JPH01147049A - 溶融めっき目付量の制御方法 - Google Patents
溶融めっき目付量の制御方法Info
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- JPH01147049A JPH01147049A JP30444987A JP30444987A JPH01147049A JP H01147049 A JPH01147049 A JP H01147049A JP 30444987 A JP30444987 A JP 30444987A JP 30444987 A JP30444987 A JP 30444987A JP H01147049 A JPH01147049 A JP H01147049A
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- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、ラインスピードを落とすことなく極く薄い
めっき目付量を安定して達成することが可能な、連続溶
融めっき時の目付量制御方法に関するものである。
めっき目付量を安定して達成することが可能な、連続溶
融めっき時の目付量制御方法に関するものである。
〈従来技術とその問題点〉
一般に、金属ストリップの連続溶融めっきに際しては、
溶融めっき浴から引き上げられた直後の金属ストリップ
を一対の“絞りロール”の間に通し、該ロール間距離を
調節することでめっきの目付量を調整したり、或いは前
記“絞りロール”に代えて溶融めっき浴から引き上げら
れた直後の金属ストリップ表面に空気、ＣＯｚガス、Ｎ
２ガス等の気体を吹付けて付着めっき金属の一部を掻き
取る“ワイピングノズル（ガスナイフ）”を配置し、そ
の気体圧力やノズル−ストリップ間距離を変えることに
よって目付量調整を行ったりしている。
溶融めっき浴から引き上げられた直後の金属ストリップ
を一対の“絞りロール”の間に通し、該ロール間距離を
調節することでめっきの目付量を調整したり、或いは前
記“絞りロール”に代えて溶融めっき浴から引き上げら
れた直後の金属ストリップ表面に空気、ＣＯｚガス、Ｎ
２ガス等の気体を吹付けて付着めっき金属の一部を掻き
取る“ワイピングノズル（ガスナイフ）”を配置し、そ
の気体圧力やノズル−ストリップ間距離を変えることに
よって目付量調整を行ったりしている。
しかしながら、絞りロールによるめっき目付量の調整法
には、場合によってはロール痕が残ることが懸念された
り、ラインスピードが速くなると目付量の不均一を生じ
がちである等の問題があり、一方、ワイピングノズルに
よるめっき目付量の調整法では、ラインスピードが速く
なると付着めっき金属の掻き取り不十分となる関係上、
高速で流れるストリップの目付量を薄くするにはライン
スピードとの関係で限界があり、結果として薄目付品の
製造時にはラインスピードを落とすことが必要となって
生産性の障害を来たすとの問題が指摘されていた。
には、場合によってはロール痕が残ることが懸念された
り、ラインスピードが速くなると目付量の不均一を生じ
がちである等の問題があり、一方、ワイピングノズルに
よるめっき目付量の調整法では、ラインスピードが速く
なると付着めっき金属の掻き取り不十分となる関係上、
高速で流れるストリップの目付量を薄くするにはライン
スピードとの関係で限界があり、結果として薄目付品の
製造時にはラインスピードを落とすことが必要となって
生産性の障害を来たすとの問題が指摘されていた。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者等は、金属ストリップの溶融めっきにおいて見
られる上記問題点を解消し、均一なめっき皮膜を安定し
て形成させ得ることは勿論、生産性の点で不利とならな
い高いラインスピードの下でも十分に薄いめっき付着量
が達成できる目付量制御手段を提供すべく、様々な観点
から研究を重ねた結果、「均一なめっき皮膜を工業的に
安定して形成させるためにはやはりワイピングノズルに
よる目付量調整が有利であるが、この場合、溶融めっき
浴から連続的に引き上げられた直後のストリップに微細
な振動を与えつつワイピングノズルからその表面に気体
を吹付けると、“ストリップの振動による付着溶融金属
の振り落とし効果”と“吹付は気体による付着溶融金属
の掻き取り効果”とが相俟って所定目付量への調整が瞬
時に行われることとなり、高速で進行するストリップに
対してもラインスピードを落とすことなく十分に薄いめ
っき目付量を安定して達成できるようになる」との知見
を得るに至った。
られる上記問題点を解消し、均一なめっき皮膜を安定し
て形成させ得ることは勿論、生産性の点で不利とならな
い高いラインスピードの下でも十分に薄いめっき付着量
が達成できる目付量制御手段を提供すべく、様々な観点
から研究を重ねた結果、「均一なめっき皮膜を工業的に
安定して形成させるためにはやはりワイピングノズルに
よる目付量調整が有利であるが、この場合、溶融めっき
浴から連続的に引き上げられた直後のストリップに微細
な振動を与えつつワイピングノズルからその表面に気体
を吹付けると、“ストリップの振動による付着溶融金属
の振り落とし効果”と“吹付は気体による付着溶融金属
の掻き取り効果”とが相俟って所定目付量への調整が瞬
時に行われることとなり、高速で進行するストリップに
対してもラインスピードを落とすことなく十分に薄いめ
っき目付量を安定して達成できるようになる」との知見
を得るに至った。
この発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、
「ワイピングノズルの前又は後或いは前後両位置に振動
発生器を配置し、溶融めっき浴から連続的に引き上げら
れる金属ストリップに振動を付与すると共に、その表面
にワイピングノズルからの気体を吹付けてめっき付着量
を調整することにより、ラインスピードに影響されるこ
となく連続溶融めっき目付量の幅の広い制御を可能とし
た点」に特徴を有するものである。
発生器を配置し、溶融めっき浴から連続的に引き上げら
れる金属ストリップに振動を付与すると共に、その表面
にワイピングノズルからの気体を吹付けてめっき付着量
を調整することにより、ラインスピードに影響されるこ
となく連続溶融めっき目付量の幅の広い制御を可能とし
た点」に特徴を有するものである。
ここで、ストリップに振動を付与する振動発生器として
は電磁力を利用するものが適用でき、例えば、後述する
如くストリップを挟んで対の電磁石を対向させると共に
これに振動コントローラーを連結し、この振動コントロ
ーラーで各電磁石を一定周期で交互にＯＮ、ＯＦＦして
ストリップを引き付けることで振動を発生させるものが
実用的である。
は電磁力を利用するものが適用でき、例えば、後述する
如くストリップを挟んで対の電磁石を対向させると共に
これに振動コントローラーを連結し、この振動コントロ
ーラーで各電磁石を一定周期で交互にＯＮ、ＯＦＦして
ストリップを引き付けることで振動を発生させるものが
実用的である。
また、この際のめっき付着量は振動の周波数に大きく影
響されることから、予め定めた目標めっき目付量と振動
周波数との関係を求めておき、このデータに基づいて目
付量調整するのが良い。
響されることから、予め定めた目標めっき目付量と振動
周波数との関係を求めておき、このデータに基づいて目
付量調整するのが良い。
以下、図面に基づいて本発明をより詳細に説明する。
第１図は本発明に従った「銅帯の溶融めっき目付量制御
」の実施状況例を説明した概念図であるが、溶融めっき
浴（１１から連続的に引き上げられる鋼帯（２）の表面
に対向させ、めっき目付量を制御するための主要装置と
しての“従来通りのワイピングノズル（３）”と“鋼帯
（２）を振動させるための振動発生器（４）”とを配置
した様子が示されている。
」の実施状況例を説明した概念図であるが、溶融めっき
浴（１１から連続的に引き上げられる鋼帯（２）の表面
に対向させ、めっき目付量を制御するための主要装置と
しての“従来通りのワイピングノズル（３）”と“鋼帯
（２）を振動させるための振動発生器（４）”とを配置
した様子が示されている。
なお、ワイピングノズル（３）は従来通りのものであり
、鋼帯（２）を挟んで対向するスリットから銅帯面に気
体（空気、ＣＯｚ、Ｎｚ等）を吹きつけ、該銅帯面から
余分に付着した溶融めっき金属を掻き取る働きをする。
、鋼帯（２）を挟んで対向するスリットから銅帯面に気
体（空気、ＣＯｚ、Ｎｚ等）を吹きつけ、該銅帯面から
余分に付着した溶融めっき金属を掻き取る働きをする。
また、振動発生器（４）は、第１図で示されるように鋼
帯（２）を挟んで対向する対の電磁石（５１，（６）を
ワイピングノズル（３）の直後に設け、これと連結した
振動コントローラ（７）で該電磁石（５）。
帯（２）を挟んで対向する対の電磁石（５１，（６）を
ワイピングノズル（３）の直後に設け、これと連結した
振動コントローラ（７）で該電磁石（５）。
（６）を交互に一定の周期でＯＮ、ＯＦＦすることで銅
帯（２）をこの周期に合わせて交互に反対方向に引付け
て振動させるものであり、非接触のままで鋼帯（２）の
ワイピングノズル通過部を高振幅で振動させることが可
能なものである。
帯（２）をこの周期に合わせて交互に反対方向に引付け
て振動させるものであり、非接触のままで鋼帯（２）の
ワイピングノズル通過部を高振幅で振動させることが可
能なものである。
ところで、図中の符号（８）はスナウトを、（９）はジ
ンクロールを、そして００）はタッチロールをそれぞれ
示している。
ンクロールを、そして００）はタッチロールをそれぞれ
示している。
さて、第１図において、溶融めっき浴（１）から連続的
に引き上げられた鋼帯（２）は、その直後に振動発生器
（４）によって振動を与えられつつ、ワイピングノズル
（３）からの噴射気体を表面に吹付けられる。
に引き上げられた鋼帯（２）は、その直後に振動発生器
（４）によって振動を与えられつつ、ワイピングノズル
（３）からの噴射気体を表面に吹付けられる。
従って、銅帯（２）の表面に付着した溶融めっき金属に
は“振動による振り落とし作用”と“吹付は気体による
掻き落とし作用”が重畳され、殆んど瞬時に余分の付着
金属が除去されて目的付着量となり、しかも安定して均
一厚みが確保されることなる。このため、高いラインス
ピードであっても十分に薄いめっき目付けを実施でき、
ワイピングノズル単独の場合に比較して大幅に広い目付
量制御が可能となる。
は“振動による振り落とし作用”と“吹付は気体による
掻き落とし作用”が重畳され、殆んど瞬時に余分の付着
金属が除去されて目的付着量となり、しかも安定して均
一厚みが確保されることなる。このため、高いラインス
ピードであっても十分に薄いめっき目付けを実施でき、
ワイピングノズル単独の場合に比較して大幅に広い目付
量制御が可能となる。
そして、目付量の調整は、振動発生器（４）における電
磁石（５）、 （６）の吸引力の強さや吸引周期の変更
、或いはワイピングノズルの条件（吹付は気体圧。
磁石（５）、 （６）の吸引力の強さや吸引周期の変更
、或いはワイピングノズルの条件（吹付は気体圧。
吹付は角度、鋼帯面との距離等）変更によって簡単に実
施することができる。
施することができる。
なお、この場合の振動発生器（４）の電磁石（５）、
（６１配置位置は、上述のようなワイピングノズル（３
）の直後位置のほか、第２図に示す如きワイピングノズ
ル（３）の直前に単独で設けても良く、またワイピング
ノズル（３）の直前と直後に併置しても良いことは言う
までもない。
（６１配置位置は、上述のようなワイピングノズル（３
）の直後位置のほか、第２図に示す如きワイピングノズ
ル（３）の直前に単独で設けても良く、またワイピング
ノズル（３）の直前と直後に併置しても良いことは言う
までもない。
続いて、この発明を実施例により更に具体的に説明する
。
。
〈実施例〉
実施例 ｌ
めっき目付量の制御手段として“従来のガスワイピング
法（ワイピングノズルのみによる目付量制御）″と“本
発明法（ワイピングノズルと振動発生器を使用した目付
量制御：第１図で示した方法）”とをそれぞれ適用し、
厚さ０．６龍の鋼帯に対して種々のライン速度で連続溶
融亜鉛めっきを施すことにより、達成できるめっき目付
量の範囲をライン速度との関係で比較した。
法（ワイピングノズルのみによる目付量制御）″と“本
発明法（ワイピングノズルと振動発生器を使用した目付
量制御：第１図で示した方法）”とをそれぞれ適用し、
厚さ０．６龍の鋼帯に対して種々のライン速度で連続溶
融亜鉛めっきを施すことにより、達成できるめっき目付
量の範囲をライン速度との関係で比較した。
なお、それぞれのワイピング条件は次の通りであった。
吹付はガス：Ｎ２ガス。
吹付はガス圧： ０．８ｋｇ／ ｇ 。
ノズル開度：４０鰭。
吹付はガス：Ｎ２ガス。
吹付はガス圧： ０．８ｋｇ／イ。
ノズル開度：４０龍。
振動発生器の電磁石間距離：１００ｍｍ。
電磁石の磁束密度： ０．２０ｗｂ／ ｍ 。
振動周波数： １０００Ｈｚ。
このようにして得られた結果を整理し、第４図に示す。
第４図からも明らかなように、従来のガスワイピング法
ではめっき目付量１３５ｇ／ｒｒｒを達成できる最高速
度は１２０ ｍ／ｍｉｎであったが、振動発生器を併用
することにより約１６０ ｍ／ｍｉｎまで可能となるこ
とが確認された。
ではめっき目付量１３５ｇ／ｒｒｒを達成できる最高速
度は１２０ ｍ／ｍｉｎであったが、振動発生器を併用
することにより約１６０ ｍ／ｍｉｎまで可能となるこ
とが確認された。
実施例 ２
厚さ：０．５ｍ、幅：８９４ｍｍの銅帯に溶融亜鉛の連
続めっきを施すに際して、目付量制御手段として第１図
で示した方法を適用し、 ラインスピード： １５０ ｍ／ｍｉｎ。
続めっきを施すに際して、目付量制御手段として第１図
で示した方法を適用し、 ラインスピード： １５０ ｍ／ｍｉｎ。
吹付はガス：Ｎ２ガス。
吹付はガス圧： ０．８ｋｇ／ ｔｒｉ 。
ノズル開度：４０ｗ。
振動発生器の電磁石間距離：１００Ｂ。
電磁石の磁束密度： ０．２０智ｂ／ｍ。
の条件で、振動の周波数を５００−１０００Ｈｚの間で
変化させた場合の目付量変化を調査した。
変化させた場合の目付量変化を調査した。
この試験によって得られた結果を整理し、第５図に示す
。
。
第５図からも明らかな如く、周波数が５００Ｈｚでは８
２ｇ／ｒｄ、 １０００Ｈｚでは３０ｇ／ｒｒｒと言
うように、ワイピングノズルを通過する部分の銅帯の振
動周波数が増加するに従って規則正しくめっき目付量が
減少し、振動周波数を１０００Ｈｚにすると５００１１
ｚの場合に比べて約６３％も目付量を減少できることが
確認された。そして、この事実からも、振動周波数の調
節によって狙い通りにめっき目付量を調整することが可
能である旨が分かる。
２ｇ／ｒｄ、 １０００Ｈｚでは３０ｇ／ｒｒｒと言
うように、ワイピングノズルを通過する部分の銅帯の振
動周波数が増加するに従って規則正しくめっき目付量が
減少し、振動周波数を１０００Ｈｚにすると５００１１
ｚの場合に比べて約６３％も目付量を減少できることが
確認された。そして、この事実からも、振動周波数の調
節によって狙い通りにめっき目付量を調整することが可
能である旨が分かる。
く効果の総括〉
以上に説明した如く、この発明によれば、連続溶融めっ
きにおける目付量の幅広い制御が可能となり、高いライ
ンスピードの下でも極めて薄い均一な目付けを安定して
達成することができるなど、産業上有用な効果がもたら
される。
きにおける目付量の幅広い制御が可能となり、高いライ
ンスピードの下でも極めて薄い均一な目付けを安定して
達成することができるなど、産業上有用な効果がもたら
される。
第１図は、本発明の実施状況例を示す概念図である。
第２図は、本発明の別の実施状況例を示す概念図である
。 第３図は、本発明の更に別の実施状況例を示す概念図で
ある。 第４図は、本発明例と従来例とでのライン速度に対する
可能目付量を比較したグラフである。 第５図は、本発明を適用した溶融めっき例における振動
周波数とめっき目付量との関係を示したグラフである。 図面において、 １・・・溶融めっき浴、 ２・・・銅帯。 ３・・・ワイピングノズル、 ４・・・振動発生器。 ５、６．５′、 ６′・・・電磁石。 ７・・・振動コントローラー、 ８・・・スナウト。 ９・・・ジンクロール、 １０・・・タッチロール。
。 第３図は、本発明の更に別の実施状況例を示す概念図で
ある。 第４図は、本発明例と従来例とでのライン速度に対する
可能目付量を比較したグラフである。 第５図は、本発明を適用した溶融めっき例における振動
周波数とめっき目付量との関係を示したグラフである。 図面において、 １・・・溶融めっき浴、 ２・・・銅帯。 ３・・・ワイピングノズル、 ４・・・振動発生器。 ５、６．５′、 ６′・・・電磁石。 ７・・・振動コントローラー、 ８・・・スナウト。 ９・・・ジンクロール、 １０・・・タッチロール。
Claims (1)
- ワイピングノズルの前又は後或いは前後両位置に振動発
生器を配置し、溶融めっき浴から連続的に引き上げられ
る金属ストリップに振動を付与すると共に、その表面に
ワイピングノズルからの気体を吹付けてめっき付着量を
調整することを特徴とする、連続溶融めっき目付量の制
御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30444987A JPH01147049A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 溶融めっき目付量の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30444987A JPH01147049A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 溶融めっき目付量の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01147049A true JPH01147049A (ja) | 1989-06-08 |
Family
ID=17933144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30444987A Pending JPH01147049A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 溶融めっき目付量の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01147049A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005256055A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Jfe Steel Kk | 連続溶融金属メッキ方法及び装置 |
-
1987
- 1987-12-03 JP JP30444987A patent/JPH01147049A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005256055A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Jfe Steel Kk | 連続溶融金属メッキ方法及び装置 |
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