JPH01145601A - 酸化イツトリウム系透光性複合材 - Google Patents
酸化イツトリウム系透光性複合材Info
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- JPH01145601A JPH01145601A JP87305174A JP30517487A JPH01145601A JP H01145601 A JPH01145601 A JP H01145601A JP 87305174 A JP87305174 A JP 87305174A JP 30517487 A JP30517487 A JP 30517487A JP H01145601 A JPH01145601 A JP H01145601A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レンズ、プリズム、光学窓のような光学部品
等の材料として好適な透光性の複合材に関する。
等の材料として好適な透光性の複合材に関する。
龜空機や宇宙船等の高速飛翔体の外面に装着される光学
窓等には、優れた耐久性と共に優れた透光性が要求され
る。又、このような光学窓等には光学系として用いる光
の波長によって、紫外光、可視光、近赤外光、中赤外光
、遠赤外光等を良好に透過する材料が夫々選択されてい
る。
窓等には、優れた耐久性と共に優れた透光性が要求され
る。又、このような光学窓等には光学系として用いる光
の波長によって、紫外光、可視光、近赤外光、中赤外光
、遠赤外光等を良好に透過する材料が夫々選択されてい
る。
従来、中赤外光用の透光性材料としては、単結晶の又は
ホットプレス法により製造した多結晶の弗化カルシウム
（ＯａＦ ）や弗化マグネシウム（ＭｇＦ ）等が用い
られてきた。これらの弗化物系透光性材料は波長３μｍ
〜６μｍの中赤外光に対して最高で約９０％（厚さ３ｍ
）の優れた透過率を示す。
ホットプレス法により製造した多結晶の弗化カルシウム
（ＯａＦ ）や弗化マグネシウム（ＭｇＦ ）等が用い
られてきた。これらの弗化物系透光性材料は波長３μｍ
〜６μｍの中赤外光に対して最高で約９０％（厚さ３ｍ
）の優れた透過率を示す。
しかし、この様な弗化物系透光性材料はヌープ硬度がＣ
ａＦで約１６０程度及びＭｇＦ２で約４２０程度と低い
ため、高速飛翔体の光学窓に用いると大気中に浮遊する
ダストやヒョウ等の固形粒子との衝突又は雨滴との高速
衝突等により、表面が傷ついたり、レインエロージョン
と呼ばれる化学的機械的腐食が発生しや丁い欠点があっ
た。
ａＦで約１６０程度及びＭｇＦ２で約４２０程度と低い
ため、高速飛翔体の光学窓に用いると大気中に浮遊する
ダストやヒョウ等の固形粒子との衝突又は雨滴との高速
衝突等により、表面が傷ついたり、レインエロージョン
と呼ばれる化学的機械的腐食が発生しや丁い欠点があっ
た。
その為、波長３〜６μｍ帯での新しい中赤外光用透光性
材料として多くの材料が研究開発されているが、なかで
も酸化イツトリウム（ＹＯ）は有望な材料のひとつであ
る。酸化イツトリウムはイツトリアとも呼ばれ、ヌープ
硬度が８００程度と高いうえ、融点が２０００ Ｃ以上
で耐熱性も高い。又、酸化イツトリウムはホットプレス
法、焼結助剤として酸化ランタン等を添加した常圧焼結
法等により多結晶体が製造でき、結晶型が立方晶である
ため結晶粒界による光散乱がなく、透光性のよい材料が
得られや丁い利点がある。
材料として多くの材料が研究開発されているが、なかで
も酸化イツトリウム（ＹＯ）は有望な材料のひとつであ
る。酸化イツトリウムはイツトリアとも呼ばれ、ヌープ
硬度が８００程度と高いうえ、融点が２０００ Ｃ以上
で耐熱性も高い。又、酸化イツトリウムはホットプレス
法、焼結助剤として酸化ランタン等を添加した常圧焼結
法等により多結晶体が製造でき、結晶型が立方晶である
ため結晶粒界による光散乱がなく、透光性のよい材料が
得られや丁い利点がある。
しかしながら、酸化イツトリウムの透過率は波長３μｍ
〜６μｍの中赤外光に対して最高でも約８０％（厚さ３
ｗａｓ ）程度と弗化物系材料に比べて低く、従来か
らの約９０％以上の透過率を前提とした光学系の設計の
観点からは問題であり、透過率の向上が強く望まれてい
た。
〜６μｍの中赤外光に対して最高でも約８０％（厚さ３
ｗａｓ ）程度と弗化物系材料に比べて低く、従来か
らの約９０％以上の透過率を前提とした光学系の設計の
観点からは問題であり、透過率の向上が強く望まれてい
た。
このように酸化イツトリウムの透過率が約８０％（厚さ
３ｔＩｍ）程度に留まる原因は主として酸化イツトリウ
ム表面での反射損失によるものと考えられる。酸化イツ
トリウムの屈折率は１．９１であるから、その表面での
計算上の反射率は片面９．８％となる。この反射損失を
なくし又は低減させるため一般的には反射防止膜が用い
られるのであるが、各種の反射防止膜の特性は可視光域
では明らかになっているが赤外光域では殆ど知られてお
らず、又付着強度など・酸化イツ） ＩＪウム基材との
関係においてもどのような材料が適当であるが全く知ら
れていなかった。
３ｔＩｍ）程度に留まる原因は主として酸化イツトリウ
ム表面での反射損失によるものと考えられる。酸化イツ
トリウムの屈折率は１．９１であるから、その表面での
計算上の反射率は片面９．８％となる。この反射損失を
なくし又は低減させるため一般的には反射防止膜が用い
られるのであるが、各種の反射防止膜の特性は可視光域
では明らかになっているが赤外光域では殆ど知られてお
らず、又付着強度など・酸化イツ） ＩＪウム基材との
関係においてもどのような材料が適当であるが全く知ら
れていなかった。
本発明はかかる従来の事情に鑑み、酸化イツトリウム基
材に最適な反射防止膜を設けることにより透過率を最高
で約９０％以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性に
も優れ、高速飛翔体の光学窓材料としても好適な、酸化
イツ） ＩＪウム系透光性複合材を提供することを目的
とする。
材に最適な反射防止膜を設けることにより透過率を最高
で約９０％以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久性に
も優れ、高速飛翔体の光学窓材料としても好適な、酸化
イツ） ＩＪウム系透光性複合材を提供することを目的
とする。
本発明の酸化イツトリウム系透光性複合材は、透光性の
酸化イツトリウム基材の少なくとも一表面に弗化マグネ
シウム被膜を形成したことを特徴とする。
酸化イツトリウム基材の少なくとも一表面に弗化マグネ
シウム被膜を形成したことを特徴とする。
酸化イツトリウム基材は従来と同様にホットプレス法や
焼結助剤を添加した常圧焼結法などにより製造された多
結晶体であってよい。
焼結助剤を添加した常圧焼結法などにより製造された多
結晶体であってよい。
酸化イツ） ＩＪウム基材の表面に設ける弗化マグネシ
ウム被膜は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法等の通常の薄膜形成法により形成すること
ができる。
ウム被膜は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法等の通常の薄膜形成法により形成すること
ができる。
弗化マグネシウム（Ｍｇｌ’ ）の中赤外光域での屈折
率をプリズム法により波長別に測定した結果、下記する
値が得られた。
率をプリズム法により波長別に測定した結果、下記する
値が得られた。
他方、酸化イツトリウムの屈折率は前記したように１．
９１であるから、酸化イツトリウム基材の反射防止膜の
屈折率は計算上その平方根である１、３８が望ましい。
９１であるから、酸化イツトリウム基材の反射防止膜の
屈折率は計算上その平方根である１、３８が望ましい。
中赤外光域においてこの様な小さな屈折率を有する透光
性材料としては、上記のＭｇＦ のほかにＮａＦ、 Ｏ
ａＦ 、 ＢａＦ などが考えら２
２ ｌ ２れる。しかし、ＮａＦ
ｓ ＯａＦ及びＢａＦ はいずれも強度、水への溶解
度などの点で望ましくなく、ＮａＦは毒性がある点でも
好ましくない。
性材料としては、上記のＭｇＦ のほかにＮａＦ、 Ｏ
ａＦ 、 ＢａＦ などが考えら２
２ ｌ ２れる。しかし、ＮａＦ
ｓ ＯａＦ及びＢａＦ はいずれも強度、水への溶解
度などの点で望ましくなく、ＮａＦは毒性がある点でも
好ましくない。
然るに、ＭｇＦ は上記した様に中赤外光域における
酸化イツトリウムの反射防止膜として好ましい屈折率を
有するうえ化学的及び機械的にも良好な特性を具えてい
るので、ＭｇＩＰ を酸化イツトリラム基材表面に被
膜形成することにより大幅に反射損失を低減して透過率
を向上させることができ、しかも高速飛翔体の如く厳し
い使用条件下においても実用できる透光性複合材が得ら
れる。
酸化イツトリウムの反射防止膜として好ましい屈折率を
有するうえ化学的及び機械的にも良好な特性を具えてい
るので、ＭｇＩＰ を酸化イツトリラム基材表面に被
膜形成することにより大幅に反射損失を低減して透過率
を向上させることができ、しかも高速飛翔体の如く厳し
い使用条件下においても実用できる透光性複合材が得ら
れる。
第２図は波長４μｍの反射率が最小になるように形成し
た単層のＭｇｌ１ｖＣ膜を表面に有する酸化イツ） ９
ラム系透光性複合材の反射率とＭｇＦ 被膜の膜厚と
の関係を示したものであり、前記の通り酸化イツトリウ
ム自体の反射率が９．８％であるにも拘らずＭｇＦ 膜
厚が０．４〜１．１／１ｍの範囲で３％以下の反射率と
なること、及び最適なＭｇＦ 膜厚は０．７４μｍ付
近であることが判る。
た単層のＭｇｌ１ｖＣ膜を表面に有する酸化イツ） ９
ラム系透光性複合材の反射率とＭｇＦ 被膜の膜厚と
の関係を示したものであり、前記の通り酸化イツトリウ
ム自体の反射率が９．８％であるにも拘らずＭｇＦ 膜
厚が０．４〜１．１／１ｍの範囲で３％以下の反射率と
なること、及び最適なＭｇＦ 膜厚は０．７４μｍ付
近であることが判る。
第３図は膜厚０．７４μｍの単層のＭｇＦ 被膜を有
する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材の反射率と波
長の関係を示したものであり、波長３〜６μｍの中赤外
光域で３％以下の反射率となること、及び最小反射率は
波長４μｍ付近で得られることが判る。
する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材の反射率と波
長の関係を示したものであり、波長３〜６μｍの中赤外
光域で３％以下の反射率となること、及び最小反射率は
波長４μｍ付近で得られることが判る。
最小反射率のピークを更に幅広い、ものにする為に、Ｍ
ｇＦ と屈折率の異なる被膜を組合せ゛た多層被膜に
することができ、その場合にＭｇ１Ｆ 被膜に組合せる
被膜としてはＮＩＬＦ％ ＯａＦ 、 Ｂａｒ 、 ５
ｉＯ１ＺｎＳ、 Ｚｎ５ｅｓ ＴｈＦ 又はＭｇＯ等
が好ましい。
ｇＦ と屈折率の異なる被膜を組合せ゛た多層被膜に
することができ、その場合にＭｇ１Ｆ 被膜に組合せる
被膜としてはＮＩＬＦ％ ＯａＦ 、 Ｂａｒ 、 ５
ｉＯ１ＺｎＳ、 Ｚｎ５ｅｓ ＴｈＦ 又はＭｇＯ等
が好ましい。
尚、酸化イツトリウムは波長０．３μｍの紫外光から、
可視光、更に中赤外光までの広い領域で８０％程度の良
好な透過率を示す。従って、中赤外域以外の波長領域で
も酸化イツ） ＩＪウムを光学材料として用いることが
可能であり、その場合にも膜厚を波長に合わせて調整子
ればＭｇＦ 被膜が酸化イツトリウムの透光性の向上
に有効である。
可視光、更に中赤外光までの広い領域で８０％程度の良
好な透過率を示す。従って、中赤外域以外の波長領域で
も酸化イツ） ＩＪウムを光学材料として用いることが
可能であり、その場合にも膜厚を波長に合わせて調整子
ればＭｇＦ 被膜が酸化イツトリウムの透光性の向上
に有効である。
実施例１
純度９９．９％で平均粒径約２μｍのＹＯ粉末と、純度
９９．９％で粒径約３μｍのＬａ Ｏ粉末をＹＯ：Ｄａ
Ｏのモル比０．９：０．１で硝酸に溶解し、シュつ酸
で共沈させた。これを水洗、乾燥、篩分けした後、１０
００Ｃで１時間仮焼し、得られた粉末をゴム型に入れて
２ ｔｏｎ／ｆ）Ｉの圧力で静水圧成形し、直径３０闘
の成形体を得た。この成形体を水素雰囲気中において２
２００Ｃで２４時間焼結し、厚さ３龍に光学研磨して酸
化イツ） ＩＪウム基材を得た。
９９．９％で粒径約３μｍのＬａ Ｏ粉末をＹＯ：Ｄａ
Ｏのモル比０．９：０．１で硝酸に溶解し、シュつ酸
で共沈させた。これを水洗、乾燥、篩分けした後、１０
００Ｃで１時間仮焼し、得られた粉末をゴム型に入れて
２ ｔｏｎ／ｆ）Ｉの圧力で静水圧成形し、直径３０闘
の成形体を得た。この成形体を水素雰囲気中において２
２００Ｃで２４時間焼結し、厚さ３龍に光学研磨して酸
化イツ） ＩＪウム基材を得た。
この酸化イツ） ＋７ウム基材の赤外分光透過率３測定
したところ第１図における曲線Ａのチャートを得た。
したところ第１図における曲線Ａのチャートを得た。
次に、この酸化イツトリウム基材を有機溶剤で洗浄した
後、真空蒸着装置中においてＴａボート内で溶融したＭ
ｇｌ？ を蒸着させ、膜厚モニターで膜厚を０．７４
μｍに制御したＭｇＦ’ 被膜を一表面上に形成した
。更に同じ手順で他方の表面上にも同じ膜厚のＭｇＦ
被膜な形成した。得られた酸化イツトリウム系透光性
複合材の赤外分光透過率を測定したところ第１図におけ
る曲線Ｂのチャートが得られ、最高のピーク透過率は９
５％であった。
後、真空蒸着装置中においてＴａボート内で溶融したＭ
ｇｌ？ を蒸着させ、膜厚モニターで膜厚を０．７４
μｍに制御したＭｇＦ’ 被膜を一表面上に形成した
。更に同じ手順で他方の表面上にも同じ膜厚のＭｇＦ
被膜な形成した。得られた酸化イツトリウム系透光性
複合材の赤外分光透過率を測定したところ第１図におけ
る曲線Ｂのチャートが得られ、最高のピーク透過率は９
５％であった。
実施例２
７．１１７フキシドの加水分解法により得られたＭ度９
９．９％で粒径１μｍのＹＯ粉末を、内面にＢＮ粉末を
怜布した高純度グラファイト型（内径３Ｑｍｓ）に入れ
、真空中において５００臀惺の圧力と２１００Ｃの温度
で３時間ホットプレスした。得られた焼結体から直径２
Ｑ＋ｕｓ及び厚さ３闘の光学研磨加工した酸化イツトリ
ウム基材を得た。この酸化イツトリウム基材の赤外分光
透過率を測定したところ、第１図における実施例１の曲
線Ａと同様であるが平均数％だけ透過率の低いチャート
が得られた。
９．９％で粒径１μｍのＹＯ粉末を、内面にＢＮ粉末を
怜布した高純度グラファイト型（内径３Ｑｍｓ）に入れ
、真空中において５００臀惺の圧力と２１００Ｃの温度
で３時間ホットプレスした。得られた焼結体から直径２
Ｑ＋ｕｓ及び厚さ３闘の光学研磨加工した酸化イツトリ
ウム基材を得た。この酸化イツトリウム基材の赤外分光
透過率を測定したところ、第１図における実施例１の曲
線Ａと同様であるが平均数％だけ透過率の低いチャート
が得られた。
次に、この酸化イツトリウム基材を有機溶剤で洗浄した
後、真空蒸着装置中において電子ビームで溶融し７：Ｍ
ｇＦ：Ｅ蒸着源として蒸着させ、膜厚が０．７４μｍの
ＭｇＦ 被膜を一表面上に形成した。
後、真空蒸着装置中において電子ビームで溶融し７：Ｍ
ｇＦ：Ｅ蒸着源として蒸着させ、膜厚が０．７４μｍの
ＭｇＦ 被膜を一表面上に形成した。
更に同じ手順で他方の表面上にも同じ膜厚のＭｇＦ ２
被膜を形成した。得られた酸化イツトリウム系透光性複
合材の赤外分光透過率を測定した結果、第１図における
実施例１の曲線Ｂと同様のチャートが得られ、最高のピ
ーク透過率は９３％であった。
被膜を形成した。得られた酸化イツトリウム系透光性複
合材の赤外分光透過率を測定した結果、第１図における
実施例１の曲線Ｂと同様のチャートが得られ、最高のピ
ーク透過率は９３％であった。
本発明によれば、酸化イツ） ＩＪウム基材に反射防止
膜としてＭｇＦ 被膜を設けることにより、透過率を
最高で約９０％以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久
性にも優れた酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材を提
供することができる。
膜としてＭｇＦ 被膜を設けることにより、透過率を
最高で約９０％以上に向上させ、同時に硬度が高く耐久
性にも優れた酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材を提
供することができる。
この酸化イツトリウム系透光性複合材は、中赤外光を中
心に、紫外光から可視光、近赤外光までの波長範囲で使
用されるレンズ、プリズム、光学窓等の光学部品の材料
として有用であって、特に航空機や宇宙船等の高速飛翔
体の外面に装着される光学窓として使用丁れば優れた透
光性と同時に優れた耐久性を示し特に有用である。
心に、紫外光から可視光、近赤外光までの波長範囲で使
用されるレンズ、プリズム、光学窓等の光学部品の材料
として有用であって、特に航空機や宇宙船等の高速飛翔
体の外面に装着される光学窓として使用丁れば優れた透
光性と同時に優れた耐久性を示し特に有用である。
第１図は実施例１において製造した酸化イツトリウム基
材（Ａ）と、この両表面にＭｇＦ 被膜を形成した酸
化イツ） ＩＪウム系透光性複合材（Ｂ）の夫々の赤外
分光透過率を示したグラフである。第２図は波長４μｍ
の反射率が最小になるように形成した単層のＭｇＩＦ
被膜を表面に有する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複
合材の反射率とＭｇ１Ｆ 被膜の膜厚の関係を示すグ
ラフである。第３図は膜厚０．７４μｍの単層のＭｇＦ
被膜を五する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材
の反射率と波長の関係を示Ｔグラフである。 第１図 波長（Ｐ□） の 〜 、−０叱逼冊弓く
材（Ａ）と、この両表面にＭｇＦ 被膜を形成した酸
化イツ） ＩＪウム系透光性複合材（Ｂ）の夫々の赤外
分光透過率を示したグラフである。第２図は波長４μｍ
の反射率が最小になるように形成した単層のＭｇＩＦ
被膜を表面に有する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複
合材の反射率とＭｇ１Ｆ 被膜の膜厚の関係を示すグ
ラフである。第３図は膜厚０．７４μｍの単層のＭｇＦ
被膜を五する酸化イツ） ＩＪウム系透光性複合材
の反射率と波長の関係を示Ｔグラフである。 第１図 波長（Ｐ□） の 〜 、−０叱逼冊弓く
Claims (4)
- （１）透光性の酸化イットリウム基材の少なくとも一表
面に弗化マグネシウム被膜を形成したことを特徴とする
酸化イットリウム系透光性複合材。 - （２）弗化マグネシウム被膜の膜厚が０．４〜１．１μ
ｍであることを特徴とする、特許請求の範囲（１）項記
載の酸化イットリウム系透光性複合材。 - （３）透過率のピークが波長３〜６μｍの中赤外光域で
あることを特徴とする、特許請求の範囲（１）項又は（
２）項記載の酸化イットリウム系透光性複合材。 - （４）弗化マグネシウム被膜をＮａＦ、ＣａＦ＿２、Ｂ
ａＦ＿２、ＳｉＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＴｈＦ＿４又は
ＭｇＯからなる少なくとも１種の被膜と組合わせて形成
したことを特徴とする、特許請求の範囲（１）〜（３）
項のいずれかに記載の酸化イットリウム系透光性複合材
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP87305174A JPH01145601A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 酸化イツトリウム系透光性複合材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP87305174A JPH01145601A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 酸化イツトリウム系透光性複合材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01145601A true JPH01145601A (ja) | 1989-06-07 |
Family
ID=17941951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP87305174A Pending JPH01145601A (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | 酸化イツトリウム系透光性複合材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01145601A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2012160979A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2014-07-31 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS536645A (en) * | 1976-07-01 | 1978-01-21 | Asahi Chemical Ind | Winding process for synthetic fibre |
| JPS58107502A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-27 | サンマスタ−・コ−ポレ−ション | 低反射の太陽エネルギ−選択被覆を備える太陽エネルギ−収集器 |
| JPS61117503A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Shinku Kikai Kogyo Kk | フツ化物被膜の形成方法 |
| JPS61133901A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-21 | ツエー・ライヘルト・オプテイツシエ・ヴエルケ・アーゲー | 光学素子 |
| JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
-
1987
- 1987-12-02 JP JP87305174A patent/JPH01145601A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS536645A (en) * | 1976-07-01 | 1978-01-21 | Asahi Chemical Ind | Winding process for synthetic fibre |
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| JPS61117503A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Shinku Kikai Kogyo Kk | フツ化物被膜の形成方法 |
| JPS61133901A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-21 | ツエー・ライヘルト・オプテイツシエ・ヴエルケ・アーゲー | 光学素子 |
| JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2012160979A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2014-07-31 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| JP6016037B2 (ja) * | 2011-05-24 | 2016-10-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| US9575216B2 (en) | 2011-05-24 | 2017-02-21 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Infrared-transmitting film, method for producing infrared-transmitting film, infrared optical component, and infrared device |
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