JPH01163741A - 膜厚分布膜の製造方法 - Google Patents
膜厚分布膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH01163741A JPH01163741A JP32166487A JP32166487A JPH01163741A JP H01163741 A JPH01163741 A JP H01163741A JP 32166487 A JP32166487 A JP 32166487A JP 32166487 A JP32166487 A JP 32166487A JP H01163741 A JPH01163741 A JP H01163741A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- area
- substance
- light
- thickness distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- QDZOEBFLNHCSSF-PFFBOGFISA-N (2S)-2-[[(2R)-2-[[(2S)-1-[(2S)-6-amino-2-[[(2S)-1-[(2R)-2-amino-5-carbamimidamidopentanoyl]pyrrolidine-2-carbonyl]amino]hexanoyl]pyrrolidine-2-carbonyl]amino]-3-(1H-indol-3-yl)propanoyl]amino]-N-[(2R)-1-[[(2S)-1-[[(2R)-1-[[(2S)-1-[[(2S)-1-amino-4-methyl-1-oxopentan-2-yl]amino]-4-methyl-1-oxopentan-2-yl]amino]-3-(1H-indol-3-yl)-1-oxopropan-2-yl]amino]-1-oxo-3-phenylpropan-2-yl]amino]-3-(1H-indol-3-yl)-1-oxopropan-2-yl]pentanediamide Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(N)=O)NC(=O)[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)NC(=O)[C@H](CCC(N)=O)NC(=O)[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)NC(=O)[C@H]1N(CCC1)C(=O)[C@H](CCCCN)NC(=O)[C@H]1N(CCC1)C(=O)[C@H](N)CCCNC(N)=N)C1=CC=CC=C1 QDZOEBFLNHCSSF-PFFBOGFISA-N 0.000 claims description 5
- 102100024304 Protachykinin-1 Human genes 0.000 claims description 5
- 101800003906 Substance P Proteins 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQMWHMMJVJNCAL-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpenta-1,4-dien-3-one Chemical compound CC(=C)C(=O)C(C)=C WQMWHMMJVJNCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- CWWARWOPSKGELM-SARDKLJWSA-N methyl (2s)-2-[[(2s)-2-[[2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-5-amino-2-[[(2s)-5-amino-2-[[(2s)-1-[(2s)-6-amino-2-[[(2s)-1-[(2s)-2-amino-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]pyrrolidine-2-carbonyl]amino]hexanoyl]pyrrolidine-2-carbonyl]amino]-5-oxopentanoyl]amino]-5 Chemical compound C([C@@H](C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)OC)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)[C@H](CCC(N)=O)NC(=O)[C@H](CCC(N)=O)NC(=O)[C@H]1N(CCC1)C(=O)[C@H](CCCCN)NC(=O)[C@H]1N(CCC1)C(=O)[C@@H](N)CCCN=C(N)N)C1=CC=CC=C1 CWWARWOPSKGELM-SARDKLJWSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
プラスチック製のレンズなどのような光学素子を作製す
るのに応用できる膜厚分布膜の製造方法に関し、 光照射領域の膜厚分布を一定に制御できるようにするこ
とを目的とし、 少なくとも光反応性物質を含む膜に局部的に光を照射し
、光照射領域において光反応生成物を生成し、該光反応
生成物に光反応性物質を吸収させて、膜厚分布を得る方
法において、 光に反応して、光反応性物質あるいは光反応生成物の膜
中での移動をし易くすることのできる物質を予め膜中に
含ませた状態で、光照射を行なう。
るのに応用できる膜厚分布膜の製造方法に関し、 光照射領域の膜厚分布を一定に制御できるようにするこ
とを目的とし、 少なくとも光反応性物質を含む膜に局部的に光を照射し
、光照射領域において光反応生成物を生成し、該光反応
生成物に光反応性物質を吸収させて、膜厚分布を得る方
法において、 光に反応して、光反応性物質あるいは光反応生成物の膜
中での移動をし易くすることのできる物質を予め膜中に
含ませた状態で、光照射を行なう。
本発明は、プラスチック製のレンズなどのような光学素
子を作製するのに応用できる膜厚分布膜の製造方法に関
する。
子を作製するのに応用できる膜厚分布膜の製造方法に関
する。
本発明の出願人は、特願昭６１−１７４７１９号におい
て、第２図に示すような膜厚分布膜の製造方法を提案し
ている。この方法は、第２図（ａ）のように、基板１上
に、光反応性物質Ｍと形状保持用の高分子Ｐを混合して
塗布し、その上からマスク１を被せ、局部的に光照射す
るものである。
て、第２図に示すような膜厚分布膜の製造方法を提案し
ている。この方法は、第２図（ａ）のように、基板１上
に、光反応性物質Ｍと形状保持用の高分子Ｐを混合して
塗布し、その上からマスク１を被せ、局部的に光照射す
るものである。
ｂ）に示すように、光照射によって光照射領域Ａにおい
て、光反応生成物ｎ°が生成され、濃度が低下するため
、光反応生成物ｈ゛側に、マスク境界部２ａから光反応
性物ｉｔＭが浸透し、光照射領域Ａの体積を増加させる
０体積増加の状態で、高分子Ｐにより、膜形状が保持さ
れる。
て、光反応生成物ｎ°が生成され、濃度が低下するため
、光反応生成物ｈ゛側に、マスク境界部２ａから光反応
性物ｉｔＭが浸透し、光照射領域Ａの体積を増加させる
０体積増加の状態で、高分子Ｐにより、膜形状が保持さ
れる。
ところが、この高分子Ｐにより、光反応性物質Ｍの円滑
な浸透が妨げられ、光照射領域Ａの中心２ｂまで光反応
性物質Ｍが移動できない。あるいは、光照射領域Ａの中
で生成物台”の量が不均一になり、所望の膜形状が得ら
れないという問題があった。その結果、２ｃで示すよう
に、マスク境界部２ａ近傍のみが体積膨張して、他の領
域の体積膨張が抑制され、所望の膜厚分布膜が得られな
い。
な浸透が妨げられ、光照射領域Ａの中心２ｂまで光反応
性物質Ｍが移動できない。あるいは、光照射領域Ａの中
で生成物台”の量が不均一になり、所望の膜形状が得ら
れないという問題があった。その結果、２ｃで示すよう
に、マスク境界部２ａ近傍のみが体積膨張して、他の領
域の体積膨張が抑制され、所望の膜厚分布膜が得られな
い。
本発明の技術的課題は、従来の膜厚分布膜の製造方法に
おけるこのような問題を解消し、光照射領域の膜厚分布
を一定に制御できるようにすることにある。
おけるこのような問題を解消し、光照射領域の膜厚分布
を一定に制御できるようにすることにある。
第１図は本発明による膜厚分布膜の製造方法の基本原理
を説明する図である。本発明では、少なくとも光反応性
物質Ｍを含む膜に局部的に光を照射し、光照射領域Ａに
おいて光反応生成物Ｍ′を生成し、該光反応生成物Ｍ′
に光反応性物質Ｍを吸収させて、膜厚分布を得る際に、
光反応性物質Ｍとして、光重合する物質を用いる。また
光に反応して、光反応性物質Ｍあるいは光反応生成物Ｍ
′の膜中での移動をし易くすることのできる物質Ｐを使
用し、予め膜中に含ませた状態で、光照射を行なう、こ
の物質Ｐとしては、光により分解するポリマーを用いる
。
を説明する図である。本発明では、少なくとも光反応性
物質Ｍを含む膜に局部的に光を照射し、光照射領域Ａに
おいて光反応生成物Ｍ′を生成し、該光反応生成物Ｍ′
に光反応性物質Ｍを吸収させて、膜厚分布を得る際に、
光反応性物質Ｍとして、光重合する物質を用いる。また
光に反応して、光反応性物質Ｍあるいは光反応生成物Ｍ
′の膜中での移動をし易くすることのできる物質Ｐを使
用し、予め膜中に含ませた状態で、光照射を行なう、こ
の物質Ｐとしては、光により分解するポリマーを用いる
。
このように光分解性高分子Ｐと光重合成物質Ｍを用いて
光照射すると、光照射領域Ａにおける光分解性高分子Ｐ
は分解し、膜が柔らかくなるので、光重合成物質Ｍや光
重合体Ｍ′が光照射領域Ａの膜中において移動し易くな
る。その結果、光照射領域Ａの膜は、均一に体積膨張す
る。そして光照射領域Ａが体積膨張した状態で、重合し
た物質Ｍ′によって形状保持が行なわれる。
光照射すると、光照射領域Ａにおける光分解性高分子Ｐ
は分解し、膜が柔らかくなるので、光重合成物質Ｍや光
重合体Ｍ′が光照射領域Ａの膜中において移動し易くな
る。その結果、光照射領域Ａの膜は、均一に体積膨張す
る。そして光照射領域Ａが体積膨張した状態で、重合し
た物質Ｍ′によって形状保持が行なわれる。
次に本発明による膜厚分布膜の製造方法が実際上どのよ
うに具体化されるかを実施例で説明する。
うに具体化されるかを実施例で説明する。
実施例では、光重合する物質Ｍとして、アクリレート系
の紫外線硬化樹脂を、光により分解する物質Ｐとして、
ポリメチルイソプロペニールケトンやノボラック樹脂な
ど、ポジ型レジストに用いられている物質を用いる。こ
の光重合成物質Ｍと光分解性高分子Ｐを、両者に良溶媒
となる溶媒（例えばアセトン、ジオキサン、トリクロル
エチレンなど）に溶かす。
の紫外線硬化樹脂を、光により分解する物質Ｐとして、
ポリメチルイソプロペニールケトンやノボラック樹脂な
ど、ポジ型レジストに用いられている物質を用いる。こ
の光重合成物質Ｍと光分解性高分子Ｐを、両者に良溶媒
となる溶媒（例えばアセトン、ジオキサン、トリクロル
エチレンなど）に溶かす。
この溶液を用いて基板上に、スピンコード法により、１
〜１０μｍの厚さの膜を作る。これに、第１図のように
、パターンマスク３を被せ、超高圧水銀ランプを用いて
紫外線照射する。すると、光照射部Ａの光分解性高分子
Ｐは分解して軟化し、一方光重合成物質Ｍは重合体Ｈ′
となる。光照射部Ａには光重合体ｈ°が存在するが、未
照射部分Ｂには存在しないので、光照射領域Ａと未照射
領域Ｂとの境界２ａで浸透圧が生じ、未照射部分Ｂから
光照射部Ａに向かって光重合成物質Ｍが移動する。
〜１０μｍの厚さの膜を作る。これに、第１図のように
、パターンマスク３を被せ、超高圧水銀ランプを用いて
紫外線照射する。すると、光照射部Ａの光分解性高分子
Ｐは分解して軟化し、一方光重合成物質Ｍは重合体Ｈ′
となる。光照射部Ａには光重合体ｈ°が存在するが、未
照射部分Ｂには存在しないので、光照射領域Ａと未照射
領域Ｂとの境界２ａで浸透圧が生じ、未照射部分Ｂから
光照射部Ａに向かって光重合成物質Ｍが移動する。
こうして光照射部Ａの部分の体積が増加し、膜厚が厚く
なる。このとき、光重合成物質Ｍが光照射領域Ａの膜中
を容易に移動できるので、光照射領域Ａの膜２ｄは均一
に体積膨張する。また光重合体Ｍ′も膜２ｄ中で容易に
移動できる。
なる。このとき、光重合成物質Ｍが光照射領域Ａの膜中
を容易に移動できるので、光照射領域Ａの膜２ｄは均一
に体積膨張する。また光重合体Ｍ′も膜２ｄ中で容易に
移動できる。
以上のように本発明によれば、光重合成物質Ｍまたは光
重合体Ｍ′が膜中で容易に移動できるように、光分解性
高分子Ｐを混合して塗布し、光照射する。そのため、光
照射領域Ａの膜厚が均一に体積膨張でき、所望の膜厚分
布を得ることができる。
重合体Ｍ′が膜中で容易に移動できるように、光分解性
高分子Ｐを混合して塗布し、光照射する。そのため、光
照射領域Ａの膜厚が均一に体積膨張でき、所望の膜厚分
布を得ることができる。
第１図は本発明による膜厚分布膜の製造方法の基本原理
を説明する断面図、第２図は従来の膜厚分布膜の製造方
法を示す断面図である。 図において、１は基板、２は光照射前の膜、２ｄは光照
射後の膜、３はマスク、Ａは光照射部、Ｂは未照射部分
、Ｍは光反応性物質（光重合成物質）、Ｍ′は光反応生
成物（光重合体）、Ｐは光分解性高分子、Ｐ′光分解し
た物質をそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 本発明の林木＃埋 第１図
を説明する断面図、第２図は従来の膜厚分布膜の製造方
法を示す断面図である。 図において、１は基板、２は光照射前の膜、２ｄは光照
射後の膜、３はマスク、Ａは光照射部、Ｂは未照射部分
、Ｍは光反応性物質（光重合成物質）、Ｍ′は光反応生
成物（光重合体）、Ｐは光分解性高分子、Ｐ′光分解し
た物質をそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 本発明の林木＃埋 第１図
Claims (1)
- 少なくとも光反応性物質Ｍを含む膜に局部的に光を照射
し、光照射領域Ａにおいて光反応生成物Ｍ′を生成し、
該光反応生成物Ｍ′に光反応性物質Ｍを吸収させて、膜
厚分布を得る方法において光に反応して、光反応性物質
Ｍあるいは光反応生成物Ｍ′の膜中での移動をし易くす
ることのできる物質Ｐを予め膜中に含ませた状態で、光
照射を行なうことを特徴とする膜厚分布膜の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32166487A JPH01163741A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 膜厚分布膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32166487A JPH01163741A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 膜厚分布膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01163741A true JPH01163741A (ja) | 1989-06-28 |
Family
ID=18135029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32166487A Pending JPH01163741A (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 膜厚分布膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01163741A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11592216B2 (en) | 2018-09-12 | 2023-02-28 | Carrier Corporation | Liquid receiver for heating, air conditioning and refrigeration system |
-
1987
- 1987-12-19 JP JP32166487A patent/JPH01163741A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11592216B2 (en) | 2018-09-12 | 2023-02-28 | Carrier Corporation | Liquid receiver for heating, air conditioning and refrigeration system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05212806A (ja) | 三次元物体の製造方法 | |
| JP2000194142A (ja) | パタ―ン形成方法及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2001201609A (ja) | 平板状マイクロレンズの製造方法及びこの方法で製造された平板状マイクロレンズ | |
| JPS61253142A (ja) | 鋳型調製用感光性ポリマーレリーフ層の多レベル画像形成法 | |
| JPH0244060B2 (ja) | ||
| JPH01163741A (ja) | 膜厚分布膜の製造方法 | |
| JP2023027781A (ja) | 流路デバイス | |
| KR101390700B1 (ko) | 미세채널 제조방법 | |
| JPH06204126A (ja) | 微小パターン成形体の製造方法 | |
| JPS60254035A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JPH0559199A (ja) | 寸法比の大きい微小パターン成形体の製造方法 | |
| KR20160008048A (ko) | 미세채널용 몰드의 제조방법, 미세채널용 거푸집의 제조방법 및 미세채널이 형성된 블록의 제조방법 | |
| JPS62168134A (ja) | グラフト重合膜パタ−ン形成方法 | |
| JPS63246822A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| CN102245367A (zh) | 用于形成结构的方法和用于制造液体喷射头的方法 | |
| JPS5874309A (ja) | 光重合樹脂の成形方法 | |
| JP3490732B2 (ja) | プラスチック製非球面マイクロレンズの製造方法 | |
| JPS60202406A (ja) | 合成樹脂光回路の製造方法 | |
| JP3181998B2 (ja) | 重合体の製造方法及び架橋体の製造方法 | |
| JPS5915203A (ja) | 高分子導光路の製造方法 | |
| JPH09260258A (ja) | Ｘ線リソグラフィ用マスク | |
| KR20010003324A (ko) | 금속구조물의 제조방법 | |
| JP4318996B2 (ja) | 光回折構造の製造方法 | |
| JP2633264B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| JP2001096539A (ja) | 表面凹凸原盤の作製方法 |