JPH01135574A

JPH01135574A - 蒸着薄膜形成用基板の清浄方法

Info

Publication number: JPH01135574A
Application number: JP29585787A
Authority: JP
Inventors: Naosuke Adachi; 安達　直祐; Akemi Fujiwara; 藤原　明己
Original assignee: OSAKA SHINKU KOGYO KK
Current assignee: OSAKA SHINKU KOGYO KK
Priority date: 1987-11-24
Filing date: 1987-11-24
Publication date: 1989-05-29

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、ＩＣやＬＳＩのクロームマスク、光学的薄膜
、透明導電膜等のピンホールレス金属薄膜、セラミック
ス、有機物などのピンホールレス薄膜の製造に当たって
必要な真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティン
グ等の方法によって真空成膜を施す基板の成膜面を清浄
化する方法に関するものである。

く従来の技術〉従来一般にＩＣやＬＳＩ等のパターンをウェハに転写す
る際に用いられるフォトマスクは、普通がラス板や合成
石英板などで成形された基板上に、真空蒸着法やスパッ
タリング法若しくはイオンブレーティング法等の真空成
膜法によって成膜された厚さ６００〜８００Ａのクロム
（Ｃｒ）Ｉｌｌをエツチングすることによって、微細な
パターンを形成している。

これらの操作は通常クリーン室内において行なわれてい
るが、基板の洗浄にあたって基板面に付着した微小な粉
塵や微量の油脂類を完全に零にすることは極めて困難で
、実質的に零にすることは容易ではなく、また、零に近
い洗浄を行なっても、洗浄後成膜時までに再び空気中の
微小な粉塵が再度付着するという問題が生じる。

基板の成膜面に残留している粉塵や油脂類は、超微小な
粉塵や超微量の油脂類であり、また、クリーンルーム内
において再び付着する粉塵も超微小な粉塵であるが、こ
れらの異物が基板の成膜面に存在すると、フォトマスク
の微りＩＩｌ上にピンホールを生ずる原因になったり、
密着力を弱める原因になったりして、完全なフォトマス
クの形成、即ち、ピンホールのない密着力の強いＣｒ薄
膜の形成に支障を未たす原因になっていた。

そこで、これらの欠陥原因を除（ための手段としての基
板の洗浄方法は各社ともに企業秘密にしており、一般に
は公開されていないのが現状である。しかし、実際には
、１５〜１６槽に亘る洗浄槽を設備し、繰り返し洗浄す
ることによって、よりクリーンなものとし、作業環境も
クラス１０〜１００のクリーン度を保たせたクリーンル
ーム内で行なわれているのが現状である。

〈発明が解決しようとする問題点〉しかしながら、このような従来方法によれば、洗浄槽の
設備費のみならず、広大なりリーンルームの建柴冑、ク
リーン化のためのｔａｌｆｌ器、装置費等の膨大な先行
投資を必要とし、繰り返し洗浄、クリーンルームのクリ
ーン度維持賛等ランニングコストも相当に大なるものを
必要とし、生産コストの低廉化を計ることが難しいとい
う問題があった。また、前記のように、高度なりリーン
度のルーム内作業であっても、基板の洗浄後、成膜工程
までの間に再びクリーン室の空気内に浮遊する超微小な
粉塵の再付着を回避する保管手段が大変であるという問
題があった。

本発明はかかる従来方法とは方法を全く異にし全く新し
い発想に基づいて達成されたもので従来の上記諸問題を
悉く解決することを目的としたものである。

〈問題点を解決するための手段〉該目的を達成するための本発明の詳細な説明すると、本
発明は、予め洗浄した有機物・無機物若しくはこれらの
混合物によって形成された基板（１）の蒸着薄膜形成用
面に、剥離可能な粘着シート（２）を圧着し、または、
水溶性樹脂塗料・エマルジョン塗料若しくは有機溶剤可
溶樹脂塗料を塗布して、剥離可能な乾燥被膜（３）を形
成させた後、清掃された真空蒸着室内に配置する直前に
おいて、または配置した後に、基板（１）に圧着された
粘着シート（２）または塗料の乾燥被膜１（３）を剥離
し、該剥離面に蒸着薄膜を形成する方法である。

く作用〉本発明は、かかる方法としたものであるから、予め洗浄
された基板（１）の蒸着ＹｉＩＩＩｌ！形成用面に残留
粉塵や残留油脂類が存在していても、圧着された粘着シ
ート（２）の剥離操作によって、または塗料の乾燥被膜
（３）の剥離操作によって、完全に除去することができ
るのである。また、これらのシート（２）若しくは被ｇ
（３）の圧珊若しくは塗布操作後剥離操作までの間、即
ち、真空成膜形成工程の前までの間に、時間的経過が存
在しても、基板（１）の蒸着薄膜形成面は、これらのシ
ート（２）若しくは被膜（３）によって被覆され保護さ
れているので、空気中の浮遊粉塵が新たに蒸着薄膜形成
面に付着することのない状態を維持することができる。

く実施例〉実施例１（ガラス基板＋塩化ビニール膜）ガラス製の基
板（１）を布で拭き付着している粉塵や油脂類（４）を
予め除去した後、７０ンソルプ（旭硝子株式会社製洗浄
液）中に投入して超音波洗浄を１０分間かけて引き上げ
、次いで７０ンソルプの蒸気で再び洗浄処理したガラス
基板（１）（第１図）の表面に、デンカビニール＃ｉｏ
ｏｏｗ（電気化学工業株式会社製ビニール樹脂）の６０
９（重量部、以下同じ）を、ＭｒＢＫ９０ｇ、ＭＥＫ９
０．、トルエン９０ｇの混合溶剤に溶解して形成した塗
料を塗布しく第２図）、乾燥させて被ｊｉ（３）を形成
した後、清掃された真空成膜室に配置し、減圧し、圧力
が５Ｘ１０’Ｔ　ｏｒｒに達した後、成膜作業寸前にお
いて塗料の乾燥室１１１（１）を剥離（第３図）する、
このようにしてできた清浄なガラス表面にＣｒ膜８００
人をスパッタリング法で成膜した。その結果、ピンホー
ルのない密着力の強いＣｒ［膜を得ることができた。

実施例２（〃ラス基板子ポリビニールアルコール膜）上記実施例
１に示したようにして予め清浄化したガラス製の基板（
１）の表面にポパール（株式会社クラレｇＩ樹脂塗料）
の１５１Ｆを蒸留水８５９と混合し、加熱攪拌して溶解
させた塗料（３）を塗布して熱風乾燥した後、実施例１
と同じく操作してＣｒＴｆｉＦＫを形成した。その結果
ピンホールのない密着力の強いＣ「薄膜を得ることがで
きた。

実施例３（ポリカーボネート基板子ポリビニールアルコ
ールＲ）、ポリカーボネート製の基板（１）を布で拭き付着して
いる粉塵や油脂類を予め除去した後、７０ンソルプ中に
投入して超音波洗浄を１０分間かけ、更に７０ンソルプ
の蒸気で洗浄処理したポリカーボネート基板（１）上に
、実施例２に使用したポパールの１５％水溶塗料を塗布
して熱風乾燥し塗料被膜（３）を形成した後、実施例１
と同じ（操作してＣｒ　ｉｌ　ｊＪｌを形成した。その
結果、ピンホールの無い密着力の強いＣｒ薄膜を得るこ
とができた。

実施例４（〃ラス基板＋粘着シート）実施例１のようにして予め洗浄したガラス基板（１）の
表面に、シー）　（２ａ）の片面に粘着剤（２ｂ）が塗
着された粘着シート（２）を圧着しく第４図）、実施例
１と同じく成膜寸前に剥離しく第５図）、剥離したプラ
ス基板面にＣ「のスパッタリングを行ない薄膜を形成し
た。その結果、ピンホールの無い密着力の強いＣｒ薄膜
を得ることができた。

実施例５（プラス基板及びポリカーボネート基板＋乳化
エマルジョン）実施例１のようにして予め洗浄したガラス基板（１）及
び実施例３のようにして予め洗浄したポリカーボネート
基板（１）の表面に各々乳化エマルクヨン塗料を塗布し
乾燥被膜（３）を形成した後、実施例１と同じ（スパッ
タリング法によってＣ「成膜を形成した。その結果何れ
もピンホールのない密着力の強い薄膜を得ることができ
た。

実施例６（ガラス基板及びポリカーボネート基板＋エチ
ルセルローズｇ）実施例１の清浄ガラス基板（１）及び実施例３の清浄ポ
リカーボネート基板゛（１）の表面に、各々エチルセル
ローズ２０．をエチルアルコール８０ｇに混合して得た
溶液を塗布後熱風乾燥して塗料被膜（３）を形成した後
、真空蒸着法によりＣｒ薄膜を形成した。その結果何れ
もピンホールのない密着力の強いｔｉＩｌを得ることが
できた。

実施例７（プラス基板士塩化ビニール膜）実施例１の清
浄がラス基板（１）の表面上に指紋及Ｖ微量の鉱物油を
塗り、実施例１のデンカビニール１００ＯＷの溶解塗料
を塗り、乾燥させて被膜を形成した後、イオンブレーテ
ィング法によりＣｒ薄膜を形成した。その結果やはりピ
ンホールのない密着力の強いＷＩ瑛を得ることができた
。

このことは、〃ラス基板面上に一付着させた油脂分がデ
ンカビニールｉｏｏｏｗ＠ｇの乾燥被膜によって粉塵と
ともに除去できることの証明である。

本発明にいう上記ＰＶＡ、ＰＶＣ等の塗料の濃度は特に
限定するものではなく、乾燥後の被膜が引き剥がすとき
に引きち切れない程度の塗膜厚さに形成できるものであ
れば良い。利用する塗料の種類も、ＰＶＡ、ＰＶＣのみ
に限定するものではなくｓｅａの可能な水溶性・アルコ
ール可溶性・その他有機溶剤に可溶な樹脂塗料であれば
良く特に限定する意図はない。

また、基板の形成材料についても、ポリカーボネートの
ほかＭＭＡ、ＰＶＣその他の有機高分子、ガラスのばか
セラミックス、シリコンその他の無機物、有機物と無機
物との混合物等があり、特に材料上において限定を加え
る意図はなく、一般にＩＣやＬＳＩのクロームマスク、
光学的ＷＩｊ！、透明導電膜等の形成層の基板素材とし
て用い得るものであればよい。

以上本発明の代表的と思われる実施例について説明した
が、本発明は必ずしもこれらの実施例に示した方法のみ
に限定されるものではなく、本発明にいう構成要件を備
え、かつ本発明にいう目的を達成し、以下にいう効果を
有する範囲内において適宜改変した方法によって実施す
ることができるものである。

〈発明の効果〉以上詳述した説明から既に明らかなように本発明は、予
゛め洗浄した蒸着膜形成用基板の蒸着薄膜形成用面に、
粘着シートを圧着し、または塗料を塗布して乾燥被膜を
形成し、これらのシートまたは被膜を剥離することによ
って、基板上に残留する微小な粉塵や油脂類を、シート
の粘着剤に吸着させ、または塗料被膜に吸着させるよう
にして、清浄な基板面を形成するようにしたものである
から、基板面は微小な粉塵や微量な油ａｍの残留しない
完全に清浄な面とすることができ、しかも、その剥離操
作を基板上への真空成膜形成を行なう工程の寸前に行な
うようにしたものであるから、空気中の浮遊粉塵が再び
付珊するぶちなことが殆どない状態で、異物のない清浄
な基板上に真空成膜を形成することができ、ピンホール
のない密着力の強い薄膜を形成することができるに至っ
たのである。しかも、従来のように空気中の浮遊粉塵の
再付着を避けるため、洗浄工程の直後に真空成膜を行な
わなければならないということはなく、粘着シートを圧
着した状態で、または塗料被膜を塗着させた状態で真空
成膜を形成する真空蒸着室への配置直前または配置した
後まで保存しておくことができるので、このように粘着
シートを圧着したものや塗料被膜を塗着したものを真空
成膜工程の処理能力と無関係に予め量産しておくことが
可能となり、また、この被膜形成場所と真空成膜形成場
所とが離れている場合であっても、空気中の粉塵の再付
着の懸念な（移動運搬することが可能であり、また、該
シート及び塗膜は剥離までの間の基板表面の損傷防止保
護膜としての作用をも果たす等のａｔな効果を有するも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は第１＊施例における要部の経時的説
明図、＃１４図及び第５図は第４実施例における要部の
経時的説明図である。図中（１）は基板、（２）は粘着シート、（３）は塗料
の乾燥被膜である第１図第４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）予め洗浄した有機物・無機物若しくはこれらの混
合物によって形成された基板（１）の蒸着薄膜形成用面
に、剥離可能な粘着シート（２）を圧着し、または、水
溶性樹脂塗料・エマルジョン塗料若しくは有機溶剤可溶
樹脂塗料を塗布して、剥離可能な乾燥被膜（３）を形成
させた後、清掃された真空蒸着室内に配置する直前にお
いて、または配置した後に、基板（１）に圧着された粘
着シート（２）または塗料の乾燥被膜（３）を剥離し、
該剥離面に蒸着薄膜を形成するようにした蒸着薄膜形成
用基板の清浄方法。
（２）基板（１）の形成素材がポリカーボネートである
特許請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基板
の清浄方法。
（３）基板（１）の形成素材がＭＭＡである特許請求の
範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基板の清浄方法
。
（４）基板（１）の形成素材がポリ塩化ビニールである
特許請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成眉基板
の清浄方法。
（５）基板（１）の形成素材がガラスである特許請求の
範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基板の清浄方法
。
（６）基板（１）の形成素材がセラミックスである特許
請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基板の清
浄方法。
（７）基板（１）の形成素材がシリコンである特許請求
の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基板の清浄方
法。
（８）乾燥被膜（３）形成用塗料が水溶性樹脂塗料であ
る特許請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用基
板の清浄方法。
（９）乾燥被膜（３）形成用塗料がエマルジョン塗料で
ある特許請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄膜形成用
基板の清浄方法。
（１０）乾燥被膜（３）形成用塗料が有機溶剤可溶性樹
脂塗料である特許請求の範囲第（１）項に記載の蒸着薄
膜形成用基板の清浄方法。