JPH01130150U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01130150U JPH01130150U JP2573888U JP2573888U JPH01130150U JP H01130150 U JPH01130150 U JP H01130150U JP 2573888 U JP2573888 U JP 2573888U JP 2573888 U JP2573888 U JP 2573888U JP H01130150 U JPH01130150 U JP H01130150U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- scribe lines
- photomask
- patterns
- element patterns
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
Description
第１図は本考案の一実施例のフオトマスクの一
部拡大平面図、第２図は従来のフオトマスクの平
面図、第３図は本考案の別の実施例のレチクルの
平面図である。 １：フオトマスク、２：半導体素子パターン、
３：スクライブライン、４：識別パターン。
部拡大平面図、第２図は従来のフオトマスクの平
面図、第３図は本考案の別の実施例のレチクルの
平面図である。 １：フオトマスク、２：半導体素子パターン、
３：スクライブライン、４：識別パターン。
Claims (1)
- 複数個の同一半導体素子パターンとスクライブ
ラインとで構成されるものにおいて、スクライブ
ライン中に個々の半導体素子パターンに対応する
識別パターンを有することを特徴とするフオトマ
スク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2573888U JPH01130150U (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2573888U JPH01130150U (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01130150U true JPH01130150U (ja) | 1989-09-05 |
Family
ID=31246735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2573888U Pending JPH01130150U (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01130150U (ja) |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP2573888U patent/JPH01130150U/ja active Pending