JPH01129971A - 被覆切削工具製造法 - Google Patents
被覆切削工具製造法Info
- Publication number
- JPH01129971A JPH01129971A JP28542487A JP28542487A JPH01129971A JP H01129971 A JPH01129971 A JP H01129971A JP 28542487 A JP28542487 A JP 28542487A JP 28542487 A JP28542487 A JP 28542487A JP H01129971 A JPH01129971 A JP H01129971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- film
- cutting tool
- gas
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 3
- CKUAXEQHGKSLHN-UHFFFAOYSA-N [C].[N] Chemical compound [C].[N] CKUAXEQHGKSLHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract 1
- 229910003080 TiO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- -1 0H1011 Chemical class 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は化学蒸着法により切削工具基体に被覆を施し、
該被覆が基体に対し強度な密着力を有し、耐摩耗性、耐
欠損性に優れた被覆切削工具を製造する方法に関するも
のでろる。
該被覆が基体に対し強度な密着力を有し、耐摩耗性、耐
欠損性に優れた被覆切削工具を製造する方法に関するも
のでろる。
被覆切削工具製造法の一つとして従来がらｑＶＤ法（化
学蒸着法）が知られているが、最近に、従来の１０００
℃以上で行なう）ＩＴ−ＯＶＤ法（高温化学蒸着法）に
比べて比較的低温で被覆するＭＴ−ＯＶＤ法（中温化学
蒸着法）がよく利用されている。ＭＴ−ＯＶＤ法によれ
ば被膜組織が微粒化し、優れた耐欠損性を有する被覆切
削工具が得られる［文献： ＭｅｔａｌＰｒｏｇｒｅｓ
ａ、 Ｆｅｂ、 １９８６． ｐ、３５〜４５ ］。
学蒸着法）が知られているが、最近に、従来の１０００
℃以上で行なう）ＩＴ−ＯＶＤ法（高温化学蒸着法）に
比べて比較的低温で被覆するＭＴ−ＯＶＤ法（中温化学
蒸着法）がよく利用されている。ＭＴ−ＯＶＤ法によれ
ば被膜組織が微粒化し、優れた耐欠損性を有する被覆切
削工具が得られる［文献： ＭｅｔａｌＰｒｏｇｒｅｓ
ａ、 Ｆｅｂ、 １９８６． ｐ、３５〜４５ ］。
しかしながら、ＭＴ−ＯＶＤ法に原料とじて低温でも分
解しやすい有機化合物を用いているため、被覆時に被覆
層と基体の界面に遊離炭素（ｐｃと略す）が析出し、被
覆の基体への密着強度を著しく低下させ、これによシ該
被覆が剥離し易くなるに加え、被覆自体の強度も低下し
、切削工具の耐欠損性をも低下させるという問題があっ
た。
解しやすい有機化合物を用いているため、被覆時に被覆
層と基体の界面に遊離炭素（ｐｃと略す）が析出し、被
覆の基体への密着強度を著しく低下させ、これによシ該
被覆が剥離し易くなるに加え、被覆自体の強度も低下し
、切削工具の耐欠損性をも低下させるという問題があっ
た。
例えば、ＴｉＯ４とＯＨ，Ｃ！Ｍとを原料ガスに用い７
’ｊＭＴ−ＯＶＤ法によるＴｉ（Ｃ！、 Ｍ） Ｏ被
覆は例えば特開昭６２−４４５７２号公報記載の方法に
よると下記（２）式で表わされている。
’ｊＭＴ−ＯＶＤ法によるＴｉ（Ｃ！、 Ｍ） Ｏ被
覆は例えば特開昭６２−４４５７２号公報記載の方法に
よると下記（２）式で表わされている。
２ ＴｉＯ４＋ ２０ＢＢＯＭ ＋ ３ Ｈ１→２ＴＩ
ＣＯ，Ｍ）＋６ＨＯ１＋２ＣｊＨＩＯ１＠）しかしなが
ら、（２）式に従う化学量論比に各ガス流１を調整して
反応させても、実際には副生成ガスである０ＨＩＣ２ｔ
ｊはとんど生成せずにＮＰＣが析出する。
ＣＯ，Ｍ）＋６ＨＯ１＋２ＣｊＨＩＯ１＠）しかしなが
ら、（２）式に従う化学量論比に各ガス流１を調整して
反応させても、実際には副生成ガスである０ＨＩＣ２ｔ
ｊはとんど生成せずにＮＰＣが析出する。
発明者らは、これを解決するためにＨ１ＯＩｉ＝Ｃ１ｉ
流量に対して、ＴｉＯ４流量を大過剰にし、Ｃｏｏｌ中
の０及び１１１１１［子をすべてＴ ｉ Ｏ４と反応さ
せて、ｃＢｓｃｗからのＰ○析出を低下させればよいこ
とを見い出した。ところが、ＴｉＯ４流！ｉを大過剰に
すると、今度に被覆時に大量の塩素原子（ａｔ）が被膜
に含有され、被覆強度が低下し、耐欠損性が著しく低下
するという副作用が生じるのである。
流量に対して、ＴｉＯ４流量を大過剰にし、Ｃｏｏｌ中
の０及び１１１１１［子をすべてＴ ｉ Ｏ４と反応さ
せて、ｃＢｓｃｗからのＰ○析出を低下させればよいこ
とを見い出した。ところが、ＴｉＯ４流！ｉを大過剰に
すると、今度に被覆時に大量の塩素原子（ａｔ）が被膜
に含有され、被覆強度が低下し、耐欠損性が著しく低下
するという副作用が生じるのである。
本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであって
、その目的とするところｄＭＴ−ＯＶＤ法によって基体
との密着強度及び被膜強度の向上した被覆を形成でき、
耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆切削工具を製造できる
方法を提供することにある。
、その目的とするところｄＭＴ−ＯＶＤ法によって基体
との密着強度及び被膜強度の向上した被覆を形成でき、
耐摩耗性、耐欠損性に優れた被覆切削工具を製造できる
方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は超硬
合金又はサーメットからなる基体に化学蒸着法によりＭ
ａ族金属の炭窒化物を被覆するにア九シ、被覆層の金属
源としてのＶａ族金属の塩化物、炭窒素源としての有機
窒素化合物及びＩＩ重 ガスの混合ガスを、温度７０
０〜９００℃において、この際の各ガス量比が１、０
＜−＜五〇（Ｉ） ｂｍ ｃ 〉２０００ Ｘ −（１） （九九しａ：Ｍａ族金属塩化物ガス流量ｂ：有機窒素化
合物ガス流量 ｃ：Ｂ黛 ガス流量 ｍ：有機窒素化合物−分子中の炭 素原子数と窒素原子数の和 ） 上記（１）及び（…）式を満足する値となるように制御
して反応させることを特徴とする被覆切削工具製造法に
関する。
合金又はサーメットからなる基体に化学蒸着法によりＭ
ａ族金属の炭窒化物を被覆するにア九シ、被覆層の金属
源としてのＶａ族金属の塩化物、炭窒素源としての有機
窒素化合物及びＩＩ重 ガスの混合ガスを、温度７０
０〜９００℃において、この際の各ガス量比が１、０
＜−＜五〇（Ｉ） ｂｍ ｃ 〉２０００ Ｘ −（１） （九九しａ：Ｍａ族金属塩化物ガス流量ｂ：有機窒素化
合物ガス流量 ｃ：Ｂ黛 ガス流量 ｍ：有機窒素化合物−分子中の炭 素原子数と窒素原子数の和 ） 上記（１）及び（…）式を満足する値となるように制御
して反応させることを特徴とする被覆切削工具製造法に
関する。
上記問題点を解決すべく研究努力の結果、本発明者らは
、原料ガス及びＨ，ガスの流量比を上記（１）式及び（
ＩＩ）式の範囲内に制御することにより、ＩＰＣ及びａ
ｔ含有量の極めて少ない被膜を得ることができることを
経験的に見い出した。
、原料ガス及びＨ，ガスの流量比を上記（１）式及び（
ＩＩ）式の範囲内に制御することにより、ＩＰＣ及びａ
ｔ含有量の極めて少ない被膜を得ることができることを
経験的に見い出した。
本発明におけるｆＶａｆＡ金属の炭窒化物の原料として
は、ｌＶａ属金異金属わちＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆの塩化物例
えばＴ１ｏｌ＠ 、 Ｚｒ０４ 、 Ｈｆ０４等を金
桟源とし、このガスの流量ｉａとする。また、炭窒素源
としては有機窒素化合物、例えば０Ｈ１０１１、（！１
１１１１ 、 ’ ０Ｈ１（ＨＥ ＣＣｍ０Ｈｅ ０−
０１Ｊ ｔＣＨｌ （ＯＨｌ ）１０ Ｍ ｔ ＣＨ
Ｂ ＯＨｌ Ｎ Ｈｌ ｔ Ｈ０１１等を用いること
ができるが、これ等のうちでは副生成物を生じ難く安全
性、の高い点でＯＨ畠ａｍ 、 ＯＨ，ＮＨ＝。
は、ｌＶａ属金異金属わちＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆの塩化物例
えばＴ１ｏｌ＠ 、 Ｚｒ０４ 、 Ｈｆ０４等を金
桟源とし、このガスの流量ｉａとする。また、炭窒素源
としては有機窒素化合物、例えば０Ｈ１０１１、（！１
１１１１ 、 ’ ０Ｈ１（ＨＥ ＣＣｍ０Ｈｅ ０−
０１Ｊ ｔＣＨｌ （ＯＨｌ ）１０ Ｍ ｔ ＣＨ
Ｂ ＯＨｌ Ｎ Ｈｌ ｔ Ｈ０１１等を用いること
ができるが、これ等のうちでは副生成物を生じ難く安全
性、の高い点でＯＨ畠ａｍ 、 ＯＨ，ＮＨ＝。
ｃｎ、（１Ａｎ）、ａｍ、が好ましい。この有機窒素化
合物ガスの流量をｂとする。またこのときの該有機窒素
化合物−分子中の炭素原子数と窒素原子数の和をｍとす
る。
合物ガスの流量をｂとする。またこのときの該有機窒素
化合物−分子中の炭素原子数と窒素原子数の和をｍとす
る。
本発明に以上のＩＶａ族金属塩化物（ｉｆｆｉａ）と有
機窒素化合物（ｔＩ！、量ｂ）及びＨ！ ガス（流量Ｃ
）を、 ｔｏ≦□く工Ｏ・・・（１） ｂｍ Ｃ≧２０００ Ｘ□ ・・・（ＩＩ）となるよ
うに混合し、温度７００〜９００℃で反応させる。
機窒素化合物（ｔＩ！、量ｂ）及びＨ！ ガス（流量Ｃ
）を、 ｔｏ≦□く工Ｏ・・・（１） ｂｍ Ｃ≧２０００ Ｘ□ ・・・（ＩＩ）となるよ
うに混合し、温度７００〜９００℃で反応させる。
ここで、＆ ／ ｂｍ ＝Ｌ Ｄとは、混合ガス中の金
属原子数と（（！＋ｌｌ’ｌ原子数（炭素原子数と窒素
原子数との和）が等しい、つまシ有機窒素化合物中のす
べてのＣ，Ｎ原子を被膜の構成原子とすることができる
化学量論値であり、ａ／ｂｍ〈１．０のときｒｉＨｚ流
量にかかわらずｐｃが析出する。またａ／ｂｍ）五〇の
ときは、混合ガス中の金属塩化物量が過剰にすぎて、Ｔ
１！ 流量にかかわらず被膜中に大量の残留ｃｔ が
含有される。
属原子数と（（！＋ｌｌ’ｌ原子数（炭素原子数と窒素
原子数との和）が等しい、つまシ有機窒素化合物中のす
べてのＣ，Ｎ原子を被膜の構成原子とすることができる
化学量論値であり、ａ／ｂｍ〈１．０のときｒｉＨｚ流
量にかかわらずｐｃが析出する。またａ／ｂｍ）五〇の
ときは、混合ガス中の金属塩化物量が過剰にすぎて、Ｔ
１！ 流量にかかわらず被膜中に大量の残留ｃｔ が
含有される。
ＦＣ，残留ＯＬのいずれも含有されない被膜を得るため
には、０）式の条件を満足し、かつ（ｎ）式の条件にな
るように、Ｈｌ 流量を大過剰にすることが必要であ
ると、種々の実験から判つ念。
には、０）式の条件を満足し、かつ（ｎ）式の条件にな
るように、Ｈｌ 流量を大過剰にすることが必要であ
ると、種々の実験から判つ念。
すなわち、（１）式のａ／ｂｍ ＝ １． Ｏｆ＠、あ
くまでも化学量論的な値であり、実際の反応でに有機化
合物のＣ及びＮ原子に金属原子と反応しにくく、（り式
を満足したのみでに依然としてｐｃが析出する。
くまでも化学量論的な値であり、実際の反応でに有機化
合物のＣ及びＮ原子に金属原子と反応しにくく、（り式
を満足したのみでに依然としてｐｃが析出する。
そこで（ＩＩ）式に従って、Ｈｌ ガスを大過剰にす
ると、下記（財）式の反応の平衡を大きく右にずらし、
ＦＣヲＣＨ４ガスとすることができるのである。Ｈ，ガ
ス流量が（■）式を満足しない場合には下記（転）式の
反応が進みにくいので、効果が得られない。
ると、下記（財）式の反応の平衡を大きく右にずらし、
ＦＣヲＣＨ４ガスとすることができるのである。Ｈ，ガ
ス流量が（■）式を満足しない場合には下記（転）式の
反応が進みにくいので、効果が得られない。
Ｃｊ（ｓ） ＋ ２Ｈｍ −ｅ ＣＨ４頓（ｉｖ）
本発明の温度域に７００〜９００℃が好ましく、７００
℃未満でに切削工具にと９望ましい膜・基材間の密着強
度が得、られす、９００℃を越えると膜組織が粗粒化し
、コーティング温度の低温化の効果が無になる。なお、
反応系内の圧力に２０〜２００ ｔｏｒｒ 程度の通常
の減圧条件でよい。なお本発明を実施する装置は、公知
のＯＶＤ装置を用いることができる。
本発明の温度域に７００〜９００℃が好ましく、７００
℃未満でに切削工具にと９望ましい膜・基材間の密着強
度が得、られす、９００℃を越えると膜組織が粗粒化し
、コーティング温度の低温化の効果が無になる。なお、
反応系内の圧力に２０〜２００ ｔｏｒｒ 程度の通常
の減圧条件でよい。なお本発明を実施する装置は、公知
のＯＶＤ装置を用いることができる。
上記のように、ガス流量比を制御して、温度７００〜９
００℃で化学蒸着を行なうことによ、９、ＦＣ及び残留
ａＺ含有量が極めて少なく、よって耐摩耗性に優れ被膜
強度、密着強度の高い被膜を得ることができる。本発明
による被覆切削工具は耐摩耗性と耐欠損性の両方を必要
とする７ライス切削工具に最適である。
００℃で化学蒸着を行なうことによ、９、ＦＣ及び残留
ａＺ含有量が極めて少なく、よって耐摩耗性に優れ被膜
強度、密着強度の高い被膜を得ることができる。本発明
による被覆切削工具は耐摩耗性と耐欠損性の両方を必要
とする７ライス切削工具に最適である。
以下、実施例を挙げて、本発明の限定範囲が有効である
ことと、本発明による被覆切削工具の性能が優れること
を具体的に示す。
ことと、本発明による被覆切削工具の性能が優れること
を具体的に示す。
実施例１
ｗｅ −１ｏ％ＣＯ超硬合金（住友電工製、型番ｓｎａ
４３２ ）を基体とし、ｌＶａ属金属塩化物ガスとし
て、ＴｉＣｔ、又ｄ ＨｆＣ４，、有機窒素化合物とし
てＣＨ３０Ｎ 、 ＣＢｌ（ｌＩＨ）１０迅又Ｆｌ
ＣＨｓＭＨ＊ およびａｍ ガスを用い、各ガス流量
比を表１に示すようにして、温度８５０℃で基体上にＴ
ｉ（０，Ｎ）またはＨｆ（Ｃ，Ｎ）を２μｍ厚さに被覆
した。得られた一１〜Ｎａ１３の被覆合金について被膜
と基材の密着強度をスクラッチテスターで測定した。
４３２ ）を基体とし、ｌＶａ属金属塩化物ガスとし
て、ＴｉＣｔ、又ｄ ＨｆＣ４，、有機窒素化合物とし
てＣＨ３０Ｎ 、 ＣＢｌ（ｌＩＨ）１０迅又Ｆｌ
ＣＨｓＭＨ＊ およびａｍ ガスを用い、各ガス流量
比を表１に示すようにして、温度８５０℃で基体上にＴ
ｉ（０，Ｎ）またはＨｆ（Ｃ，Ｎ）を２μｍ厚さに被覆
した。得られた一１〜Ｎａ１３の被覆合金について被膜
と基材の密着強度をスクラッチテスターで測定した。
なお、スクラッチテスターはスイス時計社製でダイヤ圧
子先端角１３０℃、ダイヤ圧子先端径２００μｍであっ
た。結果を表１に示すが、ガス流量単位に（ｗｌ ／
ｗｉｎ ）である。
子先端角１３０℃、ダイヤ圧子先端径２００μｍであっ
た。結果を表１に示すが、ガス流量単位に（ｗｌ ／
ｗｉｎ ）である。
また、ＮＩ＆１〜Ｎａ１３の各被覆合金を用いて以下の
条件で旋削テスト’２行った。テスト結果を表１にまと
めて示す。
条件で旋削テスト’２行った。テスト結果を表１にまと
めて示す。
切削条件（切削速度： ２００ ｍ ／ ｍｉｎ ｓ被
削材： ８０Ｍ ４５５、送シ：α２５■／刃、切込み
：２．０■、切削油：なし） 実施例２ サーメット（住友゛鑞工製、型番ｓｐＭｎ ４２２ ）
を基体とし、ＴｉＣ２ａ、 ＣＨｍＣＮ 、 ＨＩ
ガｘ２表２に示す流量比で混合して、温度８５０℃
で反応させ、基体上にＴ１（ｃ、１１）ｔ−２μｍ厚さ
で被覆した。得られた１ｌｊ１４〜Ｎａ１８の被覆サー
メットについて、以下の条件で４溝靭性テストを行なっ
た。このテストの結果を破損率価）として表２にまとめ
て示す。ガスｆｌｌ量単位は―／ ｍｉｎである。
削材： ８０Ｍ ４５５、送シ：α２５■／刃、切込み
：２．０■、切削油：なし） 実施例２ サーメット（住友゛鑞工製、型番ｓｐＭｎ ４２２ ）
を基体とし、ＴｉＣ２ａ、 ＣＨｍＣＮ 、 ＨＩ
ガｘ２表２に示す流量比で混合して、温度８５０℃
で反応させ、基体上にＴ１（ｃ、１１）ｔ−２μｍ厚さ
で被覆した。得られた１ｌｊ１４〜Ｎａ１８の被覆サー
メットについて、以下の条件で４溝靭性テストを行なっ
た。このテストの結果を破損率価）として表２にまとめ
て示す。ガスｆｌｌ量単位は―／ ｍｉｎである。
切削条件（切削速度： １５０ ｍ／ｍｉｎ、送シ：Ｉ
１２５〜ｆｌｋ１７ｍ／刃、切込：２．０ｍ、切削時間
：３０ｓｅｃ、繰シ返し数：８回、被削材：８（！Ｍ
４５５、切削油：なし） 実施例５ ｗｅ −１０％ Ｃｏ超硬合金（住友電工製、型番８Ｎ
Ｇ ４５２ ）を基体とし、Ｚｒ０４ 、 ０ＲＢ（Ｎ
Ｈ）＊ＯＨｓ ＃１！、 ガスを表５に示す流量比で
混合して、８５０℃で反応させ、Ｚ ｒ （０＊ １１
’）を２ｐｍ厚さで被覆した。得られた１１９〜２４
の試料について以下の条件で４溝靭性テストを行なった
。結果を表２と同様に表３に示す。
１２５〜ｆｌｋ１７ｍ／刃、切込：２．０ｍ、切削時間
：３０ｓｅｃ、繰シ返し数：８回、被削材：８（！Ｍ
４５５、切削油：なし） 実施例５ ｗｅ −１０％ Ｃｏ超硬合金（住友電工製、型番８Ｎ
Ｇ ４５２ ）を基体とし、Ｚｒ０４ 、 ０ＲＢ（Ｎ
Ｈ）＊ＯＨｓ ＃１！、 ガスを表５に示す流量比で
混合して、８５０℃で反応させ、Ｚ ｒ （０＊ １１
’）を２ｐｍ厚さで被覆した。得られた１１９〜２４
の試料について以下の条件で４溝靭性テストを行なった
。結果を表２と同様に表３に示す。
切削条件（切削速度： １５０ ｍ７ ｍｉｎ、送り：
ｌ１１５〜ｃＬ２０ｇＩｌ／刃、切込：２ｍ、切削時間
：３０ｓｅｃ、繰シ返し数＝８回、被４り材：ＳＣＭ
４４０、切削油：なし） 〔発明の効果］ 本発明により、被膜中に遊離炭素ｐｃが存在せず、その
結果被覆と基体間に強固な密着強度を得ることができ、
まな被覆膜中の残留塩素量が極めて少ない強固な被膜５
を得ることができる。
ｌ１１５〜ｃＬ２０ｇＩｌ／刃、切込：２ｍ、切削時間
：３０ｓｅｃ、繰シ返し数＝８回、被４り材：ＳＣＭ
４４０、切削油：なし） 〔発明の効果］ 本発明により、被膜中に遊離炭素ｐｃが存在せず、その
結果被覆と基体間に強固な密着強度を得ることができ、
まな被覆膜中の残留塩素量が極めて少ない強固な被膜５
を得ることができる。
従って本発明による被覆切削工具は、耐摩耗性、耐欠損
性共に優れた特性を示し、耐欠損性を特に要求される７
ライス切削工具に最適である。
性共に優れた特性を示し、耐欠損性を特に要求される７
ライス切削工具に最適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 超硬合金又はサーメットからなる基体に化学蒸着法によ
りIVａ族金属の炭窒化物を被覆するにあたり、被覆層の
金属源としてのIVａ族金属の塩化物、炭窒素源としての
有機窒素化合物及びＨ＿２ガスの混合ガスを、温度７０
０〜９００℃において、この際の各ガス量比が １．０≦ａ／（ｂｍ）≦３．０（ I ） ｃ≧２０００×（ｂｍ）／ａ（II） （ただしａ：IVａ族金属塩化物ガス流量 ｂ：有機窒素化合物ガス流量 ｃ：Ｈ＿２ガス流量 ｍ：有機窒素化合物一分子中の炭 素原子数と窒素原子数の和） 上記（ I ）及び（II）式を満足する値となるように制
御して反応させることを特徴とする被覆切削工具製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28542487A JPH01129971A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 被覆切削工具製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28542487A JPH01129971A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 被覆切削工具製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129971A true JPH01129971A (ja) | 1989-05-23 |
Family
ID=17691343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28542487A Pending JPH01129971A (ja) | 1987-11-13 | 1987-11-13 | 被覆切削工具製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129971A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04231468A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-20 | Kyocera Corp | 表面被覆ＴｉＣＮ基サーメット |
| JPH04231469A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-20 | Kyocera Corp | 被覆ＴｉＣＮ基サーメット |
| US5589223A (en) * | 1990-01-31 | 1996-12-31 | Mitsubishi Material Corp. | Process for producing cermet cutting tools having both longitudinal and granular crystal structures |
| US5981078A (en) * | 1995-08-19 | 1999-11-09 | Widia Gmbh | Composite body and process for its production |
-
1987
- 1987-11-13 JP JP28542487A patent/JPH01129971A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589223A (en) * | 1990-01-31 | 1996-12-31 | Mitsubishi Material Corp. | Process for producing cermet cutting tools having both longitudinal and granular crystal structures |
| JPH04231468A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-20 | Kyocera Corp | 表面被覆ＴｉＣＮ基サーメット |
| JPH04231469A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-20 | Kyocera Corp | 被覆ＴｉＣＮ基サーメット |
| US5981078A (en) * | 1995-08-19 | 1999-11-09 | Widia Gmbh | Composite body and process for its production |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4269899A (en) | Surface hafnium-titanium carbide coated hard alloy and method | |
| US4282289A (en) | Method of preparing coated cemented carbide product and resulting product | |
| CA2077205C (en) | Titanium carbonitride coated stratified substrate | |
| US5915162A (en) | Coated cutting tool and a process for the production of the same | |
| CA2072160C (en) | Alumina coated sintered body | |
| EP1008553A1 (en) | Surface functionalized diamond crystals and methods for producing same | |
| Bartl et al. | A comparison of low-pressure CVD synthesis of diamond and c-BN | |
| US4162345A (en) | Deposition method and products | |
| US4874642A (en) | Method for depositing a hard, fine-grained, non-columnar alloy of tungsten and carbon on a substrate | |
| US4264682A (en) | Surface hafnium-titanium compound coated hard alloy material and method of producing the same | |
| JPS6353269A (ja) | ダイヤモンド被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具チツプ | |
| JPH01129971A (ja) | 被覆切削工具製造法 | |
| JPS63100182A (ja) | ダイヤモンド被覆炭化タングステン基超硬合金製切削工具チツプ | |
| US4147820A (en) | Deposition method and products | |
| JPS623234B2 (ja) | ||
| US4910091A (en) | High hardness fine grained tungsten-carbon alloys | |
| JPH04507394A (ja) | Ｃｖｄにより成長した転移金属のカーバイドと窒化物のホイスカー | |
| JPS5824501B2 (ja) | タングステンカ−バイド被膜層の製造方法 | |
| JPH0234733B2 (ja) | ||
| JP3265974B2 (ja) | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具の製造法 | |
| JPS6119777A (ja) | 耐摩、耐熱性被覆超硬合金部材 | |
| JPS6035430B2 (ja) | 被覆超硬質合金製品の製造法 | |
| JPS6154872B2 (ja) | ||
| JPS60159171A (ja) | 被覆硬質部材の製造方法 | |
| JPS59129775A (ja) | 被覆硬質部材の製造法 |