JPH01163726A - 電気光学素子の作製法 - Google Patents

電気光学素子の作製法

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JPH01163726A
JPH01163726A JP32166387A JP32166387A JPH01163726A JP H01163726 A JPH01163726 A JP H01163726A JP 32166387 A JP32166387 A JP 32166387A JP 32166387 A JP32166387 A JP 32166387A JP H01163726 A JPH01163726 A JP H01163726A
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JP
Japan
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state
nonlinear optical
mixture
electric field
electro
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Application number
JP32166387A
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English (en)
Inventor
Yoshinobu Kubota
嘉伸 久保田
Tetsuzo Yoshimura
徹三 吉村
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01163726A publication Critical patent/JPH01163726A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光スィッチ、光変調器、光路変更素子などのように光を
電気的に制御する電気光学素子の作製法に関し、 分子配向制御を容易に行なえるようにすることで、電気
光学効果の大きい素子を実現することを目的とし、 有機非線形光学物質を、熱あるいは光で固化するモノマ
あるいはオリゴマ状態の材料と混合し、その液体状態の
時に電場を印加して分子配向させ、分子配向状態におい
て加熱あるいは光照射によって固化させる。
〔産業上の利用分野〕
光システムにおいて、光を電気的に制御する電気光学素
子は、光スィッチ、光変調器、光路変更素子などとして
用いられ、Key Deviceとなっている。本発明
は、このような電気光学素子の作製法に関する。
〔従来の技術とその問題点〕
電気光学材料として、LiNbo、、KDPなどのよう
な無機系の誘電体あるいは半導体材料が従来から用いら
れている。ところが最近、有機系材料の中に、著しく高
い非線形光学特性を示すものが見い出されている。しか
しながら、個々の分子レベルでの感受率がいくら大きく
ても、結晶状態において反転対称中心が存在すれば、結
晶全体としては、二次の感受率λ4)=0となってしま
う。したがって、その場合には、何らかの方法によって
、対称中心を無くすことが重要なポイントとなって来る
従来は、溶剤に溶かしたポリマーに非線形光学物質を混
合し、溶剤を蒸発させ、80°C前後に加熱した状態で
電場を印加し、分子配向を制御していた。しかし、ポリ
マーに熱を加えたゲル状態であるため、分子配向を行う
際に分子配向が円滑に行なわれず、制御が困難であると
いう欠点があった。
その結果、充分な電気光学効果が得られない。
本発明の技術的課題は、従来の電気光学素子の作製法に
おけるこのような問題を解消し、分子配向制御を容易に
行なえるようにすることで、電気光学効果の大きい素子
を実現することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
有機非線形光学物質を、熱あるいは光で固化するモノマ
あるいはオリゴマ状態の材料と混合し、その液体状態の
時に電場を印加して分子配向させ、分子配向状態におい
て加熱あるいは光照射によって固化させる。
〔作用〕
本発明によれば、有機の非線形光学物質を、熱あるいは
光で固化するモノマあるいはオリゴマ状態の材料と混合
し、その液体状態の時に電場を印加するので、分子配向
制御が容易であり、一定の方向に効果的に分子配向する
。そして配向状態で加熱または光照射して固化させるの
で、電気光学効果の大きい素子を実現することができる
〔実施例〕
次に本発明による電気光学素子の作製法が実際上どのよ
うに具体化されるかを実施例で説明する。
第1図は本発明の第1実施例を示す断面図であり、有機
非線形材料として2−Nethyl −4−Nitro
aniline(M N A )を、樹脂として光硬化
性樹脂を用いた場合について述べる。
la、 ibはガラス等のような透明の基板であり、該
基板1a、 lbの内面に、蒸着やスパッタなどの手法
で、透明電極(ITO) (IntOs : Sn)□
2a、2bが形成されている。透明電極2aと2bとの
間に、枠状のスペーサ3を挟むことで、両透明電極2a
、2bの間隔が一定に保たれている。また両透明電極2
a、2b間に電場を印加するために、両透明電極2a、
2b間に直流電源4が接続されている。
次に両透明電極2a、2b間の隙間5に非線形光学物質
と硬化性樹脂の混合物を充填する。すなわち、この実施
例では硬化性樹脂として光硬化性樹脂を使用するため、
MNAと光硬化性樹脂とを混合し、隙間5に充填する。
次に、液体状態の時に、直流電源4で1〜100V/c
m程度の電場を印加し、MNAのダイポールの配向を制
御する。そして電場を印加した状態で、^rレーザ(4
88nm 、514.Snm )を照射し固化させる。
ここで有機非線形材料としては、MNAだけでなく、4
88nm以上に透光性領域を持つ材料を用いることがで
きる。
次に光硬化性樹脂に代えて熱硬化性樹脂を使用する場合
は、熱硬化性樹脂と有機非線形材料である2−Meth
yl −4−Nitroaniline  (MNA)
を混合し、混合溶液を隙間5に充填する。そして液体状
態の時に、直流電源4で1〜100V/cm程度の電場
を印加してMNAのダイポールの配向を制御し、配向状
態で熱を加えて固化させる。
ここで有機非線形材料としては、MNAだけでな(、M
NMA、DAN、MAPS MBA−NP。
POM、PNP、DANS、5PCD、メロシアニン、
P−NA、UREA等を用いても良い。また熱硬化させ
るため、基板1a、1bや電極2a、2bは必ずしも透
明体である必要はない。
上記の光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂は、それぞれ例えば
スチレンに可視光増悪剤としてローダミンを、スチレン
に熱重合開始剤としてAIBN(アゾビスイソブチロニ
トリル)を用いることもできる。また、ポリスチレンの
他にMMAを用いても良い。
第2図は本発明方法の別の実施例であり、電気光学素子
として使用するときに、絶縁用のバッファー層を有する
素子を作製する例である。5in2などから成るバッフ
ァー層6a、 6bは、透明電極2a。
2bの内面に積層されている。そしてバッファー層6a
、6b間の隙間5に、前記のような光硬化性樹脂または
熱硬化性樹脂と非線形光学物質との混合液を充填し、透
明電極2a、2b間に直流電源4で電場を印加し、光照
射または加熱によって硬化させる。
こうして作製された有機非線形光学薄膜を、電気光学素
子として使用する。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、モノマあるいはオリゴマ
の液体状態の時に電場を印加するため、従来のゲル状態
で電場を印加する方法と異なって、分子配向が円滑に行
なわれる。その結果、結晶状態において対称中心を無く
し、分子レベルでの二次の感受率を高め、電気光学効果
の大きい素子を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明による電気光学素子の作製法の
各種実施例を示す断面図である。 図において、la、 lbは基板、2a、 2bは透明
電極、3はスペーサ、4は直流電源、5は隙間、6a、
 6bはバッファー層をそれぞれ示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)有機非線形光学物質を、熱あるいは光で固化する
    モノマあるいはオリゴマ状態の材料と混合し、その液体
    状態の時に電場を印加して分子配向させ、分子配向状態
    において加熱あるいは光照射によって固化させることを
    特徴とする電気光学素子の作製法。
  2. (2)前記の印加電場を、1〜100V/cmの範囲と
    することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
    電気光学素子の作製法。
  3. (3)前記の有機非線形光学物質として、MNA、MN
    MA、DAN、MAP、MBA−NP、PNP、POM
    、DANS、SPCD、PAN、メロシアニン、メロシ
    アニン誘導体の錯塩またはフェミシアニン誘導体の錯塩
    を用いることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
    載の電気光学素子の作製法。
  4. (4)前記の有機非線形光学物質と混合する物質は、モ
    ノマあるいはオリゴマの状態の光硬化性材料に可視光増
    感剤を加えたもの、またはモノマあるいはオリゴマの状
    態の熱硬化性材料に熱重合開始剤を加えたものであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の電気光
    学素子の作製法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01204030A (ja) * 1988-02-10 1989-08-16 Fuji Xerox Co Ltd 有機非線形光学基体の製造方法
JP2008075928A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Fujitsu General Ltd 空気調和機

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JPS58102205A (ja) * 1981-12-14 1983-06-17 Seiko Epson Corp カラ−偏光板の作成方法
JPS6284139A (ja) * 1985-09-03 1987-04-17 ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション 有機非線形光学基体

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