JPH01138476A - 半導体素子の不良解析装置 - Google Patents
半導体素子の不良解析装置Info
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- JPH01138476A JPH01138476A JP62297220A JP29722087A JPH01138476A JP H01138476 A JPH01138476 A JP H01138476A JP 62297220 A JP62297220 A JP 62297220A JP 29722087 A JP29722087 A JP 29722087A JP H01138476 A JPH01138476 A JP H01138476A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000005685 electric field effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 15
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 241001385733 Aesculus indica Species 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、液晶の電界効果を応用した半導体素子の不良
解析装置に関する。
解析装置に関する。
〈従来の技術〉
従来からの半導体素子の不良解析装置の一例を第3図に
示して説明する。
示して説明する。
図中、符号lは検査対象となる半導体素子を示しており
、この半導体素子1は、説明を簡略化するために表面に
二本の金属配線2.3が設けられているとする。この金
属配線2.3の形成面は保護膜4で覆われている。
、この半導体素子1は、説明を簡略化するために表面に
二本の金属配線2.3が設けられているとする。この金
属配線2.3の形成面は保護膜4で覆われている。
そして、保護膜4上には、ネマティック液晶5およびカ
バーガラス6が載置されている。このネマティック液晶
5は、金属配線2,3に電圧を印加させていないとき分
子軸が垂直配向状態になっていて、金属配線2,3に電
圧を印加させたときにその上方の分子軸だけが傾向状態
になる。
バーガラス6が載置されている。このネマティック液晶
5は、金属配線2,3に電圧を印加させていないとき分
子軸が垂直配向状態になっていて、金属配線2,3に電
圧を印加させたときにその上方の分子軸だけが傾向状態
になる。
この半導体素子1の上方には、光学顕微鏡7゜CCDf
iSCCD撮像カメラ8おり、CCD撮像カメラ8はT
Vモニタ9に接続されている。
iSCCD撮像カメラ8おり、CCD撮像カメラ8はT
Vモニタ9に接続されている。
次に動作解析の原理を説明する。
即ち、光学顕微鏡7の光源10からの光は第1の偏光板
11により直線偏光され、ハーフミラ−12を介して反
射されてネマティック液晶5を介して半導体素子1に注
がれる。半導体素子lで反射された光はハーフミラ−1
2を透過して第2の偏光板13に至る。この第2の偏光
板13は第1の偏光板11の偏光方向に対して直交して
いるために複屈折を受けた光以外は透過しないようにな
っている。したがって、ネマティック液晶5の分子軸が
垂直配向状態の場合には入射した光が不変のまま第2の
偏光板13に到達するので、この光は第2の偏光板13
を透過しない。一方、ネマティック液晶5の分子軸が傾
向状態の場合には入射した光が複屈折させられるので、
第2の偏光板13を透過する。
11により直線偏光され、ハーフミラ−12を介して反
射されてネマティック液晶5を介して半導体素子1に注
がれる。半導体素子lで反射された光はハーフミラ−1
2を透過して第2の偏光板13に至る。この第2の偏光
板13は第1の偏光板11の偏光方向に対して直交して
いるために複屈折を受けた光以外は透過しないようにな
っている。したがって、ネマティック液晶5の分子軸が
垂直配向状態の場合には入射した光が不変のまま第2の
偏光板13に到達するので、この光は第2の偏光板13
を透過しない。一方、ネマティック液晶5の分子軸が傾
向状態の場合には入射した光が複屈折させられるので、
第2の偏光板13を透過する。
そこで、半導体素子1の金属配線2.3に所定の信号を
印加させて動作させると、高電圧となる金属配線2.:
L)、のネマティック液晶5の分子軸のみが傾向し、金
属間′gA2.3が存在しない部分上の分子軸は垂直配
向状態を保つことになるために、CCD撮像素子8を通
じてTVモニク9には金属配線2.3が明るく表示され
る一方、その他の部分は暗く表示されることになる。
印加させて動作させると、高電圧となる金属配線2.:
L)、のネマティック液晶5の分子軸のみが傾向し、金
属間′gA2.3が存在しない部分上の分子軸は垂直配
向状態を保つことになるために、CCD撮像素子8を通
じてTVモニク9には金属配線2.3が明るく表示され
る一方、その他の部分は暗く表示されることになる。
そして、従来では、このようにして表示した画像をオペ
レータが観察し、正確に動作しているか否かを解析して
いた。
レータが観察し、正確に動作しているか否かを解析して
いた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、このような構成を存する従来例の場合に
は、次のような問題点がある。
は、次のような問題点がある。
即ち、解析すべき半導体素子1は近年において非常に複
雑になってきており、実際の検査では種々な条件下にお
ける動作の解析を行う必要があるため、半導体素子1の
配線レイアウトを設計した者またはそれに準する知識を
有する者でなければ正確な解析を行えない。
雑になってきており、実際の検査では種々な条件下にお
ける動作の解析を行う必要があるため、半導体素子1の
配線レイアウトを設計した者またはそれに準する知識を
有する者でなければ正確な解析を行えない。
ゆえに、従来装置では、前記所定の知識を有する者に立
ち合ってもられなければならず、不便であった。
ち合ってもられなければならず、不便であった。
ところで、一般にLSIなどの半導体素子の設計にあた
っては、CA D (Computer Aided
Design)システムが利用されるので普通で、この
CADシステムのデータヘースには各半導体素子の配線
パターン、素子領域などの画像データが総て蓄積されて
いる。
っては、CA D (Computer Aided
Design)システムが利用されるので普通で、この
CADシステムのデータヘースには各半導体素子の配線
パターン、素子領域などの画像データが総て蓄積されて
いる。
本発明はCADシステムなどのデータヘースに蓄積され
ている画像データを利用することにより検査対象となる
半導体素子を熟知した者でなくとも、正確な解析結果を
知ることができるようにすることを目的としている。
ている画像データを利用することにより検査対象となる
半導体素子を熟知した者でなくとも、正確な解析結果を
知ることができるようにすることを目的としている。
く問題点を解決するだめの手段〉
本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。
な構成をとる。
即ち、本発明にかかる半導体素子の不良解析装置は、ネ
マティック液晶の電界効果を応用したものであって、 前記半導体素子を種々な条件下で動作させたときの高電
圧部分を表す標準の画像データがそれぞれ格納された格
納手段と、 この標準画像データと、検査対象とする半導体素子に対
面する光学系を通じて得られた検査画像データとを比較
して解析結果を出力する判定手段と、 を備えていることに特徴を有する。
マティック液晶の電界効果を応用したものであって、 前記半導体素子を種々な条件下で動作させたときの高電
圧部分を表す標準の画像データがそれぞれ格納された格
納手段と、 この標準画像データと、検査対象とする半導体素子に対
面する光学系を通じて得られた検査画像データとを比較
して解析結果を出力する判定手段と、 を備えていることに特徴を有する。
く作用〉
本発明の構成による作用は次の通りである。
まず、従来例とほぼ同様にして、特定条件下における検
査画像データを得ると、これが判定手段に与えられる。
査画像データを得ると、これが判定手段に与えられる。
そして、判定手段には格納手段より前記特定条件下にお
ける標準の画像データが与えられるので、判定手段は標
準画像データと検査画像データとを比較して解析結果を
出力する。
ける標準の画像データが与えられるので、判定手段は標
準画像データと検査画像データとを比較して解析結果を
出力する。
このように、検査についての解析結果が出力されるよう
に構成しているから、検査対象である半導体素子を熟知
した者を検査に立ち合わせなくて済む。
に構成しているから、検査対象である半導体素子を熟知
した者を検査に立ち合わせなくて済む。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を示している。
図において、従来例にかかる第3図に付しである符号と
同一の符号は、本実施例においても、その符号が示す部
品1部分等と同様のものを指す。
同一の符号は、本実施例においても、その符号が示す部
品1部分等と同様のものを指す。
本実施例において、従来例と異なっている構成は、次の
通りである。
通りである。
TVモニク9に表示される実際の検査画像をオペレータ
が観察して動作解析を行うのではなく、予め種々な条件
下における高電圧部分を表す標準の画像データを格納手
段20にそれぞれ格納させておき、これから特定条件下
における高電圧部分を表す標準の画像データを抽出して
、この標準画像データと実際に得る検査画像データとを
判定手段21で比較してその解析結果を出力するように
している。
が観察して動作解析を行うのではなく、予め種々な条件
下における高電圧部分を表す標準の画像データを格納手
段20にそれぞれ格納させておき、これから特定条件下
における高電圧部分を表す標準の画像データを抽出して
、この標準画像データと実際に得る検査画像データとを
判定手段21で比較してその解析結果を出力するように
している。
格納手段20は、具体的にはCA D (Comput
er Aided Design)システムを利用した
もので、検査対象となる配線レイアウトや素子領域など
の総ての画像データを蓄積するデータヘース22から、
マニュアル操作により特定条件下における高電圧部分を
表す標準の図形データを作成し、この図形データを格納
する。この図形データは、所定のプログラムにより自動
的に作成するようにしてもよい。
er Aided Design)システムを利用した
もので、検査対象となる配線レイアウトや素子領域など
の総ての画像データを蓄積するデータヘース22から、
マニュアル操作により特定条件下における高電圧部分を
表す標準の図形データを作成し、この図形データを格納
する。この図形データは、所定のプログラムにより自動
的に作成するようにしてもよい。
さらに、この標準の図形データは、検査対象である半導
体素子1を駆動する駆動信号発生回路23の動作に関連
して格納手段20から出力され、判定手段21へ与えら
れる。
体素子1を駆動する駆動信号発生回路23の動作に関連
して格納手段20から出力され、判定手段21へ与えら
れる。
なお、実際の検査画像は、従来例と同様にネマティック
液晶5.光学顕微鏡7.CCDjCCD撮像カメラ8T
Vモニタ9によって得るようにしている。
液晶5.光学顕微鏡7.CCDjCCD撮像カメラ8T
Vモニタ9によって得るようにしている。
その他の構成は従来例と同様であるので、説明を省略す
る。
る。
次に、例えば第2図(alに示すようなレイアウトの金
属配線を有する半導体素子1においてハツチングを付し
である金属配線24に駆動信号発生回路23より所定の
信号を印加させたときの例を説明する。
属配線を有する半導体素子1においてハツチングを付し
である金属配線24に駆動信号発生回路23より所定の
信号を印加させたときの例を説明する。
FIUち、動作させると、ハンチングを付しである金属
配線24が高電圧となり、そのために金属配線24上に
位置するネマティック液晶5の分子軸が傾向することに
なる。よって、光源10から第1の偏光板11およびハ
ーフミラ−12を介してネマティック液晶5および半導
体素子1に光が注がれると、前記金属配線24上の傾向
分子軸により複屈折された反射光のみが第2の偏光板1
3を透過することになる。この透過した光がCCD撮像
カメラ8を通じてTVモニタ9に明るく表示される一方
、その他の部位が暗く表示され、この画像が判定手段2
Iに与えられる。
配線24が高電圧となり、そのために金属配線24上に
位置するネマティック液晶5の分子軸が傾向することに
なる。よって、光源10から第1の偏光板11およびハ
ーフミラ−12を介してネマティック液晶5および半導
体素子1に光が注がれると、前記金属配線24上の傾向
分子軸により複屈折された反射光のみが第2の偏光板1
3を透過することになる。この透過した光がCCD撮像
カメラ8を通じてTVモニタ9に明るく表示される一方
、その他の部位が暗く表示され、この画像が判定手段2
Iに与えられる。
ところで、上記特定条件を設定した場合、判定手段21
には、格納手段20より比較基準となる第2図(blに
示すような標準の図形Aが与えられているから、この標
準図形Aと同一のパターンの画像がTVモニタ9に表示
された場合には、判定手段21からは動作状態が正常で
あることを示す結果が出力される。一方、例えば第2図
tc+に示すような第2図山)の標準図形と異なる画像
BがTVモニク9に表示された場合には、判定手段21
からは動作状態が不良であることを示す結果が出力され
る。
には、格納手段20より比較基準となる第2図(blに
示すような標準の図形Aが与えられているから、この標
準図形Aと同一のパターンの画像がTVモニタ9に表示
された場合には、判定手段21からは動作状態が正常で
あることを示す結果が出力される。一方、例えば第2図
tc+に示すような第2図山)の標準図形と異なる画像
BがTVモニク9に表示された場合には、判定手段21
からは動作状態が不良であることを示す結果が出力され
る。
このように、本実施例においては、検査時において得た
画像の解析結果を自動的に出力するように構成している
ので、検査対象とする半導体素子lを熟知した者を検査
に立ち合わせる必要がな(なる。
画像の解析結果を自動的に出力するように構成している
ので、検査対象とする半導体素子lを熟知した者を検査
に立ち合わせる必要がな(なる。
なお、本発明は以上説明した構成の実施例のみに限定さ
れるものでなく、種々な変形実施例が考えられる。
れるものでなく、種々な変形実施例が考えられる。
〈発明の効果〉
本発明によれば、次の効果が発揮される。
検査時において得た画像データと予め用意している標準
図形データとを比較してその解析結果を自動的に出力す
るように構成しているので、検査対象とする半導体素子
を熟知した者をわざわざ検査に立ち合わせなくとも、誰
でもが正確な解析結果を簡単に知ることができる。しか
も、検査画像を観察して解析を行う従来例に比べて検査
能率が向上することになる′。
図形データとを比較してその解析結果を自動的に出力す
るように構成しているので、検査対象とする半導体素子
を熟知した者をわざわざ検査に立ち合わせなくとも、誰
でもが正確な解析結果を簡単に知ることができる。しか
も、検査画像を観察して解析を行う従来例に比べて検査
能率が向上することになる′。
第1図および第2図は本発明の一実施例にかかり、第1
図は本発明装置の構成を略示した原理図、第2図fat
は半導体素子の配線レイアウトの一例を示す平面図、第
2図fblは特定動作時における標準図形を示す平面図
、第2図(C1は動作状態が不良である場合の検査画像
を示す平面図である。 また、第3図は従来装置の構成を略示した原理図である
。 1・・・半導体素子 2.3・・・金属配線 5・・・7マテイソク液晶 7・・・光学顕微鏡 8・・・CCD撮像カメラ 9・・・TVモニタ 20・・・格納手段 21・・・判定手段 22・・・データベース。
図は本発明装置の構成を略示した原理図、第2図fat
は半導体素子の配線レイアウトの一例を示す平面図、第
2図fblは特定動作時における標準図形を示す平面図
、第2図(C1は動作状態が不良である場合の検査画像
を示す平面図である。 また、第3図は従来装置の構成を略示した原理図である
。 1・・・半導体素子 2.3・・・金属配線 5・・・7マテイソク液晶 7・・・光学顕微鏡 8・・・CCD撮像カメラ 9・・・TVモニタ 20・・・格納手段 21・・・判定手段 22・・・データベース。
Claims (1)
- (1)ネマティック液晶の電界効果を応用した半導体素
子の不良解析装置において、 前記半導体素子を種々な条件下で動作させたときの高電
圧部分を表す標準の画像データがそれぞれ格納された格
納手段と、 この標準画像データと、検査対象とする半導体素子に対
面する光学系を通じて得られた検査画像データとを比較
して解析結果を出力する判定手段と、 を備えていることを特徴とする半導体素子の不良解析装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62297220A JPH01138476A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体素子の不良解析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62297220A JPH01138476A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体素子の不良解析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01138476A true JPH01138476A (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=17843729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62297220A Pending JPH01138476A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体素子の不良解析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01138476A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03161951A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Sharp Corp | 半導体素子不良解析装置 |
WO1999018472A1 (en) * | 1997-10-06 | 1999-04-15 | Orbotech Ltd. | Optical inspection method and system |
US6135896A (en) * | 1997-07-03 | 2000-10-24 | Nippon Shaft Co., Ltd. | Putter club |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5438036A (en) * | 1977-08-27 | 1979-03-22 | Jiyunichirou Aono | Nonnskid mat for automobile |
JPS5976441A (ja) * | 1982-10-22 | 1984-05-01 | Fujitsu Ltd | 集積回路の診断装置 |
JPS59123241A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路の不良解析方法 |
JPS6120142A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-28 | Nec Corp | 電子装置の試験方式 |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP62297220A patent/JPH01138476A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5438036A (en) * | 1977-08-27 | 1979-03-22 | Jiyunichirou Aono | Nonnskid mat for automobile |
JPS5976441A (ja) * | 1982-10-22 | 1984-05-01 | Fujitsu Ltd | 集積回路の診断装置 |
JPS59123241A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路の不良解析方法 |
JPS6120142A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-28 | Nec Corp | 電子装置の試験方式 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03161951A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Sharp Corp | 半導体素子不良解析装置 |
US6135896A (en) * | 1997-07-03 | 2000-10-24 | Nippon Shaft Co., Ltd. | Putter club |
WO1999018472A1 (en) * | 1997-10-06 | 1999-04-15 | Orbotech Ltd. | Optical inspection method and system |
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