JPH01154062A - ペリクル枠 - Google Patents
ペリクル枠Info
- Publication number
- JPH01154062A JPH01154062A JP62312613A JP31261387A JPH01154062A JP H01154062 A JPH01154062 A JP H01154062A JP 62312613 A JP62312613 A JP 62312613A JP 31261387 A JP31261387 A JP 31261387A JP H01154062 A JPH01154062 A JP H01154062A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- pellicle
- photomask
- aperture
- pellicle frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔＊業上の利用分野〕
本発明は、フォトマスクに、ベリクルを８１１する時に
用いるベリクル枠に関する。
用いるベリクル枠に関する。
本発明は、フォトマスクに、ベリクルを装着する時に用
いるベリクル枠において、その少な（とも一部に開口部
を設け、更に、前記開口部をフィルターで覆うことによ
り、塵埃の侵入を防いだまま、フォトマスクと、ベリク
ル、及び、ベリクル枠で囲まれる密閉部分に通気性をも
たせ、大気圧変′化によるベリクル面の上下動を抑え、
このベリクル面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブ
ルや、光学特性の変化を防止するものである。
いるベリクル枠において、その少な（とも一部に開口部
を設け、更に、前記開口部をフィルターで覆うことによ
り、塵埃の侵入を防いだまま、フォトマスクと、ベリク
ル、及び、ベリクル枠で囲まれる密閉部分に通気性をも
たせ、大気圧変′化によるベリクル面の上下動を抑え、
このベリクル面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブ
ルや、光学特性の変化を防止するものである。
第２図は、従来のベリクル枠を用いて、フォトマスクに
、ベリクルを装着した時の断面図である。
、ベリクルを装着した時の断面図である。
ベリクル（２２）は、まず、ベリクル枠（２３）に接着
され、更に、とのベリクル枠（２３）がフォトマスク（
２１）に接着固定される。この時、ベリクル枠（２３）
には、開口部がないため、フォトマスク（２１）と、ベ
リクル（２２）、及び、ベリクル枠（２８）で囲まれる
密閉部分（２４）が作られる。
され、更に、とのベリクル枠（２３）がフォトマスク（
２１）に接着固定される。この時、ベリクル枠（２３）
には、開口部がないため、フォトマスク（２１）と、ベ
リクル（２２）、及び、ベリクル枠（２８）で囲まれる
密閉部分（２４）が作られる。
しかし、前述の従来技術では、以下なる問題点を存する
。
。
フォトマスクと、ベリクル、及び、ベリクル枠で囲まれ
る密閉部分が存在し、更に、ベリクルが薄膜であること
から、大気圧変化によって、ベリクル面が上下動してし
まう。また、航空便によるマスク輸送や、台風の通過等
、急激な大気圧変動では、このベリクル面の外形変化に
伴なって、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化が生
じる。
る密閉部分が存在し、更に、ベリクルが薄膜であること
から、大気圧変化によって、ベリクル面が上下動してし
まう。また、航空便によるマスク輸送や、台風の通過等
、急激な大気圧変動では、このベリクル面の外形変化に
伴なって、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化が生
じる。
そこで、本発明は、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、塵埃の侵入を抑えたまま、
ベリクル面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブルや
、光学特性の変化を防止するところにある。
、その目的とするところは、塵埃の侵入を抑えたまま、
ベリクル面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブルや
、光学特性の変化を防止するところにある。
フォトマスクに、ベリクルを装着するためのベリクル枠
において、その少なくとも一部に開口部を設け、更に、
前記開口部をフィルターで覆うことを特徴とする。
において、その少なくとも一部に開口部を設け、更に、
前記開口部をフィルターで覆うことを特徴とする。
第１図は、本発明の実施例におけるベリクル枠を用いて
、フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図であ
る。
、フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図であ
る。
従来技術と同様に、ベリクル１２は、まずベリクル枠１
３に接着され、更に、このベリクル枠１３が、フォトマ
スク１１に接着固定される。そして、ベリクル枠１３の
側面には、切削加工により、間口部１５を一つ設け、更
に、その開口部のベリクル枠外面側がフィルター１６で
覆われている。
３に接着され、更に、このベリクル枠１３が、フォトマ
スク１１に接着固定される。そして、ベリクル枠１３の
側面には、切削加工により、間口部１５を一つ設け、更
に、その開口部のベリクル枠外面側がフィルター１６で
覆われている。
本発明の実施例によれば、前記開口部１５が設けられて
いるために、フォトマスク１１と、ベリクル１２及び、
ベリクル枠１３で囲まれる密閉部分１４に、通気性がも
たされ、大気圧変化によるベリクル面の上下動が抑えら
れる。更に、開口部１５が、フィルター１６で覆われて
いるために、この開口部からの塵埃の侵入を防ぐことが
できる。従って、塵埃の侵入を防いだままで、ベリクル
面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブルや、光学特
性の変化を防止することができる。
いるために、フォトマスク１１と、ベリクル１２及び、
ベリクル枠１３で囲まれる密閉部分１４に、通気性がも
たされ、大気圧変化によるベリクル面の上下動が抑えら
れる。更に、開口部１５が、フィルター１６で覆われて
いるために、この開口部からの塵埃の侵入を防ぐことが
できる。従って、塵埃の侵入を防いだままで、ベリクル
面の外形変化に伴なう、マスク搬送トラブルや、光学特
性の変化を防止することができる。
以上、本実施例では、ベリクル枠の側面に、開口部を一
つ設け、更に、前記間口部のベリクル枠外面側をフィル
ターで覆う場合について述べたがその他、ベリクル枠の
側面以外の場所に開口部を設ける、または、開口部のベ
リクル枠内面側をフィルターで覆う場合なぞについても
、同様な利点が得られ、更に、本発明の要旨を逸しない
範囲で、種々応用が可能であることは言うまでもない。
つ設け、更に、前記間口部のベリクル枠外面側をフィル
ターで覆う場合について述べたがその他、ベリクル枠の
側面以外の場所に開口部を設ける、または、開口部のベ
リクル枠内面側をフィルターで覆う場合なぞについても
、同様な利点が得られ、更に、本発明の要旨を逸しない
範囲で、種々応用が可能であることは言うまでもない。
以上述べたように、本発明によれば、フォトマスクに、
ベリクルを装着するためのベリクル枠において、その少
なくとも一部に開口部を設け、更に、前記開口部をフィ
ルターで覆うことにより、塵埃の侵入を防いだまま、フ
ォトマスクと、ベリクル、及び、ベリクル枠で囲まれる
密閉部分に通気性をもたせ、大気圧変化によるベリクル
面の上下動を抑え、このベリクル面の外形変化に伴なう
、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化を防止する効
果を存するものである。
ベリクルを装着するためのベリクル枠において、その少
なくとも一部に開口部を設け、更に、前記開口部をフィ
ルターで覆うことにより、塵埃の侵入を防いだまま、フ
ォトマスクと、ベリクル、及び、ベリクル枠で囲まれる
密閉部分に通気性をもたせ、大気圧変化によるベリクル
面の上下動を抑え、このベリクル面の外形変化に伴なう
、マスク搬送トラブルや、光学特性の変化を防止する効
果を存するものである。
第１図は、本発明の実施例によるベリクル枠を用いて、
フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図である
。 第２図は、従来のベリクル枠を用いて、フォトマスクに
、ベリクルをａｔした時の断面図である。 １１・・・フォトマスク １２・・・ベリクル １３・・・ベリクル枠 １４・・・密閉部 １５・・・開口部 １６・・・フィルター ２１・・・フォトマスク ２２・・・ベリクル ２３・・・ベリクル枠 ２４・・・密閉部 以 上 出願人 セイコーエプン／株式会社
フォトマスクに、ベリクルを装着した時の断面図である
。 第２図は、従来のベリクル枠を用いて、フォトマスクに
、ベリクルをａｔした時の断面図である。 １１・・・フォトマスク １２・・・ベリクル １３・・・ベリクル枠 １４・・・密閉部 １５・・・開口部 １６・・・フィルター ２１・・・フォトマスク ２２・・・ベリクル ２３・・・ベリクル枠 ２４・・・密閉部 以 上 出願人 セイコーエプン／株式会社
Claims (1)
- フォトマスクに、ベリクルを装着するためのベリクル
枠において、その少なくとも、一部に開口部を設け、更
に、前記開口部がフィルターで覆われたことを特徴とす
るベリクル枠。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62312613A JPH01154062A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ペリクル枠 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62312613A JPH01154062A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ペリクル枠 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01154062A true JPH01154062A (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=18031309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62312613A Pending JPH01154062A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ペリクル枠 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01154062A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0752621A1 (en) * | 1995-07-05 | 1997-01-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Frame-supported pellicle for photomask protection |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP62312613A patent/JPH01154062A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0752621A1 (en) * | 1995-07-05 | 1997-01-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Frame-supported pellicle for photomask protection |
| US5723860A (en) * | 1995-07-05 | 1998-03-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Frame-supported pellicle for photomask protection |
| KR100441349B1 (ko) * | 1995-07-05 | 2004-10-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 포토마스크보호용프레임지지펠리클 |
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