JPH01154063A - ペリクル枠 - Google Patents

ペリクル枠

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Publication number
JPH01154063A
JPH01154063A JP62312614A JP31261487A JPH01154063A JP H01154063 A JPH01154063 A JP H01154063A JP 62312614 A JP62312614 A JP 62312614A JP 31261487 A JP31261487 A JP 31261487A JP H01154063 A JPH01154063 A JP H01154063A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
pellicle
photomask
vericle
velicle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62312614A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumiaki Ushiyama
文明 牛山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP62312614A priority Critical patent/JPH01154063A/ja
Publication of JPH01154063A publication Critical patent/JPH01154063A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フォトマスクに、ベリクルをtAltする時
に用いるベリクル枠に関する。
〔発明の概要〕
本発明は、フォトマスクに、ベリクルをHglする時に
用いるベリクル枠において、その少なくとも一部に、開
口部を設けることにより、フォトマスクと、ベリクル、
及び、ベリクル枠で囲まれる密閉部に通気性をもたせ、
大気圧変化による、ベリクル面の上下動をなりシ、この
ベリクル面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブルや
、光学特性の変化を防止するものである。
〔従来の技術〕
第2図は、従来のベリクル枠を用いて、フォトマスクに
、ベリクルをH@した時の断面図である。
ベリクル22は、まず、ベリクル枠23に接着。
され、更に、このベリクル枠23が7オツトマスク21
に接着固定される。この時、ベリクル枠23には、開口
部がないため、フォトマスク21と、ベリクル22、及
び、ベリクル枠23で囲まれる密閉部24が作られる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、前述の従来技術では、以下なる問題点を育する
フォトマスクと、ベリクル、及び、ベリクル枠で囲まれ
る密閉部が存在し、更に、ベリクルが薄膜であることか
ら、第2図に示すように、大気圧変化によって、ベルク
リ面が上下動してしまう。
また、航空便によるマスク輸送や、台風の通過等、急激
な大気圧変動では、このベリクル面の外形変化に伴なっ
て、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化が生じる。
そこで、本発明は、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、ベリクル面の外形変化に伴
なう、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化を防止す
るところにある。
〔問題点を解決するための手段〕
フォトマスクに、ベリクルをH’flするためのベリク
ル枠において、その少なくとも一部に、開口部を設ける
ことを特徴とする。
〔実施例〕
第1図は、本発明の実施例におけるベリクル枠を用いて
、フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図であ
る。
従来技術と同様に、ベリクル12は、まずベリクル枠工
3に接着され、更に、このベリクル枠13が、フォトマ
スク11に接着固定される。そして、ベリクル枠13の
側面には、切削加工により、開口部15が一つ設けられ
ている。
本発明の実施例によれば、前記開口部15が設けられて
いるために、フォトマスク11と、ベリクル12、及び
、ベリクル枠13で囲まれる密閉部14に、通気性がも
たされ、大気圧変化による、ベリクル面の上下動がな(
なり、このベリクル面の外形変化に伴なうマスク搬送ト
ラブルや、光学特性の変化を防止することができる。
以上、本実施例では、ベリクル枠の側面に、開口部を一
つ設けた場合について述べたが、ベリクル枠の側面以外
の部分に、または、複数個の開口部を設ける場合につい
ても、同様な利点が得られ、更に、本発明の要旨を逸し
ない範囲で、種々応用が可能であることは言うまでもな
い。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、フォトマスクに、
ベリクルを装着するためのベリクル枠において、その少
なくとも一部に、開口部を設けることにより、フォトマ
スクと、ベリクル、及び、ベリクル枠で囲まれる密閉部
に通気性をもたせ、大気圧変化によるベリクル面の上下
動をなくし、このベリクル面の外形変化に伴なう、マス
ク搬送トラブルや、光学特性の変化を防止するという効
果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例によるベリクル枠を用いて、
フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図である
。 第2図は、従来のベリクル枠を用いて、フォトマスクに
、ベリクルを装着した時の断面図である。 11・・・フォトマスク エ2・・・ベリクル 13・・・ベリクル枠 14・・・密閉部 15・・・開口部 21・・・フォトマスク 22・・・ベリクル 23・・・ベリクル枠 24・・・密閉部 以  上 出願人 セイコーエプソン株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  フォトマスクに、ベリクルを装着するためのベリクル
    枠において、その少なくとも一部に、開口部を設けたこ
    とを特徴とするベリクル枠。
JP62312614A 1987-12-10 1987-12-10 ペリクル枠 Pending JPH01154063A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62312614A JPH01154063A (ja) 1987-12-10 1987-12-10 ペリクル枠

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JPH01154063A true JPH01154063A (ja) 1989-06-16

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