本発明に従って使用されるべき式(I)のUV吸収剤は
公知である(例えばDE−O51670951チエコ特
許146360、EP−O50180993、EP−O
3Q180991及びEP−OS O180992参照
)。
公知である(例えばDE−O51670951チエコ特
許146360、EP−O50180993、EP−O
3Q180991及びEP−OS O180992参照
)。
これらのUV吸収剤は、プラスチック中(DE−O51
670951参照)そしてラッカー中(EP〜O301
80991参照)の両方で使用される。
670951参照)そしてラッカー中(EP〜O301
80991参照)の両方で使用される。
式Iに対応するUV吸収剤の使用は、これまでのところ
四つの異なる出願中で述べられてきた。
四つの異なる出願中で述べられてきた。
DE−OS 1670951は、ポリオレフィン、ポリ
エステル、PvC及びポリ塩化ビニリデン中でのそして
さらに特別にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート及びポリ塩化ビニル中での、アルキレン−ビ
ス−(ベンゾトリアゾリルフェノール)のUV吸収剤と
しての使用を述べている。EP−A 0180991は
、アクリレート、アルキルまたは不飽和ポリエステル樹
脂を基にしだ熱硬化性ラッカー樹脂組成物のUV安定化
を述べている。EP−A O180992は、PVC,
ポリ−ミーオレフィン、ABSターポリマー及びポリウ
レタン樹脂のUV安定化のための、式IのUV吸収剤及
び2,2,6.6−チトラメチルビペリジン誘導体から
成る安定剤システムを述べている。第四の出願は日本特
許公告(publ 1cat 1on)No、62−1
46951である。
エステル、PvC及びポリ塩化ビニリデン中でのそして
さらに特別にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート及びポリ塩化ビニル中での、アルキレン−ビ
ス−(ベンゾトリアゾリルフェノール)のUV吸収剤と
しての使用を述べている。EP−A 0180991は
、アクリレート、アルキルまたは不飽和ポリエステル樹
脂を基にしだ熱硬化性ラッカー樹脂組成物のUV安定化
を述べている。EP−A O180992は、PVC,
ポリ−ミーオレフィン、ABSターポリマー及びポリウ
レタン樹脂のUV安定化のための、式IのUV吸収剤及
び2,2,6.6−チトラメチルビペリジン誘導体から
成る安定剤システムを述べている。第四の出願は日本特
許公告(publ 1cat 1on)No、62−1
46951である。
四つの出願のすべてにおいて、UV及び風化(Weat
her)安定化された組成物は、UV吸収剤を保護され
るべさポリマーと混合することによって製造される。
her)安定化された組成物は、UV吸収剤を保護され
るべさポリマーと混合することによって製造される。
しかしながら、表面層中のこれらの特別なUV吸収剤を
光に感じやすい熱可塑性プラスチックの成形物に共押出
しによって付与することは明白ではなかった。何故なら
ば、得られる被覆された成形物は、驚くべきほど好まし
い性質の組み合わせ、即ち式Iに対応するUV吸収剤を
用いる二層法によって可能であるよりも優れた耐候性と
組み合わされた低い静電帯電性を示すからである。より
低い黄変値(yellowing values)に加
えて、より高いり7ネス(toughness)水準も
また測定されるが、これは特に驚くべきことである。こ
のような共押出し成形物の低い静電帯電性もまた驚くべ
きことである。90重量部のポリカーボネート及び10
重量部の式1(R’−’=H,R”= i−オクチル、
cld−1)に対応するUV吸収剤から成る、40μm
厚さの層で被覆された二重壁のついた(double
wafled)ポリカーボネートのシートは、ドラロン
(Dralon)布で50回こすった後で、被覆されて
いないポリカーボネートの僅かに半分の静電帯電を示す
に過ぎない。
光に感じやすい熱可塑性プラスチックの成形物に共押出
しによって付与することは明白ではなかった。何故なら
ば、得られる被覆された成形物は、驚くべきほど好まし
い性質の組み合わせ、即ち式Iに対応するUV吸収剤を
用いる二層法によって可能であるよりも優れた耐候性と
組み合わされた低い静電帯電性を示すからである。より
低い黄変値(yellowing values)に加
えて、より高いり7ネス(toughness)水準も
また測定されるが、これは特に驚くべきことである。こ
のような共押出し成形物の低い静電帯電性もまた驚くべ
きことである。90重量部のポリカーボネート及び10
重量部の式1(R’−’=H,R”= i−オクチル、
cld−1)に対応するUV吸収剤から成る、40μm
厚さの層で被覆された二重壁のついた(double
wafled)ポリカーボネートのシートは、ドラロン
(Dralon)布で50回こすった後で、被覆されて
いないポリカーボネートの僅かに半分の静電帯電を示す
に過ぎない。
従って、本発明による方法は、異なる厚さの大表面積の
熱可塑性成形物の筒素化された製造及び改良されたUV
及び風化安定化という、先行技術をしのぐ利点を有する
。
熱可塑性成形物の筒素化された製造及び改良されたUV
及び風化安定化という、先行技術をしのぐ利点を有する
。
従って、本発明はまた、熱可塑性プラスチックの5μm
ないし100μmそして好ましくは20μmないし50
μmの厚さの層で被覆された、光に感じやすい熱可塑性
プラスチックの成形物であって、この層が式■に対応す
るUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%、好まし
くは2重量%ないし15重量%そしてさらに好ましくは
5重量%ないし10重量%含むことを特徴とする成形物
に関する。
ないし100μmそして好ましくは20μmないし50
μmの厚さの層で被覆された、光に感じやすい熱可塑性
プラスチックの成形物であって、この層が式■に対応す
るUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%、好まし
くは2重量%ないし15重量%そしてさらに好ましくは
5重量%ないし10重量%含むことを特徴とする成形物
に関する。
式■に対応するUV吸収剤は、表面層として使用される
べき熱可塑性プラスチック中に、標準の方法によって、
例えばUV吸収剤を粒状または粉末状グラスチック材料
そのものと混合することによっであるいはUV吸収剤の
溶液を適当な有機溶媒、例えばCH,C1,、ハロアル
カン、芳香族ハロゲン化合物、クロロベンゼン、キシレ
ンなどの中のプラスチックの溶液と混合することによっ
て、混入されてよい。次にこの混合物を押出しによって
公知の方法で均一化する。溶媒の蒸発の後で、溶液混合
物を、例えば、公知の方法で混合する。
べき熱可塑性プラスチック中に、標準の方法によって、
例えばUV吸収剤を粒状または粉末状グラスチック材料
そのものと混合することによっであるいはUV吸収剤の
溶液を適当な有機溶媒、例えばCH,C1,、ハロアル
カン、芳香族ハロゲン化合物、クロロベンゼン、キシレ
ンなどの中のプラスチックの溶液と混合することによっ
て、混入されてよい。次にこの混合物を押出しによって
公知の方法で均一化する。溶媒の蒸発の後で、溶液混合
物を、例えば、公知の方法で混合する。
本発明に従った共押出しによる表面層の付与は、公知の
共押出し押出機で公知の方法で行われる。
共押出し押出機で公知の方法で行われる。
好ましい共押出し法は、例えば、アダプター法(ada
ptor process)(実施例参照)である。
ptor process)(実施例参照)である。
コア層として使用される光に感じやすい熱可塑性プラス
チック、及び表面層の熱可塑性の、しかし必ずしも光に
感じやすくはないプラスチックの両方とも、各々のプラ
スチックのための通常の添加物、例えば充填剤、補強剤
、防炎剤、顔料、帯電防止剤、染料、潤滑剤及び/また
は離型剤を含んでよい。これらは通常の方法で混入され
てよい。
チック、及び表面層の熱可塑性の、しかし必ずしも光に
感じやすくはないプラスチックの両方とも、各々のプラ
スチックのための通常の添加物、例えば充填剤、補強剤
、防炎剤、顔料、帯電防止剤、染料、潤滑剤及び/また
は離型剤を含んでよい。これらは通常の方法で混入され
てよい。
実施例:
UV吸収剤:
比較のために使用されたUV吸収剤
CH1
線状ホモポリカーボネート
連鎖停止剤としての7エノールで調節されそして1゜3
1の相対溶液粘度(ジクロロメタン中の0.5%溶液で
25°Cで測定して)を有する、ビスフェノールAを基
にしたポリカーボネート。
1の相対溶液粘度(ジクロロメタン中の0.5%溶液で
25°Cで測定して)を有する、ビスフェノールAを基
にしたポリカーボネート。
UV吸収剤を含む表面層物質(compounds)の
製造:10重量%のUV吸収剤を、ニスクリユー(tw
in−screw)押出機(ベルナーアンド グライダ
ラ−(Werner and Pfleiderer)
ZSK 32)中で280℃/80r、p、m。
製造:10重量%のUV吸収剤を、ニスクリユー(tw
in−screw)押出機(ベルナーアンド グライダ
ラ−(Werner and Pfleiderer)
ZSK 32)中で280℃/80r、p、m。
で熱可塑性プラスチック中に混入し、そして生成する押
出物を粒状化した。
出物を粒状化した。
二重壁のついたシートの単層(single 1aye
r)共押出し: 単層で被覆されたプラスチックシート(コア層10mm
、表面層40μm)を、シートダイ(die)を用いて
アダプター法によって連続的に共押出しする。
r)共押出し: 単層で被覆されたプラスチックシート(コア層10mm
、表面層40μm)を、シートダイ(die)を用いて
アダプター法によって連続的に共押出しする。
まだ熱い二重壁のついI;シート押出物の変形を防ぐた
めに、ダイを離れる前に、それをキャリブレータ−(c
alibrator)を通して通過させる。最後に、シ
ートを必要な長さに切断する。
めに、ダイを離れる前に、それをキャリブレータ−(c
alibrator)を通して通過させる。最後に、シ
ートを必要な長さに切断する。
本発明に従って使用されるべきUV吸収剤工を用いると
、この単層法を、機械に関してもまた製品に関しても全
く問題なしに比較的長い製造時間にわたって実施するこ
とができる。UV吸収剤■の使用は、非常に早く蒸発及
び沈積(depos ;t 1on)の問題をもたらす
。キャリブレータ−が閉塞され及び/またはシートの光
学的性質が台なしになる。
、この単層法を、機械に関してもまた製品に関しても全
く問題なしに比較的長い製造時間にわたって実施するこ
とができる。UV吸収剤■の使用は、非常に早く蒸発及
び沈積(depos ;t 1on)の問題をもたらす
。キャリブレータ−が閉塞され及び/またはシートの光
学的性質が台なしになる。
比較
比較のため、アダプター法によって同様に共押出しされ
た二重壁のついたシートを、単層の例の高いUV吸収剤
含量の第一の表面層に、より低いUV吸収剤含量(0,
3重量%)の別の薄い表面層(10μm)を付与するこ
とによって、二つの表面層で製造した。
た二重壁のついたシートを、単層の例の高いUV吸収剤
含量の第一の表面層に、より低いUV吸収剤含量(0,
3重量%)の別の薄い表面層(10μm)を付与するこ
とによって、二つの表面層で製造した。
試験
これらのシートを、6.5Wキセノンランプを用いてア
トラス風化−〇−メーター(Atlas weathe
r−o−+++eter)(アトラス、USA)中で風
化させた(サイクル: 102分露光(exposur
e)そして18分ランプを点灯して脱塩水でスプレー)
。最高黒板(blackboard)温度は60°C(
±5°C)であった。板(plates)を1000h
後に試験した。タフネスの模擬の実用的な試験のために
、DIN 53443に従って多重壁シートについて開
発された修正落球試験を実施した。この試験は、落下す
るひょう(hailstone)に対する類似の二軸応
力(5tressing)を生成する意図の5mm径の
侵入物体によって引き起こされる損傷W、を測定する。
トラス風化−〇−メーター(Atlas weathe
r−o−+++eter)(アトラス、USA)中で風
化させた(サイクル: 102分露光(exposur
e)そして18分ランプを点灯して脱塩水でスプレー)
。最高黒板(blackboard)温度は60°C(
±5°C)であった。板(plates)を1000h
後に試験した。タフネスの模擬の実用的な試験のために
、DIN 53443に従って多重壁シートについて開
発された修正落球試験を実施した。この試験は、落下す
るひょう(hailstone)に対する類似の二軸応
力(5tressing)を生成する意図の5mm径の
侵入物体によって引き起こされる損傷W、を測定する。
室温で、36kgの重量物を、0.2mの高さから、2
0mmの内径を有する支持リング上に自由に置かれた試
験標本上に落下させる。
0mmの内径を有する支持リング上に自由に置かれた試
験標本上に落下させる。
この試験は、圧縮領域において(in the com
pression zone)試験標本の風化された側
で実施される。破損パターンFPの特性を数によって表
す:l=割れた、2=穏やかな破損、3=壊れやすい(
brittle)、4=タフ。
pression zone)試験標本の風化された側
で実施される。破損パターンFPの特性を数によって表
す:l=割れた、2=穏やかな破損、3=壊れやすい(
brittle)、4=タフ。
黄色指数Ylを、DIN 6167に従って測定した黄
色値として表す。
色値として表す。
板の光沢(gloss)値を、60°の傾斜角でDIN
67530に従って測定する。
67530に従って測定する。
表2及び3は、製造された二重壁のついたシートのデー
タそしてまた風化試験の結果を示す。
タそしてまた風化試験の結果を示す。
手短に言えば、二つの表面層を有して成るもの(ver
s 1on)は、移動でさるUV吸収剤が使用される場
合にだけ好ましい風化性質を示し、これは移動できるU
V吸収剤だけが表面領域に集中することが可能であるか
らと言えるであろう。単一の表面層を有して成る本発明
によるものは、容易に製造される。−層の改良が、風化
後の光沢、黄変及び侵入抵抗において得られる。
s 1on)は、移動でさるUV吸収剤が使用される場
合にだけ好ましい風化性質を示し、これは移動できるU
V吸収剤だけが表面領域に集中することが可能であるか
らと言えるであろう。単一の表面層を有して成る本発明
によるものは、容易に製造される。−層の改良が、風化
後の光沢、黄変及び侵入抵抗において得られる。
表2
UV吸収剤■
二層シート(Bl) PCPC+IO% PC+
0.3%UV吸収剤I UV吸収剤■ 二層シート(B2) PCPC+IO% P
C+0.3%Uv吸収剤■ υ■吸収剤■ l)ポリカーボネート M、−30,000表−1 試験 風化、キノセン WOM 光沢(60℃) YI W、(J)
破損パターン Oh 500h Oh 500h Oh 5
00h 500h1000h 1000h
1.000h ]0OOhA 123
+、16 1,3 5.2 2,3 2.3 4B
l 129 113 1.5 6.2 − −
482 − − 2.0 6,8 2.0
1.1 3我々の先行のドイツ特許出願P 361
7978.7(Le A 24568)及びP 370
9779.2(Le A 24164)の主題は、本発
明の主題から除かれる。
0.3%UV吸収剤I UV吸収剤■ 二層シート(B2) PCPC+IO% P
C+0.3%Uv吸収剤■ υ■吸収剤■ l)ポリカーボネート M、−30,000表−1 試験 風化、キノセン WOM 光沢(60℃) YI W、(J)
破損パターン Oh 500h Oh 500h Oh 5
00h 500h1000h 1000h
1.000h ]0OOhA 123
+、16 1,3 5.2 2,3 2.3 4B
l 129 113 1.5 6.2 − −
482 − − 2.0 6,8 2.0
1.1 3我々の先行のドイツ特許出願P 361
7978.7(Le A 24568)及びP 370
9779.2(Le A 24164)の主題は、本発
明の主題から除かれる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1、熱可塑性プラスチックの成形物を、熱可塑性プラス
チックの共押出しされた5μmないし100μm厚さの
層で被覆するための方法であって、この層が、以下の式 式中、 R1及びR2は同一または異なっていてよくぞしてH1
ハロゲン、C,−C,。アルキル、C、−c II+シ
クロアルキル、C、−c tsアラルキル、C5−C+
4アリール、−〇R′または一000R’を表し、ここ
でR7はH,C,−C,、フルキル、C、−C、。シク
ロアルキル、C、−c 13アラルキル、Cy−Cr4
アリールを表し、R3及びR4は同一または異なってい
てよくモしてHlCI−C+sデアルル、CS−C、シ
クロアルキル、CアーC3゜アラルキルまたはC0−C
1,アリールを表し、 R6及びR6は同一または異なっていてよくモしてCt
−c ISアルキル、C、−C、。シクロアルキル、C
、−C、。アラルキル、C、−C、、アリール、−OR
’または一〇〇OR’を表し、a%bは同一または異な
っていてよくそして1,2.3または4の値を有し、モ
してc、dは同一または異なっていてよくモして1,2
または3の値を有する、 に対応するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%
含むことを特徴とし、先行のドイツ特許出願P3617
978.7及びP 3709779.2の主題を除いた
、方法。
チックの共押出しされた5μmないし100μm厚さの
層で被覆するための方法であって、この層が、以下の式 式中、 R1及びR2は同一または異なっていてよくぞしてH1
ハロゲン、C,−C,。アルキル、C、−c II+シ
クロアルキル、C、−c tsアラルキル、C5−C+
4アリール、−〇R′または一000R’を表し、ここ
でR7はH,C,−C,、フルキル、C、−C、。シク
ロアルキル、C、−c 13アラルキル、Cy−Cr4
アリールを表し、R3及びR4は同一または異なってい
てよくモしてHlCI−C+sデアルル、CS−C、シ
クロアルキル、CアーC3゜アラルキルまたはC0−C
1,アリールを表し、 R6及びR6は同一または異なっていてよくモしてCt
−c ISアルキル、C、−C、。シクロアルキル、C
、−C、。アラルキル、C、−C、、アリール、−OR
’または一〇〇OR’を表し、a%bは同一または異な
っていてよくそして1,2.3または4の値を有し、モ
してc、dは同一または異なっていてよくモして1,2
または3の値を有する、 に対応するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%
含むことを特徴とし、先行のドイツ特許出願P3617
978.7及びP 3709779.2の主題を除いた
、方法。
2、式IのUV吸収剤において、
R1及びR2はH,CIまたはCH3を表し、R3及び
R4はHまたはC、−C4アルキルを表し、 Rs及びR6はC4−C11アルキル、シクロヘキシル
、C7−Csアラルキル、フェニルまたはナフチルを表
し、そして a=b=c=d=1である、 ことを特徴とする、上記1に記載の方法。
R4はHまたはC、−C4アルキルを表し、 Rs及びR6はC4−C11アルキル、シクロヘキシル
、C7−Csアラルキル、フェニルまたはナフチルを表
し、そして a=b=c=d=1である、 ことを特徴とする、上記1に記載の方法。
3、式IのUV吸収剤において、
R’= R2= Hであり、
R3及びR’ = HまたはCH3であり、そしR8及
びR@−C,−C,フルキル*たはCy−C,アラルキ
ルである、 ことを特徴とする、上記2に記載の方法。
びR@−C,−C,フルキル*たはCy−C,アラルキ
ルである、 ことを特徴とする、上記2に記載の方法。
4、この層が式Iに対応するUV吸収剤を2重量%ない
し15重量%含むことを特徴とする、上記lに記載の方
法。
し15重量%含むことを特徴とする、上記lに記載の方
法。
5、この層が式Iに対応するUV吸収剤を5重量%ない
し10重量%含むことを特徴とする、上記4に記載の方
法。
し10重量%含むことを特徴とする、上記4に記載の方
法。
6、上記lないし5に記載の方法によって得られる被覆
された成形物。
された成形物。
7、熱可塑性プラスチックの5μmないし100μm厚
さの層で被覆された熱可塑性プラスチックの成形物であ
って、この層が特許請求の範囲第1項記載の式■に対応
するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%含むこ
とを特徴とし、先行のドイツ特許出願P 361797
8.7及びP 3709779’、2の主題を除いた、
成形物。
さの層で被覆された熱可塑性プラスチックの成形物であ
って、この層が特許請求の範囲第1項記載の式■に対応
するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%含むこ
とを特徴とし、先行のドイツ特許出願P 361797
8.7及びP 3709779’、2の主題を除いた、
成形物。
8、この層が式■に対応するUV吸収剤を2重量%ない
し15重量%含むことを特徴とする、上記7に記載の成
形物。
し15重量%含むことを特徴とする、上記7に記載の成
形物。
9、この層が式■に対応するUV吸収剤を5重量%ない
し10重量%含むことを特徴とする、上記8に記載の成
形物。
し10重量%含むことを特徴とする、上記8に記載の成
形物。
10、該表面層が20μmないし50μmの厚さである
ことを特徴とする、上記lに記載の成形物を被覆するた
めの方法。
ことを特徴とする、上記lに記載の成形物を被覆するた
めの方法。
11、該表面層が20μmないし50μmの厚さである
ことを特徴とする、上記7に記載の成形物。
ことを特徴とする、上記7に記載の成形物。
12、該表面層が防炎剤、帯電防止剤、染料、潤滑剤及
び/または離型剤を含むことを特徴とする、上記7に記
載の被覆された成形物。
び/または離型剤を含むことを特徴とする、上記7に記
載の被覆された成形物。
13、該成形物が充填剤、補強剤、防炎剤、顔料、染料
、潤滑剤及び/または離型剤を含むことを特徴とする、
上記7に記載の被覆された成形物。
、潤滑剤及び/または離型剤を含むことを特徴とする、
上記7に記載の被覆された成形物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、熱可塑性プラスチックの成形物を、熱可塑性プラス
チックの共押出しされた5μmないし100μm厚さの
層で被覆するための方法であって、この層が、以下の式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1及びR^2は同一または異なっていてよくそして
H、ハロゲン、C_1−C_1_0アルキル、C_5−
C_1_0シクロアルキル、C_7−C_1_3アラル
キル、C_6−C_1_4アリール、−OR^7または
−COOR^7を表し、ここでR^7はH、C_1−C
_1_0アルキル、C_5−C_1_0シクロアルキル
、C_7−C_1_3アラルキル、C_6−C_1_4
アリールを表し、R^3及びR^4は同一または異なっ
ていてよくそしてH、C_1−C_1_6アルキル、C
_6−C_8シクロアルキル、C_7−C_2_0アラ
ルキルまたはC_6−C_1_4アリールを表し、 R^5及びR^6は同一または異なっていてよくそして
C_2−C_1_5アルキル、C_5−C_1_0シク
ロアルキル、C_7−C_2_0アラルキル、C_6−
C_1_4アリール、−OR^7または−COOR^7
を表し、a、bは同一または異なっていてよくそし て1、2、3または4の値を有し、そして c、dは同一または異なっていてよくそし て1、2または3の値を有する、 に対応するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%
含むことを特徴とし、先行のドイツ特許出願P3617
978.7及びP3709779.2の主題を除いた、
方法。 2、熱可塑性プラスチックの5μmないし100μm厚
さの層で被覆された熱可塑性プラスチックの成形物であ
って、この層が特許請求の範囲第1項記載の式 I に対
応するUV吸収剤を0.1重量%ないし20重量%含む
ことを特徴とし、先行のドイツ特許出願P361797
8.7及びP3709779.2の主題を除いた、成形
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873739765 DE3739765A1 (de) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | Beschichtete formkoerper und ein verfahren zu ihrer herstellung |
DE3739765.6 | 1987-11-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01165419A true JPH01165419A (ja) | 1989-06-29 |
JPH0641162B2 JPH0641162B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=6341133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63290295A Expired - Lifetime JPH0641162B2 (ja) | 1987-11-24 | 1988-11-18 | 被覆された成形物及びそれらの製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5108835A (ja) |
EP (1) | EP0320632B1 (ja) |
JP (1) | JPH0641162B2 (ja) |
AT (1) | ATE82308T1 (ja) |
BR (1) | BR8806153A (ja) |
CA (1) | CA1325703C (ja) |
DE (2) | DE3739765A1 (ja) |
ES (1) | ES2036247T3 (ja) |
IL (1) | IL88430A (ja) |
RU (1) | RU1782211C (ja) |
UA (1) | UA15669A (ja) |
ZA (1) | ZA888761B (ja) |
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
JP2000212170A (ja) * | 1999-01-21 | 2000-08-02 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 増強された耐久性を有するベンゾトリアゾ―ルuv吸収剤 |
US6333114B1 (en) | 1999-03-02 | 2001-12-25 | Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha | Polycarbonate resin coextruded article |
US7473723B2 (en) | 2004-01-20 | 2009-01-06 | Teijin Chemicals, Ltd. | Spectacles lens and production method thereof |
WO2009102071A1 (ja) | 2008-02-13 | 2009-08-20 | Teijin Chemicals Ltd. | ポリカーボネート樹脂積層シート |
JP2011051994A (ja) * | 1999-05-03 | 2011-03-17 | Ciba Holding Inc | 高度に溶解性で、レッド−シフトされた、光安定なベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を含む安定化された接着剤組成物及びそれから誘導された積層物品 |
Families Citing this family (57)
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---|---|---|---|---|
US4948666A (en) * | 1988-04-22 | 1990-08-14 | Mobay Corporation | Stain resistant polycarbonate panels |
DE9206106U1 (de) * | 1992-05-06 | 1992-08-06 | Ems-Inventa AG, Zürich | Oberflächenresistente Bauteile |
DE4216103A1 (de) * | 1992-05-15 | 1993-11-18 | Roehm Gmbh | Folie-geschützter Polycarbonatkunststoffkörper |
US5387691A (en) * | 1993-03-05 | 1995-02-07 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(benzotriazol-2-yl)-4-alkyl-6-(2-hydroxy-3-benzoyl-6-alkoxybenzyl)phenols and stabilized compositions |
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