JPH01143601A - ガス流からの凝固による蒸気低減 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １、発明の分野 本発明は、ガス流から中温融点蒸気を低減する方法及び
装置に関する。− ２、技術的背景 極低温液をプラントでの使用で入手可能にしている製造
工場において、流出ガス流から揮発性物質を回収する際
に熱媒体として、沸騰中の極低温液を用いるのが有利と
分かった。しばしば、回収すべき揮発性物質により過度
に低い分離温度が必要とされ或は揮発性物質を回収すべ
きガス流が断続的に生じる故に、ガス流から揮発性物質
を凝縮する目的で熱伝達能を供すべく機械的冷却を用い
ることは実際的でない。

流出ガス流れと極低温液との熱交換は直接的でも間接的
でもよい。もし、極低温物質を加圧下に保ち且つ／或は
汚染しないよう保持し気化した寒剤が他のプロセスに再
利用しつるようにすることが望ましいなら、熱交換法は
典型的には間接的である。

間接熱交換に通常用いられる方法は膜管状熱交換器を使
用し、該交換器の片側に液体又は部分気化した極低温物
質を通し、他側に流出ガスを通す、液状極低温物質を流
出ガスと接触させる任意方法例えば上昇してくるガス流
に液体寒剤を下方噴霧する方法を用いて液体寒剤と流出
ガスとの直接熱交換を達成することができる。Ｒ，Ｗ、
　Ｗａｔｓｏｎ等の「揮発性液体の蒸気凝縮」と題する
英国特許筒１、５８２．９５５号に、上記方法と類似の
方法が詳述されている。

本発明に関連した主題が下記特許並びに放棄処分の特許
出願に開示されている： Ｒ，Ｄ、　Ｒｏｔｈｃｈｉｌｄの、「溶剤回収のための
方法及び装置」と題する米国特許第４．１５０．４９４
号、８０口、　Ｒｏｔｈｃｈｉｌｄの、「冷却のための
方法及び装置」と題する米国特許第４，２３７．７００
号、Ｍ、　Ｊ、　Ｃ１ａｒｋｓｏｎの、「揮発性液体ノ
回収方法」ト題する米国特許第４．１２２．６８４号。

Ｆ、Ｎ、Ｓｔｅｉｇｍａｎの、「冷媒方法」と題する米
国特許第４．４６４．９０４号、 Ｒ，Ｂａｎｅｒｊｅｅの、「熱交換の方法及び装置」と
題する米国特許第４．５５１．９８１号及びＲ，Ｂ、　
Ｅｇｈｅｒｔの、「無水フタル酸の製造方法」と題する
米国特許第３．５３５．３４５号並びにに、　Ｍ、　Ｐ
ｏｈｌの、「揮発性液体の貯蔵ないし荷重時数出物を低
減させるための方法及び該方法を実施しするための装置
」と題する公開西独国特許出願第２４１１６０１．６号
。

Ｒ，Ｂ、　Ｅｇｈｅｒｔの米国特許第３．５３５．３４
５号以外の上記方法は、ガス流から揮発性物質を凝縮に
より回収する際熱媒体として極低温液体（約−２００°
Ｆより低い標準沸点を有する液体）を用いる。

上記文献に開示された極低温技術の方法及び装置は、搬
入ガス流れ中の揮発性物質が限定された熱交換表面上で
凝固しく該表面を汚染し）ないよう故意に制限されてい
る。汚染問題に対する一つの方策は、搬入ガス流れ又は
その還流凝縮物を気化中の寒剤と直接接触させることに
より、限定された熱交換表面を排除することであった。

この方策は寒剤の圧力損失と、ガス流成分による寒剤汚
染を惹起する。かくして、この直接接触方策で用いられ
る気化した寒剤は典型的には大気に排出される。加圧清
浄ガスとして用いられる寒剤の非回収性は処理コストを
大いに高め、大気に排出される揮発物含有ガスの容積を
高める。気化寒剤のかなり大きなガス容積は凝縮器から
回収すべき揮発物の凝縮物小滴を揚上する傾向があり、
揮発物の減少又は回収という処理目的を覆すことになる
。

気化寒剤と、揮発物を除去すべき搬入ガス流との直接接
触により遭遇される欠点の多くは気化寒剤と搬入ガス流
との間に適当な中間的熱交換流体を賦課することによっ
て排除することができる。前記引例のいくつかは斯かる
中間的流体の使用を開示している。該中間的流体は、寒
剤によってその融点よりも高い内部温度へと間接的に冷
却され得、揮発性成分の融点を越える温度で凝縮すべき
揮発性成分を含む搬入ガス流れとの直接的若しくは間接
的熱交換に付されつる。この技法はいかなる間接的熱交
換器の限定された表面をも汚染しない。

冷却された中間的流体が搬入ガス流と直接接触するとき
、前記文献は冷却流体として搬入ガス流の揮発成分１種
若しくは２種以上の液体凝縮物の使用を推奨している。

前記文献はまた、揮発物回収法の遂行に先立ち中間的流
体と搬入ガス流とから高温凍結する物質（例　３２＃Ｆ
での湿分）すべてを除去して斯かる物質の凍結を排除し
且つ冷却された中間的流体と気化寒剤との間接熱交換表
面の汚染を排除することを推奨している。また、中間的
冷却流体と気化寒剤との間接的熱交換の間熱交換器の中
温末端温度（中間的流体が交換器に流入する箇所での温
度）は、熱交換器の該末端箇所で湿分を凍結析出させな
いよう少くとも３２°Ｆに制御すべきことも提案されて
いる。

揮発物の（特に低い濃度への）低減が要求され或は、揮
発物低減操作に入ってくるガス流れが比較的高温で凍結
（凝固）しやすい揮発性物質（例　３２°Ｆの水）を含
む用途がある。斯かる用途は、前記文献の低温法では十
分に満たされない。

特に、揮発物低減の状況において、揮発物低減操作から
出てくるガス流に許容される特定の揮発物濃度は、揮発
性成分１種ないし２種以上の融点より低い流出ガス流れ
温度を必要とする。斯かるプロセスは必ず、流入揮発性
成分１種ないし２種以上の固体層を形成する。

加えて、極低温による揮発物低減法は連続操作を必要と
する。前記文献に開示されたガス流からの揮発物低減法
は、 ｌ）　湿分及び／又は他の高融点揮発物を除去するのに
ガス流を予備処理し、２）揮発物回収操作の少くとも一
部分の熱交換温度をガス流揮発物の最高融点よりも高い
温度に限定し或は、３）熱交換表面の再生（該表面から
の固体除去）を可能にすべく熱交換器を二重設置するこ
との少くとも一つを必要とする。揮発物の極低温除去法
の中で上記３手段のいずれをも必要としないようにする
ことにより、資本投資の経費及び／又は操作コストの両
面で実質的節減が達成されつる。

水１皿旦１１ 本発明はガス流からの中温融点蒸気を低減又は排除する
ための方法及び装置を提供する。中温沸点蒸気は、ガス
流とチルド液との直接接触により凝固し次いで慣用液−
固分離技法を用いることによりチルド液から除去される
。チルド液は、処理したガス流れ中の危険量ないし非経
済的量のチルド液蒸気を排除するのに十分低い接触温度
での蒸気圧を示さねばならない。チルド液はプロセスに
再循環され、そこで極低温液との間接的熱交換によって
冷却される。

中温融点蒸気の凝縮よりもむしろ凝固を用いることによ
り、蒸気除去温度が有意に低くなり、それによって中温
融点蒸気と、該蒸気を流出ガス流から除去すべく用いら
れるチルド液双方の蒸気圧が低められる。この蒸気圧の
低下によって、処理されたガス流は中温融点蒸気とチル
ド液成分の含量とが低められる。凝固した中温融点蒸気
が最小限の溶解度を示すチルド液の選定は、再循環され
るチルド液の中温融点蒸気を低減（し、それによって更
に処理ガス流の中温融点蒸気含量を低下）するのに役立
ち、また成る場合にはチルド液の粘度を低め、それによ
ってチルド液再循環ラインにおける流体流れ特性を改良
するのに役立つ。

下記用語は本明細書で用いるとき下記意味を有する： 接触温度：　揮発物低減プロセスに入ってきたガス流と
接触せしめられるときのチルド液の温度。この接触温度
は、揮発物低減プロセスから出てくるガス流に付された
特定の揮発物含量範囲により定められる。

中温融点蒸気：　融点が中間的冷却液接触温度より高く
斯くして該液との接触時凝固する、揮発物低減プロセス
への入来ガス流れ成分０例示のため而して非制限的な代
表的炭化水素として、ベンゼン［標準融点（ｎｍｐ）＝
４１°Ｆ］、四塩化炭素（ｎｍｐ＝ｌＯ下）及び１．１
．１−トリクロロエタン（ｎｍｐ・−２４’Ｆ）が含ま
れる０例示目的の而して非制限的な代表的非炭化水素中
温融点蒸気として、水（ｎｍｐ・３２°Ｆ）、臭素（ｎ
ｍｐ：１９下）、重水素ＤｘＯ（ｎｍｐ□３９下）、ヒ
ドラジンＮ）ＩＪＨａ　（ｎｍｐ□３６下）及び過酸化
水素Ｈ，Ｏ，（ｎｍｐｘ３１″Ｆ）が挙げられる。

また、例示のため而して非制限的な代表的非炭化水素中
温融点蒸気として、ニッケルカルボニルＮｉ　（ＣＯ）
　ａ　（ｎｍｐ□　−１３下）、セレンオキシ弗化物５
ｅＯＦ＊　（ｎｍｐ＝４０°Ｆ）及び四塩化バナジウム
ＶＣＬ（ｎｍｐ・−１８下）の如き比較的低分子量金属
化合物の蒸気が挙げられる０、 チルド液二　入来ガス流との接触時該ガス流中の蒸気／
揮発物の少くとも一部分を凝固するのに用いられる液体
、注意すべきは、凝固される中温融点蒸気に付随したチ
ルド液との接触でいくらかの蒸気／揮発物が凝固しうる
ことである。チルド液の融点は入来ガス流から除去ない
し排除することを企図した中温融点蒸気のいずれの融点
よりも低くなければならず、また気化寒剤間接的熱交換
表面上での凍結（凝固）チルド液の潜在的蓄積を最小限
に抑えるには代表的には斯かる蒸気融点より実質上低く
あるべきである。チルド液の実際の内部温度は典型的に
は接触温度か或はそれより若干低く保持される。接触温
度でのチルド液の蒸気圧はプロセスから出てくるガス流
れ中の危険量のチルド液を排除するのに十分低くなけれ
ばならない、加えて、内部温度でのチルド液の粘度は、
該液をポンプ給送可能にし且つ揮発物低減プロセス内で
ガス流を効率的に接触させるのに十分低くあるべきであ
る。適当なチルド液の非制限的例としてエチルアルコー
ル（ｎｍｐ＝　−１７９下）及びアセトン（ｎｍｐ＝−
１４０下）が挙げられる。平衡化せる１気圧、−５０下
での処理ガス流中の物質濃度は夫々的０．０４０％及び
０．４４％である。

プロセスから出てくるガス流中の危険量のチルド液蒸気
：　ヒト及び特性値を保護すべく指定された適用しつる
健康基準ないし易燃性基準を越える濃度のチルド液蒸気
。

健康基準は、０３ＨＡ、ＥＰＡ及び他の政府機関の如き
情報源から入手される。制限するつもりはないが、斯か
る健康基準の例は、官設産業衛生学アメリカ評議会によ
り発行された物質別限界値（ＴＬＶ）（通常大気中の濃
度を基準とするが、無害ガス中の濃度に換算することも
可能）である。ＴＬＶ値は、作業員の殆どすべてが悪影
響なしに毎日反復暴露されつると考えられる条件を表わ
す。ＴＬＶ値を設定するのに入手しつる情報量とその種
類は物質によって異なり、且つ更新されている。斯くし
て、健康管理のための最新の指針を定めるのに最も新し
い情報を調べるべきである。

国立火災保護協会発行の「危険物質に関する火災保護手
引き」等から爆発濃度限界（ＬＥＬ）及び易燃性の情報
が入手される。

非経済的量のチルド液蒸気：　揮発物低減プロセスから
出てくるガス流中のチルド液の濃度で、本プロセスをし
て同じ回収又は排除結果を達成するのに別法よりコスト
高なものとする濃度。

極低温液：　約−２００下以下の温度で供される窒素、
酸素又はアルゴンの如き液化大気成分。

女ましい　　　の３口 本発明の好ましい方法は、低減すべき蒸気／揮発物を含
有するガス流を、該低減すべき蒸気成分ではないチルド
液と直接接触させることを包含する。接触するチルド液
は、蒸気流から除去すべき成分少くとも１種の融点より
低い温度で供給される。接触するチルド液はそれ故、凝
固により除去される蒸気／揮発物の融点より低い融点を
有する。接触するチルド液はまた、処理ガス流中の危険
量の蒸気を排除するのに十分低い接触温度での蒸気圧を
有する。加えて、接触液は、処理ガス流中の非経済的量
の蒸気をもたらさない接触温度での蒸気圧を有すべきで
ある。凝固した中温融点蒸気（チルド液から分離され且
つプロセスから取り出された蒸気）とともに搬出される
チルド液はプロセス操作の間置換されねばならず、それ
によってプロセスのコストが占められる。

上記の好ましいプロセスは、揮発物回収プロセスから出
てくるガス流に適用されるＴＬＶ標準の如き特定の基準
を満たすべく蒸気／揮発物低減を最適化するよう設計さ
れ−た中温融点蒸気と選定チルド液との温度差利用を可
能にする。使用すべきチルド液は斯界で通常用いられる
文献から入手される物理的化学的データを基準に選定す
ることができる。

本発明のさほど好ましくないプロセスで、チルド液は、
融点が接触温度より低い入来ガス流中の凝縮可能物質の
凝縮物である。凝縮物の融点は、該凝縮物との直接接触
で中温融点蒸気が凝固するよう中温融点蒸気よりも十分
低くなければならない。加えて、ガス流中に残存するチ
ルド液蒸気の量は危険量であってはならず、非経済的で
あってもならない。チルド液は入来ガス流中の凝縮可能
物質の凝縮物であるとき、チルト液からの凝固中温融点
蒸気の効率的な分離は、プロセス中所定のチルド液量を
保持する面でさほど臨界的でない。凝固中温融点蒸気と
ともにプロセスから除去されるチルド液は、入来ガス流
の処理に際し生ずる付加的凝縮物によって少くとも部分
的に置換され、それによって増分的プロセスコストが軽
減される。要求される付加的チルド液はプロセスに補給
液として直接供給せねばならない。

本発明の方法を容易に実施するのに用いる装置を方法の
説明と組合わせて最も良く説明する。

中温融点蒸気を含有するガス流とチルド流との接触は、
代表的には、第１図に示す通りの噴霧塔１０において行
う。というのは、かかる塔は凝固される中温融点蒸気に
よるファウリングをそれ程受けないからである。しかし
、接触装置は噴霧塔に限られず、接触するチルド液のフ
ラッシング作用がファウリングを防ぐ程であるならば、
例えば棚段塔（プレートカラム）を用い得る。別の選択
は、流出ガスを接触チルド液の中にバブリングさせるこ
とである。

第１図に示す通りに、中温融点蒸気を含有するプロセス
ガス３２を噴霧塔１０に供給し、そこでプロセスガス３
２に、噴霧ノズル３０からプロセスガスに衝突するチル
ド液２４を直接接触させる。プロセスガスとチルド液と
の接触により中温融点蒸気の凝固或はフリージングアウ
ドを生じ、該凝固された蒸気はチルド液と一緒に運ばれ
て噴霧塔１０の底部部分のチルド液及び凝固蒸気のブー
ル１２になる。

ブール１２は接触用液と凝固蒸気とのスラリーから成り
、該ブール１２を浸漬冷却コイル１４によって接触温度
に（或は接触温度よりわずかに低く）保つ。液体寒剤或
は気化寒剤がコイル１４の内側の冷却剤となる。代表的
には、液体寒剤２０が冷却コイル１４に入り及び気化し
た寒剤２２がコイルを出る。熱交換手段は図示する通り
のコイルである必要はなく、手段の使用が手段の熱交換
表面での凝固した中温融点蒸気の堆積を、手段を作動不
可能にさせる程度に引き起こさない限り、産業において
知られている任意の間接熱交換手段にすることができる
。

シュラウド或はスクリーン１８を用いて凝固中温融点蒸
気がコイル１４にぶつかり及びコイル１４の上に層にな
るのを防止することができる。凝固中温融点蒸気をセパ
レーター１６によってスラリー１２から取り出し及び凝
固蒸気の所望の最終用途に応じて、更に必要な通りに加
工するために先へ送る。セパレーター１６は当分野で知
られている任意の適当な装置、例えば浮選装置、沈降タ
ンク、フィルター、遠心機、等にすることができる。凝
固中温融点蒸気から分離したチルド液２４を噴霧塔１０
内の噴霧ノズル３０に循環させる。

接触用液をチルする代りの装置を第２図に示す、再びコ
イル１４として示す伝熱手段をセパレーター１６の下流
に配置した第２の断熱容器４２内に配置する。これは、
凝固中温融点蒸気の衝突によるコイル１４のファウリン
グの量を低減する。

第２図は、また、過剰のチルド液を取り出す装置をも示
す、該装置は、接触用液が流入ガス流の成分の内の少な
くとも１種の凝縮液である場合に、接触用液成分の凝縮
速度が、凝縮液が凝固した揮発分流４０と共にプロセス
を出る速度を越えるかもしれないので、必要とし得る。

過剰のチルド液を取り出す装置は、また、第１図に示す
装置と組合わせて使用することもできる。

装置のデユーティサイクル及びチルド液の性質が冷却コ
イル１４の上に凍結チルド液の過剰の付性物な引き起こ
す傾向にあるならば、第２のコイル（図示せず）を第１
図に示す通りの噴霧塔／接触装置１０の底部のプール内
に、或は第２図に示す通りの代りの冷却容器４２内に配
置するのがよい。汚れたコイルから、取りまく液の一層
高いバルク温度によってか或は汚れたコイルの中に強制
的に通す中温寒剤蒸気の作用によって霜を取る間、第２
のコイルを使用状態に置くことができる。しかし、チル
ド液の付着が熱交換手段の上に生成するのを低減させ或
は回避するチルド液を選ぶことが好ましく、これより全
設備費を減少させる。当分野で利用し得る参考文献デー
タに基づいて、−担必要な接触温度を計算したら、接触
温度をもたらすことができ及びその温度における蒸気圧
要件を満足することができる可能なチルド液のリストを
表にすることができる。当分野で知られている技法を用
いた最少の実験を行って、リスト上のチルド液の内のど
れが熱交換手段（例えば冷却コイル）上にもたらす凍結
チルド液の付着を最少にするかを求めることができる。

下記の例は発明を更に説明するために挙げるもので、発
明を制限するつもりのものではない。

空気及び四塩化炭素を含むガス流から四塩化炭素（ｎｍ
ｐ＝−１０°Ｆ（−２３℃））を大気圧で除くことを望
む。揮発分回収プロセスを出るガス流中の所望の四塩化
炭素濃度は０．０１７容積％であり、蒸気圧０．００２
５ｐｓｉａ　（０，０００１８ｋｇ／ｃｍ２Ａ）に相当
する。四塩化炭素についての蒸気圧カーブは、必要とす
る蒸気圧が平衡化蒸気温度的−９０°Ｆ　（−６８℃）
に対応することを示す。これより、除去基準は、四塩化
炭素を一９０°Ｆを越える温度で除いた場合、満足され
ない。

再び第１図を参照して、上記の目的を達成する方法は以
下の通りである。接触チルド液２４は約−９０下（−６
８℃）のアセトン液で構成される。プロセスガス３２は
四塩化炭素を含有する空気で構成され、四塩化炭素の濃
度は約２．０容積％である。アセトンの接触温度（約−
９０°Ｆ）における四塩化炭素への溶解度は小さく及び
アセトンの融点（−１４０’Ｆ（−９６℃））が低いこ
とにより、浸漬コイル１４上への付着は最少になる。

シュラウド或はスクリーン１８を使用して四塩化炭素の
沈殿がコイル１４上に堆積しないようにすることができ
る。アセトン及び凝固四塩化炭素を含むスラリー１２を
冷却するのに用いる液体寒剤２０は液体窒素であり、温
度約−３２０下（−１９６℃）でコイル１４に入る。ア
セトン接触液２４を噴霧流出ノズル３０として流入する
プロセスガス３２に直接接触させる。アセトン接触液２
４と流入ガス３２との間の直接接触は四塩化炭素の凝固
を引き起こし、アセトンによって噴霧塔１０の底部に運
ばれて噴霧塔１０の底部においてスラリー１２を形成す
る。スラリー１２を（前で検討した種類の）液体−固形
分セパレータ−１６の中に通して加工し、それでチルド
液４０で湿潤した凝固四塩化炭素をアセトン接触液から
取り去る。分離したアセトン接触液２４を次いでポンプ
で噴霧ノズル３０に送る。１つの温度調節器２６は液体
窒素２０の流量を変えることによってスラリー１２のプ
ールの温度を維持し、第２の温度調節器２８は噴霧ノズ
ル３０への流量を変えることによって去る流出流３４の
温度を維持する。流れ出る非凝縮物流３４によって上方
に運搬される粒子及び接触液滴を捕捉するためにデミス
タ−パッド３６を必要とするかもしれない、プロセスを
出るガス３４中のアセトンの容積濃度は約０．０６１容
積％であり、該値は域限界値（ＴＬＶ）及びアセトンに
ついての下方爆発限界（ＬＥＬ）より十分に低い。

連続運転のためには、分離した凝固中温融点蒸気４０に
より失われる接触チルド液に取って代る接触液レベル調
節システム３８を必要とする。

接触液２４をチルする代りの装置を第２図に示す。冷却
コイル１４として示す、接触液と寒剤との間の間接熱交
換用手段を別の密封容器４２の中に配置する。この場合
、アセトン及び凝固四塩化炭素を含むスラリー１２をセ
パレーター１６の中に通して加工してアセトン接触液か
ら凝固四塩化炭素を取り去る。分離したアセトン接触液
２４を圧力で或はポンプで冷却容器４２に送り、そこで
冷却コイル１４の中を通る気化寒剤との間接伝熱によっ
てアセトン接触液をチルする。

厩ｌ 下記の試験を行って本発明の方法によって形成される代
表的なチルド液／凝固中温融点蒸気混合物の性質を求め
た。

開口ジュワー内でドライアイスを用いて約１７オート（
０，９５リツトル）のエタノールをチルして一１００下
（−７３℃）にした。ドライアイスの結晶がジュワーの
底に残っていないことを確定した後に、スブレイインク
システムズカンパニーハイドローリックアトマイジング
ノズル＃ｌ／４ＬＮＮ−２を６０　ｐｓｉｇ　（４，２
ｋｇ／ｃｍ２Ｇ　）で１分間（６０ｐｓｉｇで２．５ガ
ロン／時間（９，５Ｊ２／時間）のレーティング）使用
して、高さ約１８インチ（４６ｃｍ）から水のミストを
ジュワーの中に噴霧した。生成した混合物を１００メツ
シュＡＳＴＭ、１２クリーンの中に通して濾過し及び消
液を下のバケツの中に捕えた。

湿潤グラニユールの床をスクリーン上に保持し、該床は
暖まるにつれてスラッジに変った。下のバケツ内の物質
を検査して固形分を示さなかった。

ＡＳＴＭスクリーンを使用し、開口サイズを増大して上
記の手順を繰り返して、消液と共に結晶を通させないで
、最も迅速及び完全な分離をもたらす開口サイズを求め
た。ＡＳＴＭスクリーンサイズ＃５０及び＃３０を通過
するグラニユールは観察されなかった。いくつかの小さ
いグラニユールがＡＳＴＭスクリーンサイズ＃２０を通
過していたのが観察された。

濾過した後にグラニユール上に残留するエタノールの量
は上記試験の間求めなかったが、標準の分析技法によっ
て或は定量する間の種々の段階において測定した水及び
エタノール量について標準の物質収支計算を行うことに
よって求めることができる。

本発明の方法は、凝固中温融点蒸気が中温融点蒸気及び
接触チルド液のスラリーから分離可能であることを必要
とする。取り去る中温融点蒸気は流入するガスから取り
去るべき全揮発分の内の一部のみを含み得及び取り去る
べき他の揮発分は噴霧塔の底部において形成されるスラ
リーの一部として凝縮されて除かれ得る。このような凝
縮揮発分を標準の液−液分離技法を用いて接触液から分
離した後に接触液を噴霧ノズルに循環させることができ
、或はかかる凝縮揮発分を接触液の少なくとも一部とし
て用いることができる。

上述した発明の実施態様は制限するつもりのものではな
い。当業者ならば、特許請求の範囲に示す通りの発明の
精神及び範囲から逸脱しないで、多数の置換、変更態様
及び変更が可能であることを認めるものと思う。

【図面の簡単な説明】

第１図は凝固（フリージングーアウト）によってプロセ
スガス流から中温融点蒸気を取り去る本発明に従う装置
の好ましい実施態様を示す。 中間のチルド液と気化寒剤との間の熱交換を可能にする
手段（チューブ材料のコイルとして例示する）を、流入
するガス流と中間のチルド液との間の直接接触熱交換用
に用いる容器内に入れる。 第２図は第１図と同様の第２の装置の好ましい実施態様
を示すが、中間のチルド液から熱を取り去るのに用いる
手段を別の密封容器内に配置して、手段の熱交換表面を
凝固中温融点蒸気の付着から保護するのを高める。 １０・・・噴霧塔 １２・・・プール １４・・・コイル １８・・・シュラウド或はスクリーン ２４・・・チルド液 ３０・・・噴霧ノズル ４２・・・冷却容器 図面の１ｔ−ご（内つ、ニー更なし） 非：鎚扇均 ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、２ 、；ｌｌｌ：；ａ扁ね 手続ネ甫正書（方式） ％式％ 事件の表示　昭和６３年特許願第２１２６５４号発明の
名称　ガス流からの凝固による蒸気低減補正をする者

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガスから中温融点蒸気を低減するに際し、（ａ）前
   記気体を、中温融点蒸気が凝固する温度でチルド液と直
   接接触させ、而して該チルド液の蒸気圧により処理後の
   前記ガス中危険量のチルド液が排除されるよう前記接触
   温度を十分低いものとし、そして （ｂ）前記チルド液を極低温液と間接的に熱交換させ、
   それによって前記チルド液を少くとも前記接触温度程度
   に低い温度に冷却することを含む方法。 ２、追加工程として、 （ｃ）凝固した中温融点蒸気及びチルド液を含むスラリ
   ーから少くとも、該凝固せる中温融点蒸気を分離するこ
   とを含む、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、チルド液をプロセスに再循環させ、またチルド液と
   極低温液との間接的接触前、該チルド液から凝固した中
   温融点蒸気を除去する、特許請求の範囲第２項記載の方
   法。 ４、チルド液をプロセスに再循環させ、またチルド液と
   極低温液との間接的接触後、該チルド液から凝固した中
   温融点蒸気を除去する、特許請求の範囲第１項記載の方
   法。 ５、チルド液がガス流成分以外の物質である、特許請求
   の範囲第１項〜４項のいずれか一項記載の方法。 ６、ガスから中温融点蒸気を低減するための装置にして
   、 前記ガスを、中温融点蒸気が凝固する温度のチルド液と
   直接接触させる手段と、 該チルド液を極低温液と間接的に熱交換させ、それによ
   って前記チルド液を少くとも前記接触温度程度に低い温
   度に冷却し且つ該チルド液の蒸気圧により処理後の前記
   ガス中危険量のチルド液が排除されるよう前記接触温度
   を十分低いものとする手段と、そして 前記チルド液を前記間接的熱交換手段から前記直接接触
   手段へと搬送する手段を含む装置。 ７、更に、凝固せる中温融点蒸気及びチルド液を含むス
   ラリーから少くとも、該凝固せる中温融点蒸気を分離す
   ることを含む、特許請求の範囲第６項記載の方法。