JPH0113428Y2 - - Google Patents

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JPH0113428Y2
JPH0113428Y2 JP1980129357U JP12935780U JPH0113428Y2 JP H0113428 Y2 JPH0113428 Y2 JP H0113428Y2 JP 1980129357 U JP1980129357 U JP 1980129357U JP 12935780 U JP12935780 U JP 12935780U JP H0113428 Y2 JPH0113428 Y2 JP H0113428Y2
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JP
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core tube
furnace core
quartz glass
thick film
cross
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Description

【考案の詳細な説明】
本考案は半導体厚膜IC焼成用石英ガラス製炉
芯管の改良に関する。 周知の如く、半導体厚膜ICはAu,Pt,Ag,
Pd等の貴金属の粉末(1μm以下)、ガラス粉末、
バインダー及び溶剤を混和したペーストを、セラ
ミツク基板に印刷法により印刷し、乾燥した後焼
成炉内で700〜950℃で焼成することにより製造さ
れる。 ところで、上述した半導体厚膜ICの製造に用
いられる焼成炉は、従来、第1図に示すように断
面形状が長方形の角型石英ガラス製炉芯管1の周
囲にヒータ2…を配置し、更にその周辺に外側を
炉殻3で覆われたレンガからなる断熱材4(或い
はセラミツクフアイバー製の断熱材)を配設した
構造になつている。 しかしながら、上記従来構造の炉芯管にあつて
は次のような欠点があつた。 半導体厚膜ICの焼成時には、ヒータ2の温
度が約1000℃と高温になるため、石英ガラス製
炉芯管の粘性が低下し、長時間連続的な焼成を
行なうと、第2図に示す如く炉芯管1上部が自
重でたわみ、変形を起こす。その結果、炉芯管
内に温度分布が生じ、高性能の半導体厚膜IC
の製造に支障をきたす。 自重によるたわみの影響を少なくするには、
炉芯管2の幅(W)を小さくするか、高さ(H)を
大きくするか、いずれかによりある程度達成で
きる。しかしながら、半導体厚膜ICはベルト
等で送られ、上部に不必要な空間が広くなる
と、熱効率が低下する。特に、炉芯管2の高さ
(H)を大きくした場合、炉芯管の断面積が大きく
なり、炉芯管の外表面と半導体厚膜ICのセツ
ト位置の温度差が増大し、所定温度の焼成を行
なおうとすると、炉芯管外表面の温度が高くな
り、失透し易くなる。 本考案は上記事情に鑑みなされたもので、焼成
中での上部壁面のたわみ発生がなく、かつ内部の
温度を均一化できる半導体厚膜IC焼成炉用石英
ガラス製炉芯管を提供しようとするものである。 すなわち、本考案の石英ガラス製炉芯管は第3
図に示すように高さ(H)対幅(W)の比(H/W)
が1/2以下で断面がカマボコ形状をなしている。
このような構造にすれば上部がアーチ状になるた
めに上部のたわみを防止でき、かつ幅方向の長さ
を高さに比べて大きくできるために炉芯管内の温
度分布を均一にできる。 次に、本考案の効果を確認するための実験例を
前述の第3図を参照して説明する。 実験例 長さ6000mm、肉厚10mm、幅(W)330mm、高さ
150mmで断面がカマボコ形状をなす第3図図示の
石英ガラス製炉芯管(実験例)、前記実験例と同
長さ、同肉厚、同幅で高さが200mmの断面カマボ
コ形状をなす石英ガラス炉芯管(参照例)、及び
長さ6000mm、肉厚10mm、幅3300mm、高さ150mmの
断面長方形状をなす石英ガラス製炉芯管(比較
例)を、炉内に夫々設置し、炉芯管の中央部を
900℃に昇温し、10時間保持した後の炉芯管の幅
方向の温度のバラツキ状態を測定した。 その結果を下記表に示した。
【表】 上表より明らかな如く、高さ(H)150mm、幅(W)
330mm、(H/W=1/2以下)で断面カマボコ形の
本考案の炉芯管〔実験例〕は温度分布が少なく均
一加熱できる。しかも上部のたわみ発生もほとん
ど起きなかつた。これに対し、高さH)200mm、
幅(W)330mm、(H/W=1/2以上)のカマボコ
形の炉芯管(参照例)は昇温時でのたわみ発生は
起きなかつたが、温度むらが大きく、かつ断面積
が大きいために昇温に時間を要し、熱効率が悪
い。また、断面長方形状の従来の炉芯管は温度の
測定時に既にたわみ始じめ温度むらを生じ、更に
時間経過と共にたわみ度合が大きくなつた。 また、本考案の炉芯管は上部がアーチ形になつ
ているため、半導体厚膜ICの焼成中に発生する
排気ガスの流れが良好となり半導体厚膜ICに与
える影響も少なくできた。 更に、本考案のカマボコ形の炉芯管は、断面積
を大きくせずに幅を広くでき、幅の広いベルトが
使用できるので、一定の焼成速度でも半導体厚膜
ICの単位時間当りの焼成個数を増大でき、ひい
ては生産性を著しく向上できる。 以上詳述した如く、本考案によれば高さ対幅の
比を1/2以下で断面形状をカマボコ形に改良した
構造にすることによつて、焼成中での上部壁面の
たわみ発生を防止できると共に、内部の温度を均
一化でき、もつて高寿命で高品質の半導体厚膜
ICを量産的に焼成することが可能な石英ガラス
製炉芯管を提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の石英ガラス製炉芯管を組み込ん
だ半導体厚膜ICの焼成炉の横断面図、第2図は
焼成炉の横断面図、第2図は焼成処理を行なつた
後の従来の石英ガラス製炉芯管の状態を示す横断
面図、第3図は本考案の一実施例を示す石英ガラ
ス製炉芯管の横断面図である。 1,1′……石英ガラス製炉芯管、2……ヒー
タ、3……炉殻、4……レンガからなる断熱材。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 高さ対幅の比が1/2以下で断面がカマボコ形状
    をなすことを特徴とする半導体厚膜IC焼成炉用
    石英ガラス製炉芯管。
JP1980129357U 1980-09-11 1980-09-11 Expired JPH0113428Y2 (ja)

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JPS5753682U JPS5753682U (ja) 1982-03-29
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