JPH011290A - 半導体レ−ザ装置 - Google Patents

半導体レ−ザ装置

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Publication number
JPH011290A
JPH011290A JP62-157067A JP15706787A JPH011290A JP H011290 A JPH011290 A JP H011290A JP 15706787 A JP15706787 A JP 15706787A JP H011290 A JPH011290 A JP H011290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
light
cladding layer
emitted
fresnel zone
Prior art date
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Pending
Application number
JP62-157067A
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English (en)
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JPS641290A (en
Inventor
山下 光二
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Publication date
Application filed by 三菱電機株式会社 filed Critical 三菱電機株式会社
Priority to JP62-157067A priority Critical patent/JPH011290A/ja
Publication of JPS641290A publication Critical patent/JPS641290A/ja
Publication of JPH011290A publication Critical patent/JPH011290A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えば光通信に用いられて、光ファイバが
結合される半導体レーザ装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は、例えば1985年秋応用物理学会講演会予稿
集p213.3p−N−4に示された従来の面発光型半
導体レーザ(以下単に面発光レーザと略す)の構造を示
す断面図である。
この図において、1は活性層、2は上クラッド層、3は
下クラッド層、4はバッファ層、5は基板層、6は誘電
体多層膜で構成されるミラーで、上クラッド層2の上部
に形成されている。7は上側74h、8は窓として働く
キャップ層、9はミラーで、下クラッド層3の下部に形
成されている。
10は下側電極、11は電流遮断のための絶縁膜、12
は外部に出射されたレーザ光である。
次に動作について説明する。
活性層1.上、下部クラッド層2.3とから構成される
ダブルへテロ構造に順方向バイアスが加わるように上側
、下側各電極7.10に電圧を加えてゆくと、活性層1
より発生した光はミラー6とミラー9による反射を繰り
返し受けて発振に到リ、ミラー6の誘電体多層膜を通り
抜けて外部にレーザ光12として出射される。通常、発
光領域が10〜20μmφであるため、出射された光の
ファーフィールドパターン(遠視野像)は、単峰の場合
、数°以上の半値全角を有する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような従来の面発光レーザは、出射ビームを光フ
ァイバ等の外部光部品へ結合させる場合、結合効率を上
げるために集光用レンズが必要であるため、光学系全体
のコストが高価になるという問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、集光用レンズを用いないで出射ビームを結合効率
良く光ファイバ等の外部光部品と結合できる半導体レー
ザ装置を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る半導体レーザ装置は、レーザ光が出射さ
れるミラーの面上に遠視野上で光を集光するフレネルゾ
ーン構造を有する膜を設けたものである。
〔作用〕
この発明においては、レーザ光がフレネルゾーン構造を
有する膜により遠視野上で集光される。
〔実施例〕
第1図はこの発明の半導体レーザ装置の一実施例の構造
を示す断面図である。
この図において、第3図と同一符号は同一部分を示し、
13はフレネルゾーン膜で、ミラー6上に金属、誘電体
、有機物質のいずれかを用いて形成されている。
第2図はこの発明の半導体レーザ装置で用いるフレネル
ゾーンのパターンを示す図である。
この図において、第1図と同一符号は同一部分を示し、
rlは黒塗りした部分の中心から数えてm番目の円の半
径、d rmは黒塗りした部分の中心から数えてm番目
のゾーン幅である。
次に動作について説明する。
フレネルゾーンの黒塗りした部分は、レーザ光に対して
不透明になった遮光部分であり、中心から数えてm番目
の円の半径r、、、は、次式を用いて与えられる。
λはレーザ光の波長、fは焦点距離である。
この発明の半導体レーザ装置も従来のものと同様に、上
側、下側各電極に順方向の重圧を加えて空くと活性層1
より発生した光はミラー6とミラー9間での反射を繰り
返し受けて発振に到り、ミラー6の誘電体多層膜を通り
抜けてその端面より外部にレーザ光12として出射され
る。ここで出射されるレーザ光は従来のものから出射さ
れるような発散光ではなく、フレネルゾーンの回折リン
グによって効果的に遠視野上に集光されるため遠視野上
で最小ビーム径をもつようになる。
この最小ビーム径は次式で与えられる。
ωは最小ビーム径、dは発光領域の半径、fはフレネル
ゾーン膜13の焦点距離、λはレーザ光の波長、kは定
数である。
W、 点”& 雛tはフレネルゾーン膜13のパターン
により任意に変えられるため、最小ビームの遠m野上の
位置および最小ビーム径ωの値を任意に設定することが
できる。
このため、外部光学系、例えばコア径9μm程度のシン
グルモードファイバと結合する場合、第1式および第2
式を用いて所定の寸法に構成したフレネルゾーン膜13
を用いれば、レンズを用いなくとも非常に効率良くシン
グルモードファイバのコア層内にレーザ光を導入するこ
とができる。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、レーザ光が出射される
ミラーの面上に遠視野上で光を集光するフレネルゾーン
構造を有する膜を設けたので、遠視野上で集光されたレ
ーザ光を得られ、光ファイバ等との結合効率を上げるた
めに集光用レンズが不要となり、光学系全体のコストが
安価になるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の半導体レーザ装置の一実施例の構造
を示す断面図、第2図はフレネルゾーンのパターンを示
す図、第3図は従来の半導体レーザ装置の構造を示す断
面図である。 図において、1は活性層、2は上クラッド層、3は下ク
ラット層、4はバッファ層、5は基板層、6.9はミラ
ー、7は上側電極、8はキャップ層、10は下側電極、
11は絶縁膜、12はレーザ光、13はフレネルゾーン
膜である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄    (外2名)第 1 図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも下クラッド層、活性層および上クラッ
    ド層を有するとともに、前記下クラッド層の下面の一部
    および前記上クラッド層の上面の一部に光を共振するミ
    ラーを備え、前記ミラーの少なくとも一方よりレーザ光
    が出射される面発光型半導体レーザ装置において、レー
    ザ光が出射される前記ミラーの面上に遠視野上で光を集
    光するフレネルゾーン構造を有する膜を設けたことを特
    徴とする半導体レーザ装置。
  2. (2)フレネルゾーン構造は、遮光パターンが中心部を
    始点とするものであることを特徴とする特許請求の範囲
    第(1)項記載の半導体レーザ装置。
JP62-157067A 1987-06-23 半導体レ−ザ装置 Pending JPH011290A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-157067A JPH011290A (ja) 1987-06-23 半導体レ−ザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-157067A JPH011290A (ja) 1987-06-23 半導体レ−ザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS641290A JPS641290A (en) 1989-01-05
JPH011290A true JPH011290A (ja) 1989-01-05

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