JPH01136983A - 水酸化第四級アンモニウムの製造方法 - Google Patents
水酸化第四級アンモニウムの製造方法Info
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- JPH01136983A JPH01136983A JP62294215A JP29421587A JPH01136983A JP H01136983 A JPH01136983 A JP H01136983A JP 62294215 A JP62294215 A JP 62294215A JP 29421587 A JP29421587 A JP 29421587A JP H01136983 A JPH01136983 A JP H01136983A
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発191 +t 、第四級アンモニウム塩を電解槽に
水際化第四級アンモニウムを製造する方法に関するもの
である。
水際化第四級アンモニウムを製造する方法に関するもの
である。
(従来の技術〕
水酸化第四級アンモニウムは、相関移動触媒を始めとし
て、非水溶媒滴定における塩基の標準液、有機系アルカ
リ剤など有機の強塩基として化学反応にお−で有用な薬
品であり、また、XaやLBXの製造における半導体基
板の洗浄、食刻、レジストの現像などのための処理剤と
して使用されて―る。この処理剤としての水酸化第四級
アンモニウムは特に近年、半導体装置の高集積化傾向に
より、半導体用現像液に不純物が混入している場合には
、半導体基板が劣化するため、可及的に不純物を含有し
ない高純度の水酸化第四級アンモニウムが要求されて−
る。 ゝ〔発明が解決しようとする問題点〕 従来、かかる水際化第四級アンモニウムを得る方法とし
ては、原料の第四級アンモニウム塩を電解槽にお−で、
イオン交換膜を介して電解する製法が公知であり、該第
四級アンモニウム塩として塩化テトラアルキルアンモニ
ウムを用−る場合が多−0しかしながら、この方法を用
いる場合には、生成する水酸化テトラアルキルアンモニ
ウムに塩素イオンがイオン交換膜を介して混入するため
、高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムが得られ
な―。また、陽イオン交換膜として、一般にスルホン醗
基、カルボン酸基などの陽イオン交換基を有するスチレ
ン−ジビニルベンゼン共重合体系膜あるいはフッ素樹脂
系膜等の通常市販されている腰を用いる場合には、例え
ば特開11tB60 131986号公報に示されてい
るようにすフイオン324(デュポン社製、フッ素樹脂
系陽イオン交換膜)で電流効率が84%、特開昭59−
193288号公報に示されているようにナフィオン1
17(デュポン社製、フッ素樹脂系陽イオン交換膜)で
電流効率が81%と低い。
て、非水溶媒滴定における塩基の標準液、有機系アルカ
リ剤など有機の強塩基として化学反応にお−で有用な薬
品であり、また、XaやLBXの製造における半導体基
板の洗浄、食刻、レジストの現像などのための処理剤と
して使用されて―る。この処理剤としての水酸化第四級
アンモニウムは特に近年、半導体装置の高集積化傾向に
より、半導体用現像液に不純物が混入している場合には
、半導体基板が劣化するため、可及的に不純物を含有し
ない高純度の水酸化第四級アンモニウムが要求されて−
る。 ゝ〔発明が解決しようとする問題点〕 従来、かかる水際化第四級アンモニウムを得る方法とし
ては、原料の第四級アンモニウム塩を電解槽にお−で、
イオン交換膜を介して電解する製法が公知であり、該第
四級アンモニウム塩として塩化テトラアルキルアンモニ
ウムを用−る場合が多−0しかしながら、この方法を用
いる場合には、生成する水酸化テトラアルキルアンモニ
ウムに塩素イオンがイオン交換膜を介して混入するため
、高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムが得られ
な―。また、陽イオン交換膜として、一般にスルホン醗
基、カルボン酸基などの陽イオン交換基を有するスチレ
ン−ジビニルベンゼン共重合体系膜あるいはフッ素樹脂
系膜等の通常市販されている腰を用いる場合には、例え
ば特開11tB60 131986号公報に示されてい
るようにすフイオン324(デュポン社製、フッ素樹脂
系陽イオン交換膜)で電流効率が84%、特開昭59−
193288号公報に示されているようにナフィオン1
17(デュポン社製、フッ素樹脂系陽イオン交換膜)で
電流効率が81%と低い。
本発明者らは、上記した問題に鑑み、第四級アンモニウ
ム塩から高純度の水醒化第四級アンモニウムを電流効率
よく得る方法につ−て鋭意研究した。その結果、イオン
交換膜性電解における陽イオン交換膜としてスチレン、
ジビニルベンゼン及び少なくともカルボン酸基を生じる
単量体からなる混合物から製膜して得た厚みが0、2〜
2. Offの特定した陽イオン交換膜を用いることに
より、目的とする高純度の水酸化第四級アンモニウムを
電流効率も高く安定して得ることができる知見を得て、
本発明を完成するに至ったものである。即ち、本発明は
、陰・陽極間におりて、陽イオン交換膜と陰イオン交換
膜とで形成された部屋に有機第四級アンモニウム塩を供
給し、陽極室に酸を供給して陰極室から水酸化第四級ア
ンモニウムを取得するにあたり、該陽イオン交換膜とし
て少なくともカルボン酸基を有し且つ架橋度がジビニル
ベンゼンの含量として10〜30重ff1%であるスチ
レン系樹脂よりなる厚み0.2〜2. Offの陽イオ
ン交換膜を用いることを特徴とする水酸化第四級アンモ
ニウムの製造方法である。
ム塩から高純度の水醒化第四級アンモニウムを電流効率
よく得る方法につ−て鋭意研究した。その結果、イオン
交換膜性電解における陽イオン交換膜としてスチレン、
ジビニルベンゼン及び少なくともカルボン酸基を生じる
単量体からなる混合物から製膜して得た厚みが0、2〜
2. Offの特定した陽イオン交換膜を用いることに
より、目的とする高純度の水酸化第四級アンモニウムを
電流効率も高く安定して得ることができる知見を得て、
本発明を完成するに至ったものである。即ち、本発明は
、陰・陽極間におりて、陽イオン交換膜と陰イオン交換
膜とで形成された部屋に有機第四級アンモニウム塩を供
給し、陽極室に酸を供給して陰極室から水酸化第四級ア
ンモニウムを取得するにあたり、該陽イオン交換膜とし
て少なくともカルボン酸基を有し且つ架橋度がジビニル
ベンゼンの含量として10〜30重ff1%であるスチ
レン系樹脂よりなる厚み0.2〜2. Offの陽イオ
ン交換膜を用いることを特徴とする水酸化第四級アンモ
ニウムの製造方法である。
本発明においては、陰イオンの拡散を減らすために厚み
が0.2ff〜2. Omlの陽イオン交換膜を用いる
ことが好ましい。即ち、厚みが0.2Mより小さい陽イ
オン交換膜を用−た場合には、陰イオンの拡散が極端に
多くなるし、また厚みが2.0朋より大きい陽イオン交
換膜を用いた場合には膜抵抗が極端に高くなる。このよ
うな陽イオン交換膜の厚みはバッキングでコントロール
すれば良く、例えば、■厚−パッキングを用いる ■薄
−パッキングを積層する 等の方法が挙げられる。
が0.2ff〜2. Omlの陽イオン交換膜を用いる
ことが好ましい。即ち、厚みが0.2Mより小さい陽イ
オン交換膜を用−た場合には、陰イオンの拡散が極端に
多くなるし、また厚みが2.0朋より大きい陽イオン交
換膜を用いた場合には膜抵抗が極端に高くなる。このよ
うな陽イオン交換膜の厚みはバッキングでコントロール
すれば良く、例えば、■厚−パッキングを用いる ■薄
−パッキングを積層する 等の方法が挙げられる。
また、本発明に用いる陽イオン交換膜の陽イオン交換基
としては、電流効率を上けるためにカルボン酸基を主体
に有することが必要である。
としては、電流効率を上けるためにカルボン酸基を主体
に有することが必要である。
かかるカルボン酸基を主体とする陽イオン交換膜を得る
ためには、一般にスチレンにカルボン酸基を生じる単量
体を加えれば良く、該単量体として例えばアクリル酸、
メタアクリル酸及びこれらのエステル類、塩類、ビニル
安息香酸及びそれらのエステル類、塩類、 CJH2−
01!R100OR3(R1は直鎖状あるーは分肢状の
゛炭素数が1〜12のアルキル基、またR2は水素、金
属イオン、有機陽イオンで炭素数1〜12のアルキル基
)等が挙げられる。また、このようなカルボン酸基を生
じる単量体とスチレンとの社比は、先にも述べたように
電流効率を上けるためにカルボン酸基が存在することが
必須であり、共存するとすればスルホン醸基よりも多く
なければならなく交換容量の比で50 ! 50〜io
o : oであることが好まじり。
ためには、一般にスチレンにカルボン酸基を生じる単量
体を加えれば良く、該単量体として例えばアクリル酸、
メタアクリル酸及びこれらのエステル類、塩類、ビニル
安息香酸及びそれらのエステル類、塩類、 CJH2−
01!R100OR3(R1は直鎖状あるーは分肢状の
゛炭素数が1〜12のアルキル基、またR2は水素、金
属イオン、有機陽イオンで炭素数1〜12のアルキル基
)等が挙げられる。また、このようなカルボン酸基を生
じる単量体とスチレンとの社比は、先にも述べたように
電流効率を上けるためにカルボン酸基が存在することが
必須であり、共存するとすればスルホン醸基よりも多く
なければならなく交換容量の比で50 ! 50〜io
o : oであることが好まじり。
さらに、本発明の陽イオン交換膜においてはジビニルベ
ンゼンの割合が全モノマーに対して10〜30重量%で
あることが極めて重要であり、10重量%より小さい場
合には電流効率が低くなり、陰イオンの拡散も多くなり
、また、30重ii1%より大きい場合には電圧低下が
大きくなるため好ましくない。
ンゼンの割合が全モノマーに対して10〜30重量%で
あることが極めて重要であり、10重量%より小さい場
合には電流効率が低くなり、陰イオンの拡散も多くなり
、また、30重ii1%より大きい場合には電圧低下が
大きくなるため好ましくない。
なお、上記のような陽イオン交換膜の製造は、モノマー
混合物を一般にペースト法を用いて製膜(重合)した後
、必要に応じてスルホン化剤として例えば硫酸、クロル
スルホン醜、ピリジン等の三級アミンの5Ofi錯体、
ジオキサン++−s03の錯体などでスルホン化処理し
て得られる。
混合物を一般にペースト法を用いて製膜(重合)した後
、必要に応じてスルホン化剤として例えば硫酸、クロル
スルホン醜、ピリジン等の三級アミンの5Ofi錯体、
ジオキサン++−s03の錯体などでスルホン化処理し
て得られる。
本発明において、原料である第四級アンモニウム塩とし
ては、一般式(Ram)X(式中、Rはそれぞれ一般に
炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基また
はアリール基を示し、Xはへロゲン、炭醸、硫醗、ギ醗
などを示す)にて表わされる有機塩であり、具体的には
、例えばへロゲン化テトラメチルアンモニウム、^ロゲ
ン化テトラエチルアンモニウム、炭酸テトラメチルアン
モニウム、炭酸テトラエチルアンモニウム、ギ酸テトラ
メチルアンモニウム、ギ酸テトラエチルアンモニウム等
が挙げられる。
ては、一般式(Ram)X(式中、Rはそれぞれ一般に
炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基また
はアリール基を示し、Xはへロゲン、炭醸、硫醗、ギ醗
などを示す)にて表わされる有機塩であり、具体的には
、例えばへロゲン化テトラメチルアンモニウム、^ロゲ
ン化テトラエチルアンモニウム、炭酸テトラメチルアン
モニウム、炭酸テトラエチルアンモニウム、ギ酸テトラ
メチルアンモニウム、ギ酸テトラエチルアンモニウム等
が挙げられる。
ま念、本発明で得られる水酸化第四級アンモニウムとし
ては、一般式(n4m〕on(式中、Rは上記と同じ)
で表わされる上記した原料の第四級アンモニウム塩に対
応する有機化合物であり、例えば、水酸化テシラメチル
アンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等であ
る。
ては、一般式(n4m〕on(式中、Rは上記と同じ)
で表わされる上記した原料の第四級アンモニウム塩に対
応する有機化合物であり、例えば、水酸化テシラメチル
アンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等であ
る。
”また、本発明に用いる陰イオン交換膜としては、公知
の陰イオン交換a*が何ら制限なく、例えは第四級アン
モニウム塩基、スルーホエウム塩基、ホスホニウム塩基
等の強塩基性の陰イオン交換基のみでなく、−級、二級
、三級アミンなどを一種類以上結合して−る膜である。
の陰イオン交換a*が何ら制限なく、例えは第四級アン
モニウム塩基、スルーホエウム塩基、ホスホニウム塩基
等の強塩基性の陰イオン交換基のみでなく、−級、二級
、三級アミンなどを一種類以上結合して−る膜である。
本発明の陽極室においてはへロゲンガス、酸素ガス等の
酸化性ガスが発生するため、耐着化性の陰イオン交換膜
を用いることが好ましく、例えば、特開昭59〒122
520号公報に開示されているようなパーフルオロカー
ボン主鎖にペンダントでフルオロカーボン側鎖があり、
末端に陰イオン交換基が結合している陰イオン交換膜が
特に好適である。
酸化性ガスが発生するため、耐着化性の陰イオン交換膜
を用いることが好ましく、例えば、特開昭59〒122
520号公報に開示されているようなパーフルオロカー
ボン主鎖にペンダントでフルオロカーボン側鎖があり、
末端に陰イオン交換基が結合している陰イオン交換膜が
特に好適である。
本発明の電解槽に用−る陽極としては、酸化雰囲気で安
定な陽極が用−られ、例えば炭素。
定な陽極が用−られ、例えば炭素。
白金=−ティングチタン板、 Ru、!r等をチタン
板上にコーティングした謂ゆる不溶性陽極が好適に用−
られ、また陰極としては、強塩基性雰囲気で安定であり
、かつ、過電圧の低いものが選定され、例えばSO23
16,白金板、ラネーニッケル等の不溶性である食塩電
解にお−て広く用いられている活性陰極が何ら制限なく
用いられる。
板上にコーティングした謂ゆる不溶性陽極が好適に用−
られ、また陰極としては、強塩基性雰囲気で安定であり
、かつ、過電圧の低いものが選定され、例えばSO23
16,白金板、ラネーニッケル等の不溶性である食塩電
解にお−て広く用いられている活性陰極が何ら制限なく
用いられる。
本発明のmPsmにおφては、陽極側の部屋に例えば塩
醗、硫醜、リン酸等の鉱酸、または有F@酸の酸水溶液
を存在させ、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜とにより
形成される中間室に原料の第四級アンモニウム塩水溶液
を供給し、ま゛た陰極側の部屋に水を供給して電解を行
なへことにより、該陰極室において水酸化第四級アンモ
ニウムを生成し、取得される。
醗、硫醜、リン酸等の鉱酸、または有F@酸の酸水溶液
を存在させ、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜とにより
形成される中間室に原料の第四級アンモニウム塩水溶液
を供給し、ま゛た陰極側の部屋に水を供給して電解を行
なへことにより、該陰極室において水酸化第四級アンモ
ニウムを生成し、取得される。
上記の原料である第四級アンモニウム塩の濃度は一般に
0.2〜40規定であることが望ましく、この濃度があ
まりに低−と溶液の電気抵抗が大きく、あまりに濃度が
高いと溶液力2粘稠となり好ましくない。また、酸濃度
は、一般に0.01〜3規定が適当である。なお、電解
は、原料である第四級アンモニウム塩水溶液の濃度によ
り、適当な条件で行なわれるが、一般に1〜50A/+
1111’の電流密度で、電槽内の温度を90℃を超え
ないように維持することが好ましいO 〔効果〕 以上の説明より理解されるように、本発明のイオン交換
膜電解法によれば、少なくともカルボン酸基を陽イオン
交換基として有し、ジビ品ルベンゼンの含量が10〜3
011量襲でかつ厚さが0.2〜2.Offの特定した
陽イオン交換膜を用いることにより、陰イオンの拡散台
少な一電B?( 〔実施例〕 以下、本発明を具体的に説明するために実施例を示すが
、本発明はこれらに限定されるものではな−。
0.2〜40規定であることが望ましく、この濃度があ
まりに低−と溶液の電気抵抗が大きく、あまりに濃度が
高いと溶液力2粘稠となり好ましくない。また、酸濃度
は、一般に0.01〜3規定が適当である。なお、電解
は、原料である第四級アンモニウム塩水溶液の濃度によ
り、適当な条件で行なわれるが、一般に1〜50A/+
1111’の電流密度で、電槽内の温度を90℃を超え
ないように維持することが好ましいO 〔効果〕 以上の説明より理解されるように、本発明のイオン交換
膜電解法によれば、少なくともカルボン酸基を陽イオン
交換基として有し、ジビ品ルベンゼンの含量が10〜3
011量襲でかつ厚さが0.2〜2.Offの特定した
陽イオン交換膜を用いることにより、陰イオンの拡散台
少な一電B?( 〔実施例〕 以下、本発明を具体的に説明するために実施例を示すが
、本発明はこれらに限定されるものではな−。
実施例1
陽極としてチタンの板に白金をメツキした不溶性金#!
陽極を用φ、陰極として877S316を用い、陽極側
に市販の陰イオン交換膜(徳山曹 ゛達社製、ネ
オセプタAIF−aP)と陰イオン交換膜(徳山曹達社
製、ネオセプタAM−1)とを二枚積層したものを配し
、また陰極側にはカルボン酸基゛を有するジビニルベン
ゼン含fi12%の陽イオン交JII8膜を配して電解
槽を構成した。なお、陰イオン交換膜は、陰イオン交換
膜(ネオセプタA?−4F)が陽極側に面するように積
層した。また、陽イオン交換膜はスチレン40部。
陽極を用φ、陰極として877S316を用い、陽極側
に市販の陰イオン交換膜(徳山曹 ゛達社製、ネ
オセプタAIF−aP)と陰イオン交換膜(徳山曹達社
製、ネオセプタAM−1)とを二枚積層したものを配し
、また陰極側にはカルボン酸基゛を有するジビニルベン
ゼン含fi12%の陽イオン交JII8膜を配して電解
槽を構成した。なお、陰イオン交換膜は、陰イオン交換
膜(ネオセプタA?−4F)が陽極側に面するように積
層した。また、陽イオン交換膜はスチレン40部。
メタアクリル酸40部、純度が約55%のジビニルベン
ゼン20部の混合物にスチレン−ブタジェン共重合ゴム
を5部溶解し粘稠なポリマー溶液としたのち、これにベ
ンゾイルパーオキサイド3部を加えて均一に混合したの
ち、ポリエチレン−中部の平織の網で厚みが0.5Nの
ものに均一に塗布し、次−で両面をポリビニルアルコー
ルのシートでおおい、80℃で4時間加熱後、さらに1
10℃で3時間加熱して重合を完結させた。両面のポリ
ビニルアルコールのシートをはぎとり、得られたポリエ
チレンの網で補強すれた膜を、エチレンジクロライドに
浸漬して充分に膨潤させたのち、95%の硫酸中に35
℃で一週間浸漬してスルホン化反応を行いスルホン醗基
とカルボン酸基とを有する陽イオン交換膜とした。この
膜の厚みは0.6flであり。
ゼン20部の混合物にスチレン−ブタジェン共重合ゴム
を5部溶解し粘稠なポリマー溶液としたのち、これにベ
ンゾイルパーオキサイド3部を加えて均一に混合したの
ち、ポリエチレン−中部の平織の網で厚みが0.5Nの
ものに均一に塗布し、次−で両面をポリビニルアルコー
ルのシートでおおい、80℃で4時間加熱後、さらに1
10℃で3時間加熱して重合を完結させた。両面のポリ
ビニルアルコールのシートをはぎとり、得られたポリエ
チレンの網で補強すれた膜を、エチレンジクロライドに
浸漬して充分に膨潤させたのち、95%の硫酸中に35
℃で一週間浸漬してスルホン化反応を行いスルホン醗基
とカルボン酸基とを有する陽イオン交換膜とした。この
膜の厚みは0.6flであり。
陽イオン交換容量を測定したところ、弱醸性のイオン交
換基(カルボン酸基)は1.85ミリ当量の塩酸を供給
し、中間室に2.5規定のテトラメチルアンモニウムク
ロライドを供給して電解を行ない、陰極室から1.5規
定の水酸化テトラメチルアンモニウムを得た。得られた
水酸化テトラメチルアンモニウムの中のa7は2.5%
水酸化テトラメチルアンモニウム溶液換算で0.lpp
m以下であつた。電解電圧は147であり、湿度は40
℃で電流密度は15ム76trtであつた。電流効率は
93%であった。
換基(カルボン酸基)は1.85ミリ当量の塩酸を供給
し、中間室に2.5規定のテトラメチルアンモニウムク
ロライドを供給して電解を行ない、陰極室から1.5規
定の水酸化テトラメチルアンモニウムを得た。得られた
水酸化テトラメチルアンモニウムの中のa7は2.5%
水酸化テトラメチルアンモニウム溶液換算で0.lpp
m以下であつた。電解電圧は147であり、湿度は40
℃で電流密度は15ム76trtであつた。電流効率は
93%であった。
他方、陽イオン交換膜としてスチレン80部。
純度55%のジビニルベンゼン20部にスチレン−ブタ
シュンゴム5部、ベンゾイルパーオキサイド2部を同様
に加え、同じポリエチレンの補強網を用−て重合製膜し
、同様にスルホン化処理をした。なお、この陽イオン交
換膜の交換容量は、2.12ミリ当量/グラム乾燥膜で
あった。
シュンゴム5部、ベンゾイルパーオキサイド2部を同様
に加え、同じポリエチレンの補強網を用−て重合製膜し
、同様にスルホン化処理をした。なお、この陽イオン交
換膜の交換容量は、2.12ミリ当量/グラム乾燥膜で
あった。
この陽イオン交換膜を上記した陽イオン交換膜に代えて
用いた以外は、同様の条件で電解し、電解電圧147で
、得られる2、5%換算の水酸化テトラメチルアンモニ
ウム水溶液中における04の濃度は1.5ppmであり
、1.5規定の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液
をi1!極室から取得して、電流効率は61%であった
。
用いた以外は、同様の条件で電解し、電解電圧147で
、得られる2、5%換算の水酸化テトラメチルアンモニ
ウム水溶液中における04の濃度は1.5ppmであり
、1.5規定の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液
をi1!極室から取得して、電流効率は61%であった
。
実施例2
表1に示す組成の粘稠なポリマー溶液をポリビニルアル
コール製の厚み0.3Hの布を三枚重ねて、これに塗布
、両面をポリビニルアルコールのシートでおお−、加熱
重合して膜状物とした。
コール製の厚み0.3Hの布を三枚重ねて、これに塗布
、両面をポリビニルアルコールのシートでおお−、加熱
重合して膜状物とした。
表−1
得られた膜状物は、それぞれ水とエタノールの1=1の
液に10%となるように水酸化テトラメチルアンモニウ
ムを溶解した液に浸漬して一夜放置後、実施例1と同様
に王室構成の電解セルに組込んで、同じ条件で電解を実
施した。
液に10%となるように水酸化テトラメチルアンモニウ
ムを溶解した液に浸漬して一夜放置後、実施例1と同様
に王室構成の電解セルに組込んで、同じ条件で電解を実
施した。
その結果を表−2に示す。
表−2
01−の濃度は、2.5%水酸化テトラメチルアンモニ
ウム水溶液換算の値。
ウム水溶液換算の値。
実施例3
実施例2において用いた膜屋3の粘稠なペースト状混合
物をQ、lfiの厚みのポリビニルアルコール製の布に
塗布して実施例2と同様に重合して製膜し、これを10
%の水酸化テトラメチルアンモニウムの水とメタノール
との1:lの制御するため、上記したQ、 l MHの
厚みのポリビニルアルコールの布を複数枚積層して製膜
した。
物をQ、lfiの厚みのポリビニルアルコール製の布に
塗布して実施例2と同様に重合して製膜し、これを10
%の水酸化テトラメチルアンモニウムの水とメタノール
との1:lの制御するため、上記したQ、 l MHの
厚みのポリビニルアルコールの布を複数枚積層して製膜
した。
その結果を表−3に示す。
Claims (1)
- 陰・陽極間において、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜
とで形成された部屋に有機第四級アンモニウム塩を供給
し、陽極室に酸を供給して陰極室から水酸化第四級アン
モニウムを取得するにあたり、該陽イオン交換膜として
少なくともカルボン酸基を有し且つ架橋度がジビニルベ
ンゼンの含量として10〜30重量%であるスチレン系
樹脂よりなる厚み0.2〜2.0mmの陽イオン交換膜
を用いることを特徴とする水酸化第四級アンモニウムの
製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62294215A JPH01136983A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 水酸化第四級アンモニウムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62294215A JPH01136983A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 水酸化第四級アンモニウムの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01136983A true JPH01136983A (ja) | 1989-05-30 |
Family
ID=17804822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62294215A Pending JPH01136983A (ja) | 1987-11-24 | 1987-11-24 | 水酸化第四級アンモニウムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01136983A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991015615A1 (es) * | 1990-04-11 | 1991-10-17 | Ercros S.A. | Procedimiento para la obtencion electrolitica de hidroxidos y alcoxidos de amonio cuaternario |
EP0565252A1 (en) * | 1992-04-07 | 1993-10-13 | United Kingdom Atomic Energy Authority | Hydrolysis |
CN105063654A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-11-18 | 湖北星火化工有限公司 | 利用甲基磺酸钠制备甲基磺酸和氢氧化钠的方法 |
-
1987
- 1987-11-24 JP JP62294215A patent/JPH01136983A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991015615A1 (es) * | 1990-04-11 | 1991-10-17 | Ercros S.A. | Procedimiento para la obtencion electrolitica de hidroxidos y alcoxidos de amonio cuaternario |
EP0565252A1 (en) * | 1992-04-07 | 1993-10-13 | United Kingdom Atomic Energy Authority | Hydrolysis |
CN105063654A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-11-18 | 湖北星火化工有限公司 | 利用甲基磺酸钠制备甲基磺酸和氢氧化钠的方法 |
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