JPH01161215A - 液晶表示器 - Google Patents
液晶表示器Info
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- JPH01161215A JPH01161215A JP32023687A JP32023687A JPH01161215A JP H01161215 A JPH01161215 A JP H01161215A JP 32023687 A JP32023687 A JP 32023687A JP 32023687 A JP32023687 A JP 32023687A JP H01161215 A JPH01161215 A JP H01161215A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ)産業上の利用分野
本発明は生産性のよい液晶表示器に関する。
口)従来の技術
従来より液晶表示器の基板には電極と配向膜を設けてい
るが、配向膜の絶縁耐圧が低い場合、配向膜と電極の間
に中間層が設けられる。この様な中間層として特開昭5
2−7749号公報にはポリオルガノシランを用いると
よいとされている。
るが、配向膜の絶縁耐圧が低い場合、配向膜と電極の間
に中間層が設けられる。この様な中間層として特開昭5
2−7749号公報にはポリオルガノシランを用いると
よいとされている。
しかしこの様な有機系シリコン等(シリコンやチタンの
アルコラード類)は、高温焼成でこそ絶縁耐圧が高くな
るが、600℃以上の高温焼成で高分子が揮散し稠密な
膜が得られない。また500℃以上の高温では電極が高
抵抗化する。
アルコラード類)は、高温焼成でこそ絶縁耐圧が高くな
るが、600℃以上の高温焼成で高分子が揮散し稠密な
膜が得られない。また500℃以上の高温では電極が高
抵抗化する。
一方、そのような中間層として酸化シリコン(S i
O2)膜を用イルと、耐圧は500 V / p mと
充分であって硬度も高く好ましい。しかしこれは無機膜
なのでスパッタや蒸着等による煩雑な作業が必要であり
、さらに大面積表示用基板(二相いる(二は生産性が悪
く好ましくない。
O2)膜を用イルと、耐圧は500 V / p mと
充分であって硬度も高く好ましい。しかしこれは無機膜
なのでスパッタや蒸着等による煩雑な作業が必要であり
、さらに大面積表示用基板(二相いる(二は生産性が悪
く好ましくない。
そして近年液晶表示器は電極部分に二端子素子のような
能動素子を用いたシ、液晶の複屈折性が表示(二影響す
るような液晶分子の捩り角が大きく液晶層厚の薄い表示
モードを用いたり、また大容量表示を高時分割駆動法で
行うので、大面積において耐圧の良好な中間層が必要に
なってきた。
能動素子を用いたシ、液晶の複屈折性が表示(二影響す
るような液晶分子の捩り角が大きく液晶層厚の薄い表示
モードを用いたり、また大容量表示を高時分割駆動法で
行うので、大面積において耐圧の良好な中間層が必要に
なってきた。
ハ)発明が解決しようとする問題点
本発明は上述の点を考慮してなされたもので、生産性が
よく、硬くて絶縁耐圧の充分な中間層を有する液晶表示
器を提供するものである。
よく、硬くて絶縁耐圧の充分な中間層を有する液晶表示
器を提供するものである。
二)問題点を解決するための手段
本発明は厚さ90μm以下の特(二耐圧性を要求される
液晶表示器において、ラダー型(橋かけ構造)のオルガ
ノシルセスキオキサンオリゴマーとS i 凶) 4と
を主成分として生成した膜を前述した中間層に用いるも
のである。
液晶表示器において、ラダー型(橋かけ構造)のオルガ
ノシルセスキオキサンオリゴマーとS i 凶) 4と
を主成分として生成した膜を前述した中間層に用いるも
のである。
これにより印刷法を用い500℃未満の低温焼成により
稠密な中間層が得られ、液晶層厚が薄くても高時分割駆
動で表示するに充分な絶縁耐圧が得られる。
稠密な中間層が得られ、液晶層厚が薄くても高時分割駆
動で表示するに充分な絶縁耐圧が得られる。
へ)実施例
第1図は本発明実施例の液晶表示器の断面図で、電界効
果型マトリクス液晶表示器を例示した。(1)(1)は
基板で、スペーサ(2)により平行に保たれ、カイラル
ネマティックの液晶(3)を挾持している。この基板(
1)(1)は、ガラス板avaυの内面に必要に応じて
下地層(図示せず)を設け、パターン化された電極a2
1ag・・・と、中間層fi31(131と配向膜−a
4が設けである。また液晶(3)は正の誘電異方性をも
ち、例えば220度捩り角のらせん構造をもつ層厚6.
5μmをなしている。そして基板(11(1)の外側に
は必要に応じて偏光板(4)(41等を設けてよい。
果型マトリクス液晶表示器を例示した。(1)(1)は
基板で、スペーサ(2)により平行に保たれ、カイラル
ネマティックの液晶(3)を挾持している。この基板(
1)(1)は、ガラス板avaυの内面に必要に応じて
下地層(図示せず)を設け、パターン化された電極a2
1ag・・・と、中間層fi31(131と配向膜−a
4が設けである。また液晶(3)は正の誘電異方性をも
ち、例えば220度捩り角のらせん構造をもつ層厚6.
5μmをなしている。そして基板(11(1)の外側に
は必要に応じて偏光板(4)(41等を設けてよい。
以下に製造方法を含めて、より具体的C二説明するO
パターン化した電極a加’a・・・を有するガラス板旧
)(11)上に、オウエンスイリノイス社(Qwθnθ
−I/I!1noio製ラダーシリコンオリゴマー()
R−100に対し、81 (002H5)4を添加し、
ブチルセロソルブ(二溶解してロールコータにて塗布し
、300℃で10分間焼成した0そして、成膜の出来た
基板の硬度を調べたところ7Hであった。
)(11)上に、オウエンスイリノイス社(Qwθnθ
−I/I!1noio製ラダーシリコンオリゴマー()
R−100に対し、81 (002H5)4を添加し、
ブチルセロソルブ(二溶解してロールコータにて塗布し
、300℃で10分間焼成した0そして、成膜の出来た
基板の硬度を調べたところ7Hであった。
その基板の半数にアルミニウムを蒸着して絶縁耐圧試験
用基板とした。Si (002H5)4の添加量をパラ
メータとしてその結果を第2図三角形の棒グラフで示す
。81 (002H2)4は添加しない時よシも20〜
3Qwt%添加した方(より好ましくは40〜6(1w
t%添加)が絶縁耐圧が高くなった。
用基板とした。Si (002H5)4の添加量をパラ
メータとしてその結果を第2図三角形の棒グラフで示す
。81 (002H2)4は添加しない時よシも20〜
3Qwt%添加した方(より好ましくは40〜6(1w
t%添加)が絶縁耐圧が高くなった。
また残シ半数の基板(二は配向膜を印刷法で形成しラビ
ングした後シール材とスペーサを用いて液晶容器を形成
、液晶を注入し封止して1/400デユーテイで時分割
駆動をした。
ングした後シール材とスペーサを用いて液晶容器を形成
、液晶を注入し封止して1/400デユーテイで時分割
駆動をした。
別のロフトとして、オウエンスイリノイス社製ラダーシ
リコンオリゴマーGR−650に5i(00H3)4を
添加し、以下同様の事を行なった。
リコンオリゴマーGR−650に5i(00H3)4を
添加し、以下同様の事を行なった。
成膜の硬度は7H以上であり、その絶縁耐圧は第2図に
丸印で示す様に好ましくは20〜6Qwtチ添加すると
絶縁耐圧が高い〇 一方液晶表示器に点灯時の2倍の電圧をかけて30℃1
68時間時分割駆動してマトリクス電極間(同−平面内
及び上下電極間)の洩れ電流の増大及び液晶の劣化を調
べたところ第3図の様になったoN品層厚が9μmを超
えるもの、とりわけ10.0μm以上においては中間層
がないものですら不良パネルは少なかったが、90μm
以下では中間層がないもの(曲線A)や有機シリコン(
−層−0−81−0−高分子を用いたもので従来例(:
相当、曲線B)(:おいて破壊事故等を生じたパネルが
続出した。810Q4を含まないラダー型もしくはラダ
ー間?二橋かけ構造をもつ中間層をもつもの(曲線C)
やラダー型に81(X)4を添加して成膜した中間層を
もつもの(曲線D)においては著しく不良パネル数が減
少した。
丸印で示す様に好ましくは20〜6Qwtチ添加すると
絶縁耐圧が高い〇 一方液晶表示器に点灯時の2倍の電圧をかけて30℃1
68時間時分割駆動してマトリクス電極間(同−平面内
及び上下電極間)の洩れ電流の増大及び液晶の劣化を調
べたところ第3図の様になったoN品層厚が9μmを超
えるもの、とりわけ10.0μm以上においては中間層
がないものですら不良パネルは少なかったが、90μm
以下では中間層がないもの(曲線A)や有機シリコン(
−層−0−81−0−高分子を用いたもので従来例(:
相当、曲線B)(:おいて破壊事故等を生じたパネルが
続出した。810Q4を含まないラダー型もしくはラダ
ー間?二橋かけ構造をもつ中間層をもつもの(曲線C)
やラダー型に81(X)4を添加して成膜した中間層を
もつもの(曲線D)においては著しく不良パネル数が減
少した。
これらの現象について、一般式
RR
C但L Rハアルキル、フェニル、アルコキシ、水酸基
) であられされるオルガノシルセスキオキサンオリコマ−
は焼成時に揮発が極めて少なく稠密な中間層が成膜でき
、31(1+’04 (但しXはアルキル、アルコキシ
、フェニルオキシ、ハロゲン又は水M基)を添加するこ
とによって5i(X)4はラダー型シリコンの架橋反応
の補助剤として機能していることなどが考えられる。即
ち5iQQ4を添加することによ!ll膜材料自身の絶
縁耐圧が変化するのではなく、成膜性がよく、稠密でム
ラのない膜が得られるものと考えられる。
) であられされるオルガノシルセスキオキサンオリコマ−
は焼成時に揮発が極めて少なく稠密な中間層が成膜でき
、31(1+’04 (但しXはアルキル、アルコキシ
、フェニルオキシ、ハロゲン又は水M基)を添加するこ
とによって5i(X)4はラダー型シリコンの架橋反応
の補助剤として機能していることなどが考えられる。即
ち5iQQ4を添加することによ!ll膜材料自身の絶
縁耐圧が変化するのではなく、成膜性がよく、稠密でム
ラのない膜が得られるものと考えられる。
尚上述の実施例は中間層の厚み0.05〜o、25μm
1配向膜として0.1〜0.2μmのポリイミド系配向
膜を用いた時結果に類似性があられれたので、中間層0
.10μm1配向膜0.10μmのものを中心に説明し
た。
1配向膜として0.1〜0.2μmのポリイミド系配向
膜を用いた時結果に類似性があられれたので、中間層0
.10μm1配向膜0.10μmのものを中心に説明し
た。
ト)発明の効果
以上の如くラダー状シリコンは充分な硬度と安定した電
気化学特性を示し、液晶層厚が薄くとも絶縁耐圧が充分
得られ、また液晶劣化を導かない。
気化学特性を示し、液晶層厚が薄くとも絶縁耐圧が充分
得られ、また液晶劣化を導かない。
さらにこのような有機系シリコン剤は印刷法により設け
ることができ、600℃程度で焼成できるから、有機系
配向剤と組合せ、極めて生産性が向上した。
ることができ、600℃程度で焼成できるから、有機系
配向剤と組合せ、極めて生産性が向上した。
第1図は本発明実施例の液晶表示器の断面図、第2図と
第5図は本発明に係る特性図である。 (1)(1)・・・基板、(2)・・・スペーサ、(3
)・・・液晶、aυa11・・・ガラス板、詣a’a・
・・電極、t131(13・・・中間層、Q41114
1・・・配向膜〇 出願人 三洋電機株式会社外1名
第5図は本発明に係る特性図である。 (1)(1)・・・基板、(2)・・・スペーサ、(3
)・・・液晶、aυa11・・・ガラス板、詣a’a・
・・電極、t131(13・・・中間層、Q41114
1・・・配向膜〇 出願人 三洋電機株式会社外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電極と配向膜を有して平行に保持された基板と、基
板の間に挾持された液晶とを具備した液晶表示器におい
て 前記液晶は9.0μmより薄い層をなし、前記基板の少
なくとも一方は電極膜と配向膜の間に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しRはアルキル、フェニル、アルコキシ、水酸基) であらわされるオルガノシルセスキオキサンオリゴマー
とSi(X)_4(但しXはアルキル、アルコキシ、フ
ェニルオキシ、ハロゲン又は水酸基)とを主成分として
生成した膜を有している事を特徴とする液晶表示器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32023687A JPH01161215A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 液晶表示器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32023687A JPH01161215A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 液晶表示器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01161215A true JPH01161215A (ja) | 1989-06-23 |
Family
ID=18119244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32023687A Pending JPH01161215A (ja) | 1987-12-17 | 1987-12-17 | 液晶表示器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01161215A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5245457A (en) * | 1991-04-04 | 1993-09-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Forming a topcoat for liquid crystal display devices having plastic substrates using UV light and temperatures less than 200° C. |
KR100443443B1 (ko) * | 2001-03-29 | 2004-08-11 | 칫소가부시키가이샤 | 액정 배향제 니스 및 액정 표시소자 |
-
1987
- 1987-12-17 JP JP32023687A patent/JPH01161215A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5245457A (en) * | 1991-04-04 | 1993-09-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Forming a topcoat for liquid crystal display devices having plastic substrates using UV light and temperatures less than 200° C. |
KR100443443B1 (ko) * | 2001-03-29 | 2004-08-11 | 칫소가부시키가이샤 | 액정 배향제 니스 및 액정 표시소자 |
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