JPH01150116A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ラビング法によって配向処理を行う液晶表示
素子（以下、ＬＣＤと称す）の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

ＬＣＤセル中の液晶分子を所定方向に配向させる一方法
としてラビング法がある。このラビング法は、ＬＣＤの
製造時に、ガラス基板上の透明電極を覆う配向膜を絹布
等を用いて特定の方向にラビングするという手法であり
、これにより、液晶分子の長軸方向はラビング方向と平
行な方向に配向される。

すなわち、第２図に示す従来構造のＬＣＤを製造する際
には、上下一対で組み合わされるガラス基板１上にそれ
ぞれ、５ｔｏ２からなるアンダーコート２を介して、Ｉ
ＴＯ膜からなり表示パターンに対応する所定形状の透明
電極３を形成した後、この透明電極３を覆ってポリイミ
ド等からなる配向膜４を形成し、この配向１１！４の表
面を特定の方向にラビングする。そして、ラビング配向
処理を施した一対のガラス基板１を組み合わせてセルを
形成し、相対向する配向膜４の間に°液晶５を封止する
と、液晶分子の長袖方向はラビング方向と平行な方向に
配向されるようになる。なお、アンダコート２は、ガラ
スのＮａ成分が液晶５中に？容出するのを防止するため
の膜である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、このようなラビング配向処理を行うと配向膜
４の表面に多量の静電気が発生するが、従来は第２図に
示すように配向膜４が透明電極３の表面に直接形成しで
あるので、このラビング時の静電気が透明電極３中に放
電されてしまうという不具合があった。つまり、多量の
静電気が透明電極３中に放電されると、その発熱によっ
て配向膜４が部分的に破壊され、配向不良を引き起こす
虞れがあった。

また、ガラス基板１と透明電極３とでは屈折率が異なる
ので、第２図に示すような構造のＬＣＤは、電圧が印加
されていないときに外部から透明電極３の輪郭が見えて
しまい、視認性を損なうことになる。

また、上記したように透明電極３を覆って配向膜４が直
接形成しであると、製造工程時にＬＣＤセル中に混入し
た導電性の微粉末が配向１１９４を突き破ってしまった
場合に、この微粉末を介して上下の透明電極３がショー
トしてしまう、いわゆる上下電極間のタッチが起こる危
険性があった。

したがって本発明の目的とするところは、静電気の放電
に起因する配向不良が防止でき、かつ電厚無印加時にＬ
ＣＤの外部から透明電極を見えにククシ、しかも上下電
極間のタッチが防止できる、ＬＣＤの製造方法を提供す
ることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明は、ガラス基板上の
透明電極を覆って、Ｓ　ｉ　　（ａ　ｃ　ａ　ｃ）４お
よびＺｒ（ａｃａｃ）４を計７〜１０重量％含有する溶
液を印刷により成膜し、これを焼成して透明な絶縁膜を
形成した後、この絶８！膜の表面に配向膜を形成するよ
うにした。

〔作用〕

すなわち、本発明は、β−ジケトンの代表であるアセチ
ルアセトン（ａ　ｃ　ａ　ｃ）を配位したＳｉおよびＺ
ｒを用いることにより、これらの有機金属材料を溶解さ
せた溶液を透明電極の表面に均一な膜厚で印刷すること
ができ、また、これを焼成して形成される透明な絶縁膜
はＩＴＯとほぼ同等の屈折率を呈し、また、この絶縁膜
の介在によって配向膜の表面の静電気は透明電極中に放
電されなくなる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。

第１図は本発明方法により製造したＬＣＤの要部断面図
であって、第２図と対応する部分には同一符号が付しで
ある。

第１図に示すＬＣＤを製造する際には、まず、一対のガ
ラス基板１上にそれぞれ、ＳｉＯ□からなるアンダコー
ト２を介して、ＩＴ・０膜からなる透明電極３をパター
ン形成し、この透明電極３を覆って透明な絶縁膜６を形
成する。この絶縁膜６は、テトラアセチルアセトーナシ
リコン５ｔ（ａｃ　ａ　Ｃ）４およびテトラアセ≠ルア
セトーナジルコニウムＺｒ（ａｃａｃ）ａからなる有機
金属材料を１００重量含有する溶液を、オフセット印刷
により透明電極３の表面に成膜した後、これを５００℃
で１２分間焼成して約４００人の膜厚に形成したもので
あり、こうして形成される絶縁膜６の屈折率は約１．８
０、絶縁延抗はＩＱＱＭΩ／口である。ここで、ａｃａ
ｃと略称されるアセチルアセトンは代表的なβ−ジゲト
ンであって、以下の構造式で表される。

ＣＨ。

また、上記溶液の具体的な成分比は、Ｓ　ｉ　（ａｃａ
ｃ）４が２．５重量％、Ｚｒ（ａｃａｃ）ｍが７．５重
量％、溶剤としてフェニルセルソルブおよびオクタツー
ルがそれぞれ４４．０重量％、増粘剤としてニトロセル
ロースが２．０重量う６である。

こうして、一対のガラス基板１上にそれぞれ透明電極３
を覆う絶縁膜６を形成した後、各絶縁膜６の表面にポリ
イミド等からなる配向膜４を形成し、しかる後、絹布等
を用いて配向１１Ｑ　４の表面を特定の方向にラビング
する。そして、ラビング配向処理を施した一対のガラス
基板ｌを組み合わせてセルを形成し、相対旬する配向Ｍ
、４の間に液晶５を封止すると、液晶分子の長軸方向は
ラビング方向と平行な方向に配向されるようになる。

上記の如くに製造されるＬＣＤは、透明電極３と配向膜
４との間に絶縁膜６が介設しであるので、ラヒング時に
配向膜４の表面に発生する静電気を透明電極３中に放電
させることな（空気中に放電さｌることができ、そのた
め放電の発熱で配向膜４が部分的に破壊される虞れがな
くなり、配向不良が防止できる。また、この透明な絶縁
膜６の屈折率はＩＴＯとほぼ同等なので、絶縁膜６に覆
われている透明電極３の輪郭は、電圧が印加されていな
いときには外部からほとんど見えず、ＬＣＤの視認性が
高まっている。しかも、この絶縁性６の絶縁抵抗は１０
０ＭΩ／口以上なので、導電性微粉末の混入に起因する
上下電極間のタッチ、つまり上下の透明電極３が導電性
微粉末を介してショートしてしまうという事故が、未然
に防止でき、ＬＣＤの１３頼陸が高まっている。

また、アセチルアセトンを配位してなる有機金属材料は
溶解しやすいので３ｉ（ａｃａｃＬおよびＺｒ（ａｃａ
ｃ）４を含有する溶液は上記したようにオフセット印刷
により成膜することができ、膜厚の均一な絶縁膜６を容
易に形成することができる。そのため、かかるＡＩ膜を
形成しない従来方法に比して、製造工程が特に煩雑化す
ることはない。

なお、上記実施例では印刷用の溶液中に１０重１％の有
機金属材料を含有させであるので、焼成後の絶縁膜のＩ
ＩＩ厚が約４００人となっているが、上下電極間の夕・
ンチを防止し、かつ液晶への印加電圧ドロップを無視し
得るためには、絶縁膜の膜厚は２００〜４００人である
ことが望ましい。そのため、溶液中に含有させる有機金
属材料の割合は、７〜ＩＯ重量％であることが望ましい
。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によるＬＣＤの製造方法は
、ガラス基板上の透明電極を覆って、Ｓｉ（ａｃａｃ）
、およびＺｒ（ａｃａｃ）、を溶かした溶液を印刷によ
り成＋１ｉし、これを焼成して屈折率がＩＴＯとほぼ同
等の透明な絶縁膜を形成した後、この絶縁膜の表面に配
向膜を形成するというものなので、ラビング時に配向膜
の表面に発生する静電気が透明電極中に放電される虞れ
がな（なって配向不良が防止でき、また、この屯キ（膜
にＩわれた透明電極の輪郭は電圧無印加時には外部から
見えに（くなってＬＣＤの視認１生が向上し、また、こ
の絶ｔ工膜は絶縁抵抗が大きいので上下電極間のタッチ
が防止できる等、優れた効果を奏する。しかも、かかる
絶楊膜は印刷により容易に形成することができるので、
ＬＣＤの製造工程が煩雑化することもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法により製造したＬＣＤの要部断面図
、第２図は従来方法により製造したＬＣＤの要部断面図
である。 １・・・・・・・・・ガラス基板、３・・・・・・・・
・透明１臘、４・・・・・・・・・配向膜、５・・・・
・・・・・液晶、６・・・・・・・・・絶縁膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ガラス基板上に表示パターンに対応する透明電極を形成
   した後、この透明電極上に配向膜を形成し、この配向膜
   にラビング配向処理を施す液晶表示素子の製造方法にお
   いて、上記ガラス基板上の上記透明電極を覆って、Ｓｉ
   （ａｃａｃ）＿４およびＺｒ（ａｃａｃ）＿４を計７〜
   １０重量％含有する溶液を印刷により成膜し、これを焼
   成して透明な絶縁膜を形成した後、この絶縁膜の表面に
   上記配向膜を形成するようにしたことを特徴とする液晶
   表示素子の製造方法。