JPH01124833A - 光スイッチ - Google Patents
光スイッチInfo
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- JPH01124833A JPH01124833A JP28341587A JP28341587A JPH01124833A JP H01124833 A JPH01124833 A JP H01124833A JP 28341587 A JP28341587 A JP 28341587A JP 28341587 A JP28341587 A JP 28341587A JP H01124833 A JPH01124833 A JP H01124833A
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光交換、光情報処理等の分野において、光信号
、特にファイバからの出射光YLED光の様に偏光状態
の一定でない光信号の光路の切換えを行なう半導体光ス
ィッチに関するものである。
、特にファイバからの出射光YLED光の様に偏光状態
の一定でない光信号の光路の切換えを行なう半導体光ス
ィッチに関するものである。
近年の光システムの高度化、高性能化に併い、小型の光
スィッチへの要求が高まっている。小型の光スィッチを
実現するための一つの構造として雑誌「アイ・イー−イ
ー・イー・ジャーナル・オプ・カンタム・エレクトロニ
クスJ (IEEE J。
スィッチへの要求が高まっている。小型の光スィッチを
実現するための一つの構造として雑誌「アイ・イー−イ
ー・イー・ジャーナル・オプ・カンタム・エレクトロニ
クスJ (IEEE J。
urnal of Quantum Electron
ics)第QE−14巻、1978年、513〜517
頁に報告されているような全反射型光スイッチが知られ
ている。これは2本の交叉した光導波路の交叉部の屈折
率を電気光学効果を利用して低下させ、全反射シζより
光の切換を、交叉した導波路間で行なうものである。
ics)第QE−14巻、1978年、513〜517
頁に報告されているような全反射型光スイッチが知られ
ている。これは2本の交叉した光導波路の交叉部の屈折
率を電気光学効果を利用して低下させ、全反射シζより
光の切換を、交叉した導波路間で行なうものである。
この全反射型光スイッチは原理的には小型化が可能であ
るが、前述の論文では電気光学効果により屈折率を変化
させることを考えているため得られる屈折率変化が小さ
い。そのため2本のyt、4波路の交叉角を大きくとる
ことができず、小型化、低クロトーク化が難しかった。
るが、前述の論文では電気光学効果により屈折率を変化
させることを考えているため得られる屈折率変化が小さ
い。そのため2本のyt、4波路の交叉角を大きくとる
ことができず、小型化、低クロトーク化が難しかった。
一方この問題を解決するため、電気通信学会論大詰(英
文)第E68巻、1985年、737〜739頁に掲載
された論文では一重量子井戸構造に電界を、印加した際
の吸収端近傍での屈折率変化を利用することが提案され
ている。
文)第E68巻、1985年、737〜739頁に掲載
された論文では一重量子井戸構造に電界を、印加した際
の吸収端近傍での屈折率変化を利用することが提案され
ている。
第2図は提案されている光スィッチの上面図を示すもの
である。2本の半導体材料による光導波路21a−,2
1bが交差角0で交わるように配置され、その交差部に
多量子井戸構造を持つ部分、22(図の斜線を施した部
分)が形成されている。この交差部の交差角の小さい方
の2等分1A−A’ に沿りて多重量子井戸構造の半分
には電極23を介して電界を印加する手段が形成されて
いる。この状態で光導波路21bの左側から入射した光
は通常は直進してそのまま出射する。しかし電極23に
より多重量子井戸構造の半分に電界を印加すると、その
部分の屈折率が低下し、全反射が生じ光導波路21aへ
光は出射される。電界による多重量子井戸構造の屈折率
変化は1%程度と見つもられるので交差角を10°以上
にとることが可能となシ非常に小型な光舶ヘツチが期待
できる。
である。2本の半導体材料による光導波路21a−,2
1bが交差角0で交わるように配置され、その交差部に
多量子井戸構造を持つ部分、22(図の斜線を施した部
分)が形成されている。この交差部の交差角の小さい方
の2等分1A−A’ に沿りて多重量子井戸構造の半分
には電極23を介して電界を印加する手段が形成されて
いる。この状態で光導波路21bの左側から入射した光
は通常は直進してそのまま出射する。しかし電極23に
より多重量子井戸構造の半分に電界を印加すると、その
部分の屈折率が低下し、全反射が生じ光導波路21aへ
光は出射される。電界による多重量子井戸構造の屈折率
変化は1%程度と見つもられるので交差角を10°以上
にとることが可能となシ非常に小型な光舶ヘツチが期待
できる。
このような多重量子井戸構造の電界による屈折率変化は
銃に詳しく説明するように吸収端あるいはエキシトンピ
ークのシフトに伴なうものである。
銃に詳しく説明するように吸収端あるいはエキシトンピ
ークのシフトに伴なうものである。
多重量子井戸構造は積層方向に対して平行な偏光(以下
TEと呼ぶ)と垂直な偏光(以下TMと呼ぶ)の光を入
射した場合、各々に関与するエキシトンのピーク波長が
異なるため、TEに対する屈折率変化tTMに対する屈
折率変化では、それらが得られる波長域が異なる。−例
としてG a A s /A(As多重量子井戸構造で
量子井戸層厚が10OAのウェハを用いた場合のその測
定結果を第3図に示す。この様に電界による屈折率減少
が得られる波長域はTMの方がTEに比べて約10nm
短波長側にあシ、多重量子井戸構造の屈折率減少には、
ある波長で注目した場合、大きな偏光依存性があること
がわかる。従って、前述の様な多重量子井戸構造を用い
た導波型の光スィッチでは良好なスイ保存ファイバや偏
光補償器が必要とカシ、システムにとっては非常に使い
にくいというのが問題と、なっている。
TEと呼ぶ)と垂直な偏光(以下TMと呼ぶ)の光を入
射した場合、各々に関与するエキシトンのピーク波長が
異なるため、TEに対する屈折率変化tTMに対する屈
折率変化では、それらが得られる波長域が異なる。−例
としてG a A s /A(As多重量子井戸構造で
量子井戸層厚が10OAのウェハを用いた場合のその測
定結果を第3図に示す。この様に電界による屈折率減少
が得られる波長域はTMの方がTEに比べて約10nm
短波長側にあシ、多重量子井戸構造の屈折率減少には、
ある波長で注目した場合、大きな偏光依存性があること
がわかる。従って、前述の様な多重量子井戸構造を用い
た導波型の光スィッチでは良好なスイ保存ファイバや偏
光補償器が必要とカシ、システムにとっては非常に使い
にくいというのが問題と、なっている。
本発明の目的はこのような問題を解決し、TEに対して
もTMに対しても良好なスイッチング特性を得ることが
でき、システム側からも使い易い、偏光に依存しない光
スィッチを提供することにある。
もTMに対しても良好なスイッチング特性を得ることが
でき、システム側からも使い易い、偏光に依存しない光
スィッチを提供することにある。
本発明による光スィッチは半導体基板上の互いに交差す
る光導波路を前記光導波路の交差部の中心線上に配され
た反射部分より構成される光の全反射を用いた交差型光
スイッチにおいて、前記反射部分が、異なる2つの量子
井戸層厚をもつ多重量子井戸構造から構成され、前記多
重量子井戸構造の積層面に対して垂直に電界を印加する
手段を”もつことを特徴とするものである。
る光導波路を前記光導波路の交差部の中心線上に配され
た反射部分より構成される光の全反射を用いた交差型光
スイッチにおいて、前記反射部分が、異なる2つの量子
井戸層厚をもつ多重量子井戸構造から構成され、前記多
重量子井戸構造の積層面に対して垂直に電界を印加する
手段を”もつことを特徴とするものである。
本発明は多’*it子井戸構造に電界を印加した際に生
ずる屈折率減少の得られる波長域が、多重量子井戸構造
の量子井戸層の層厚に依存することを利用したものであ
る。まずこの電界による屈折率変化について説明する。
ずる屈折率減少の得られる波長域が、多重量子井戸構造
の量子井戸層の層厚に依存することを利用したものであ
る。まずこの電界による屈折率変化について説明する。
多重量子井戸構造の吸収スペクトルにはその量子サイズ
効果により鋭いエキシトンの吸収ピークが観測される。
効果により鋭いエキシトンの吸収ピークが観測される。
この多重量子井戸構造に積層面に対して垂直外電界Eを
印加すると多重量子井戸構造のポテンシャル構造が傾き
量子準位が低エネルギー側へ移動するのに伴ってエキシ
トンの吸収ピークは長波長側へ移動する。それKよりエ
キシトンの吸収ピーク近傍の波長域では非常に大きな吸
収係数変化Δαが得られる。吸収係数と屈折率の間には
クラマース・り占−ニツヒの関係があるため、この吸収
係数変化Δαは屈折率の変化lnをもたらす。また多重
量子井戸構造は入射光にTEを入射した場合をTMを入
射した場合とではその吸収特性は異なる。これはTEに
関するエキシトンは電子と重い正孔(e−hh)間と電
子と軽い正孔(e−1h)間の2つ存在するが、TMで
はe−1h間のエキシトンのみが関与しているからであ
る。
印加すると多重量子井戸構造のポテンシャル構造が傾き
量子準位が低エネルギー側へ移動するのに伴ってエキシ
トンの吸収ピークは長波長側へ移動する。それKよりエ
キシトンの吸収ピーク近傍の波長域では非常に大きな吸
収係数変化Δαが得られる。吸収係数と屈折率の間には
クラマース・り占−ニツヒの関係があるため、この吸収
係数変化Δαは屈折率の変化lnをもたらす。また多重
量子井戸構造は入射光にTEを入射した場合をTMを入
射した場合とではその吸収特性は異なる。これはTEに
関するエキシトンは電子と重い正孔(e−hh)間と電
子と軽い正孔(e−1h)間の2つ存在するが、TMで
はe−1h間のエキシトンのみが関与しているからであ
る。
また吸収スペクトルやフォトカレント測定などKよって
現われるこれらのエキシトンピークはe −hh間のも
のはe−1h間のものに比べて約10nm長波長側にあ
る。多重量子井戸構造の電界による屈折率変化は主にこ
れらのエキシトンピークの電界による長波長側へのシフ
トによって生じるため、TEに対する屈折率変化とTM
に対する屈折率変化とTMK対する屈折率変化では轟然
それらが得られる波長域は異なる。先にも述べたがGa
As/MA s多重量子井戸構造の場合でのその測定結
果が第3図に示されている。
現われるこれらのエキシトンピークはe −hh間のも
のはe−1h間のものに比べて約10nm長波長側にあ
る。多重量子井戸構造の電界による屈折率変化は主にこ
れらのエキシトンピークの電界による長波長側へのシフ
トによって生じるため、TEに対する屈折率変化とTM
に対する屈折率変化とTMK対する屈折率変化では轟然
それらが得られる波長域は異なる。先にも述べたがGa
As/MA s多重量子井戸構造の場合でのその測定結
果が第3図に示されている。
また多重量子井戸構造の量子準位又はバンドギャップエ
ネルギーは多重量子井戸構造を構成する量子井戸層の厚
さ(ウェル厚)L2と障壁の高さによって決定され、L
2を厚くするとバンドギャップエネルギーは低くなりそ
の結果エキシトンビーク波長はより長波長側に存在する
様になる。従ってウェル厚を変えるととくより、電界印
加によってTEKおける屈折率減少が得られる波長域と
TMにおける屈折率減少が得られる波長域とを一致させ
ることが可能である。
ネルギーは多重量子井戸構造を構成する量子井戸層の厚
さ(ウェル厚)L2と障壁の高さによって決定され、L
2を厚くするとバンドギャップエネルギーは低くなりそ
の結果エキシトンビーク波長はより長波長側に存在する
様になる。従ってウェル厚を変えるととくより、電界印
加によってTEKおける屈折率減少が得られる波長域と
TMにおける屈折率減少が得られる波長域とを一致させ
ることが可能である。
本発明はこれを利用し、交差型スイッチの反射部分に2
種類のウェル厚の量子井戸層を持つ多重量子井戸構造を
用いることによりどんな偏光に対しても電界による屈折
率減少が得られスイッチング動作が可能の光スィッチで
ある。
種類のウェル厚の量子井戸層を持つ多重量子井戸構造を
用いることによりどんな偏光に対しても電界による屈折
率減少が得られスイッチング動作が可能の光スィッチで
ある。
次に本発明の素子の基本的な動作について簡単に説明す
る。交差型光導波路のひとつの入力端からある一定の波
長のTE、TMの両方の成分をもった入射光が交差部中
心の反射部(以下MQW反射部と呼ぶ)にある角度で入
射されたとする。このMQW反射部は第1及び第2の各
々ウェル厚の異なる量子井戸層を積層した多重量子井戸
構造で構成され、第1の量子井戸層では入射光波長のT
E酸成分対して、第2の量子井戸層では第1の量子井戸
層よりもウェル厚を厚<LTM成分に対して電界による
屈折率減少が得られるフェル厚に設定しておく。またM
QW反射部での屈折率減少がない時には入射光がMQW
反射部をそのtま通過する様KMQW反射部の多重量子
井戸構造の屈折率及び光導波路の屈折率を設定しておく
。また光導波路とMQW反射部とは多重量子井戸構造の
屈折率減少が生じた時に入射光が全反射を起こす角度に
設定しておく。MQW反射部に電界が印加されてない時
には多重量子井戸構造の屈折率変化はなく入射光は、T
E、TM酸成分もそのまま通過する。
る。交差型光導波路のひとつの入力端からある一定の波
長のTE、TMの両方の成分をもった入射光が交差部中
心の反射部(以下MQW反射部と呼ぶ)にある角度で入
射されたとする。このMQW反射部は第1及び第2の各
々ウェル厚の異なる量子井戸層を積層した多重量子井戸
構造で構成され、第1の量子井戸層では入射光波長のT
E酸成分対して、第2の量子井戸層では第1の量子井戸
層よりもウェル厚を厚<LTM成分に対して電界による
屈折率減少が得られるフェル厚に設定しておく。またM
QW反射部での屈折率減少がない時には入射光がMQW
反射部をそのtま通過する様KMQW反射部の多重量子
井戸構造の屈折率及び光導波路の屈折率を設定しておく
。また光導波路とMQW反射部とは多重量子井戸構造の
屈折率減少が生じた時に入射光が全反射を起こす角度に
設定しておく。MQW反射部に電界が印加されてない時
には多重量子井戸構造の屈折率変化はなく入射光は、T
E、TM酸成分もそのまま通過する。
MQW反射部に電界が印加され5と上述した様に入射光
のTE酸成分第1の量子井戸層で屈折率減少を感じ、ま
たTM酸成分第2の量子井戸層で屈折率減少を感じる。
のTE酸成分第1の量子井戸層で屈折率減少を感じ、ま
たTM酸成分第2の量子井戸層で屈折率減少を感じる。
第1.第2の量子井戸層がMQW反射部に対してそれぞ
れ占める割合は、量子井戸層が1種類の場合に比べ半分
程度であシ、従って得られる屈折率減少もTE、TM単
独で考えると半分程度に小さくなるが、一般に得られて
いる多重量子井戸構造の屈折率減少は1%と大きいため
、全反射条件に対してはほとんど影響されず、TE酸成
分TM酸成分もMQW反射部で全反射される。この様に
MQW反射部をウェル厚を変えた2種類の量子井戸層で
構成された多重量子井戸構造とすることKよl”Elc
対してもスイッチングが可能な光の全反射を用いた交差
型の光スィッチが実現できる。
れ占める割合は、量子井戸層が1種類の場合に比べ半分
程度であシ、従って得られる屈折率減少もTE、TM単
独で考えると半分程度に小さくなるが、一般に得られて
いる多重量子井戸構造の屈折率減少は1%と大きいため
、全反射条件に対してはほとんど影響されず、TE酸成
分TM酸成分もMQW反射部で全反射される。この様に
MQW反射部をウェル厚を変えた2種類の量子井戸層で
構成された多重量子井戸構造とすることKよl”Elc
対してもスイッチングが可能な光の全反射を用いた交差
型の光スィッチが実現できる。
また、多重量子井戸構造ではバンドギャップは多重量子
井戸構造を構成する量子井戸層、障壁層の組成及び厚さ
、平均的な屈折率は量子井戸層、障壁層の組成及び厚み
の比により決まるためこれらはある程度独立に制御でき
る。従ってMQW反射部とその周囲では組成が異なりて
いても実効的に屈折率差を十分に小さくする設計が可能
である。
井戸構造を構成する量子井戸層、障壁層の組成及び厚さ
、平均的な屈折率は量子井戸層、障壁層の組成及び厚み
の比により決まるためこれらはある程度独立に制御でき
る。従ってMQW反射部とその周囲では組成が異なりて
いても実効的に屈折率差を十分に小さくする設計が可能
である。
第1図は本発明による光スィッチの一実施例を示す図で
あシ、(a)はその斜視図であシ(b)はMQW反射部
の層構造を説明するための図である。ここではGaAs
/AtGaAs系材料を用いた場合について示した。ま
ず本実施例の製作について説明する。
あシ、(a)はその斜視図であシ(b)はMQW反射部
の層構造を説明するための図である。ここではGaAs
/AtGaAs系材料を用いた場合について示した。ま
ず本実施例の製作について説明する。
n”−GaAs基板1上にn” AlGaAs (AE
のモル比Z=0.4)クラッド層2を1.0 ttm
%i −GaAs基板1上 s多重量子井戸構造3を0
.7 am 、 p”−AjGaAs(Mのモル比−?
=0.4)クラッド層4を0.5 μmMBE法により
連続成長する。この時1−GaAs/AEAs多重量子
井戸構造3は第1図伽)に示す様に第1のGaAs量子
井戸層(ウェ/L/厚Lzt=9OA)11゜AIA
s障壁r@(バリア厚LB=10OA)12.第2のG
aAs i−子井戸層(ウェル厚Lzz=11 OA)
13 jtAs障壁層(バリア厚LB=10OA)1
2の4層を繰シ返し積層した構造とする。次にこのウェ
ノ〜に幅0.5μmでストライプ状のMQW反射部を形
成するためにそのまわシを反応性イオンビームエツチン
グ(RIBta)によl)n”−GaAs基板1に達す
る迄垂直にエツチングする。この様にしてまず2種類の
ウェル厚の童子井戸で構成されたMQW反射部を形成す
る。この後MOVPE法(あるいはMBE法、LPE等
の方法でも良い)KよりこのMQW反射部をi −Ai
GaAs (z=0.4 )クラッド層5、i −A!
GaAs(x=0.3)ガイド層6、i −AtGa
A s (z=0.4 )クラッド層7によ#)埋め込
む。この際MQW反射部の上部にはSingの保護膜を
つけ成長が進まない様にしておく。またMOVPEによ
り埋め込み成長した各々の層厚は1−Al!GaAsク
ラッド層5を1、 Ottm 、 1−AffiGa
Asガイド層6を0.7μm、1−AiGaAsグラッ
ド層7を0.5 /AmとしMBEにより成長した各層
厚とほぼ等・しくした。次KMQW反射部が中心線とな
る様に交差型光導波路10を反応性イオンエツチングに
より形成する。エツチングの深さは1−AiGaAsガ
イドIVJ6に達する程度とし装荷型の光導波路パター
ンを形成する。この時交差型光導波路10の交差角は1
0°とする。最後にMQW反射部に多重量子井戸構造の
積層方向に対して垂直に電界を印加させるためのP[極
8とn側電極9を蒸着する。このMQW反射部中の2つ
の量子井戸層11,13のエキシトン峡収ピーク波長は
それぞれ840nm、850nmであるので入射光とし
てこの程度の波長を考えると電界が印加されてない時の
i−多重量子井戸構造3及び1−AtGaAsガイド層
7の屈折率は3.43 、 n ”−AIGaAsクラ
ッド層2 * I) +−AiGaAsクラッド層4.
1−AIGaAsクラッド層5,7の屈折率は3.38
であシ、導波路構造としては多重量子井戸構造部分と、 とその他の部分ではほぼ同等どりる様に設定した。
のモル比Z=0.4)クラッド層2を1.0 ttm
%i −GaAs基板1上 s多重量子井戸構造3を0
.7 am 、 p”−AjGaAs(Mのモル比−?
=0.4)クラッド層4を0.5 μmMBE法により
連続成長する。この時1−GaAs/AEAs多重量子
井戸構造3は第1図伽)に示す様に第1のGaAs量子
井戸層(ウェ/L/厚Lzt=9OA)11゜AIA
s障壁r@(バリア厚LB=10OA)12.第2のG
aAs i−子井戸層(ウェル厚Lzz=11 OA)
13 jtAs障壁層(バリア厚LB=10OA)1
2の4層を繰シ返し積層した構造とする。次にこのウェ
ノ〜に幅0.5μmでストライプ状のMQW反射部を形
成するためにそのまわシを反応性イオンビームエツチン
グ(RIBta)によl)n”−GaAs基板1に達す
る迄垂直にエツチングする。この様にしてまず2種類の
ウェル厚の童子井戸で構成されたMQW反射部を形成す
る。この後MOVPE法(あるいはMBE法、LPE等
の方法でも良い)KよりこのMQW反射部をi −Ai
GaAs (z=0.4 )クラッド層5、i −A!
GaAs(x=0.3)ガイド層6、i −AtGa
A s (z=0.4 )クラッド層7によ#)埋め込
む。この際MQW反射部の上部にはSingの保護膜を
つけ成長が進まない様にしておく。またMOVPEによ
り埋め込み成長した各々の層厚は1−Al!GaAsク
ラッド層5を1、 Ottm 、 1−AffiGa
Asガイド層6を0.7μm、1−AiGaAsグラッ
ド層7を0.5 /AmとしMBEにより成長した各層
厚とほぼ等・しくした。次KMQW反射部が中心線とな
る様に交差型光導波路10を反応性イオンエツチングに
より形成する。エツチングの深さは1−AiGaAsガ
イドIVJ6に達する程度とし装荷型の光導波路パター
ンを形成する。この時交差型光導波路10の交差角は1
0°とする。最後にMQW反射部に多重量子井戸構造の
積層方向に対して垂直に電界を印加させるためのP[極
8とn側電極9を蒸着する。このMQW反射部中の2つ
の量子井戸層11,13のエキシトン峡収ピーク波長は
それぞれ840nm、850nmであるので入射光とし
てこの程度の波長を考えると電界が印加されてない時の
i−多重量子井戸構造3及び1−AtGaAsガイド層
7の屈折率は3.43 、 n ”−AIGaAsクラ
ッド層2 * I) +−AiGaAsクラッド層4.
1−AIGaAsクラッド層5,7の屈折率は3.38
であシ、導波路構造としては多重量子井戸構造部分と、 とその他の部分ではほぼ同等どりる様に設定した。
また埋込み部分の1−AiGaAsガイド層6のバンド
ギャップ波長は700nmでろシ入射光に対しては十分
吸収損失の小さな値となっている。
ギャップ波長は700nmでろシ入射光に対しては十分
吸収損失の小さな値となっている。
次に本実施例によるスイッチの動作について第1図、第
4図を用いて説明する。第4図のウェル界による屈折率
変化Δn/nを横軸を波長としてそれぞれTE、TMに
ついて示したものである。ウェル厚90AのMQWのエ
キシトンビーク波長はウェル厚110Aの多重量子井戸
構造のエキシトンビーク波長に比べ約10nm短波長側
にある。従りて電界印加による屈折率変化が得られる波
長域もTE、TMそれぞれのウェル厚90Aの多重量子
井戸構造の方が短波長側にある。
4図を用いて説明する。第4図のウェル界による屈折率
変化Δn/nを横軸を波長としてそれぞれTE、TMに
ついて示したものである。ウェル厚90AのMQWのエ
キシトンビーク波長はウェル厚110Aの多重量子井戸
構造のエキシトンビーク波長に比べ約10nm短波長側
にある。従りて電界印加による屈折率変化が得られる波
長域もTE、TMそれぞれのウェル厚90Aの多重量子
井戸構造の方が短波長側にある。
ここで波長845nmOTE、TM両方の成分をもった
光が第1図(a)の交差導波路10の手前右側から入射
された場合を考える。MQW反射部に電界が印加されて
いない時は先にも述べたが、光導波路部分とMQW反射
部との屈折率が整合しているために入射光はMQW反射
部をTE、TM酸成分も直進し、そのまま出射される。
光が第1図(a)の交差導波路10の手前右側から入射
された場合を考える。MQW反射部に電界が印加されて
いない時は先にも述べたが、光導波路部分とMQW反射
部との屈折率が整合しているために入射光はMQW反射
部をTE、TM酸成分も直進し、そのまま出射される。
MQW反射部に電界が印加されると第4図に示した様に
波長845nmの光においてはウェル厚90Aの第1の
量子井戸層ではTE酸成分、ウェル厚110Aの第2の
量子井戸層ではTM酸成分屈折率の減少を得ることにな
る。単一の厚さの多重量子井戸構造ではその屈折率減少
はΔn/n〜1%と非常に大きい。本発明の2種類のウ
ェル厚をもつ多重量子井戸構造では各量子井戸層に効い
てくる屈折率減少はその量子井戸層の割合が少ない分だ
け全体のMQW反射部としてみると小さぐなると考えら
れるが、それでもTE、TMに対してそれぞれΔn/n
〜0.5%程度有シ、全反射程度有溝たすKは十分な屈
折率減少である。従ってこのMQW反射部に入射した光
はTE酸成分TM酸成分両方ともここで全反射され、反
射側の光導波路から出射され、TE、TMに依らないス
イッチングが可能となる。
波長845nmの光においてはウェル厚90Aの第1の
量子井戸層ではTE酸成分、ウェル厚110Aの第2の
量子井戸層ではTM酸成分屈折率の減少を得ることにな
る。単一の厚さの多重量子井戸構造ではその屈折率減少
はΔn/n〜1%と非常に大きい。本発明の2種類のウ
ェル厚をもつ多重量子井戸構造では各量子井戸層に効い
てくる屈折率減少はその量子井戸層の割合が少ない分だ
け全体のMQW反射部としてみると小さぐなると考えら
れるが、それでもTE、TMに対してそれぞれΔn/n
〜0.5%程度有シ、全反射程度有溝たすKは十分な屈
折率減少である。従ってこのMQW反射部に入射した光
はTE酸成分TM酸成分両方ともここで全反射され、反
射側の光導波路から出射され、TE、TMに依らないス
イッチングが可能となる。
この様KMQW反射部を28i類のウェル厚を変えた多
重量子井戸構造で構成することVCより偏光に依存しな
い全反射を用いた交差型スイッチが実現できる。またこ
こでは2種類の量子井戸層のつ波長において、一方がT
Eに対して他方がTMK対して1.全反射が得られる屈
折率減少を生じるウェル厚であればこれに限るものでは
ない。
重量子井戸構造で構成することVCより偏光に依存しな
い全反射を用いた交差型スイッチが実現できる。またこ
こでは2種類の量子井戸層のつ波長において、一方がT
Eに対して他方がTMK対して1.全反射が得られる屈
折率減少を生じるウェル厚であればこれに限るものでは
ない。
実施例(第1図(b))ではウェル厚の異なる量子井戸
層は障壁層を挾んで交互に積層したが、必ずしも交互に
積層する必要はない。ランダムに配置してもよい。また
光を入射する光導波路の位置も任意であり、2X2のス
イッチ動作も同様に可能であることは言うまでもない。
層は障壁層を挾んで交互に積層したが、必ずしも交互に
積層する必要はない。ランダムに配置してもよい。また
光を入射する光導波路の位置も任意であり、2X2のス
イッチ動作も同様に可能であることは言うまでもない。
本実施例では材料としてGaAs7MGaAs系材料に
ついて説明したが、I nGaAsP/I nP 、
I nGaAs/InA1.As系耽どの材料系にも適
用可能である。また光導波路としては装荷型を用いたが
、埋込み等の他の30次元先導波路も使用可能である。
ついて説明したが、I nGaAsP/I nP 、
I nGaAs/InA1.As系耽どの材料系にも適
用可能である。また光導波路としては装荷型を用いたが
、埋込み等の他の30次元先導波路も使用可能である。
以上詳細に説明した様に1本発明によれば偏光依存性の
ない交差型光スイッチが実現できる。更にこのスイッチ
は多重量子井戸構造電界効果による屈折率変化を利用し
ているために小型でまた集積化にも適し、将来の光交換
システム、光情報処理等の分野での利用価値が非常に大
きい。
ない交差型光スイッチが実現できる。更にこのスイッチ
は多重量子井戸構造電界効果による屈折率変化を利用し
ているために小型でまた集積化にも適し、将来の光交換
システム、光情報処理等の分野での利用価値が非常に大
きい。
第1図は本発明による光スィッチの一実施例の構造を示
す図で(a)はその斜視図、(b)は多重量子井戸構造
の各層、及び各々の層の関係を説明するための図である
。第2図は従来の多重量子井戸構造の電界による屈折率
変化を用いた光スィッチを説明するための図、第3図は
従来のスイッチのMQW反射部での電界による屈折率変
化を説明するための図、第4図は本発明の光スィッチの
動作を説明するために、ウェル厚の異なる多重量子井戸
構造の電界による屈折率変化のそれぞれの偏光特性を示
した図である。 図に於いて、1−−−−−−n GaAs基板、’ 2
、4 、5゜7・・・・・・クラッド層、3,22・
・・・・・多重量子井戸構造、6・・・・・・ガイド層
、8,9,23・・・・・・電極、10.21a。 井戸層、12・・・・・・AlAs障壁層、13・・・
・・・第2のG a A s量子井戸層である。 代理人 弁理士 内 原 音 第1図 ”、bう” 第2図 21b 第3図 5皮長入 (nm) 第4図 830 f340 845 F350
.8605皮4駐 入 (ハm)
す図で(a)はその斜視図、(b)は多重量子井戸構造
の各層、及び各々の層の関係を説明するための図である
。第2図は従来の多重量子井戸構造の電界による屈折率
変化を用いた光スィッチを説明するための図、第3図は
従来のスイッチのMQW反射部での電界による屈折率変
化を説明するための図、第4図は本発明の光スィッチの
動作を説明するために、ウェル厚の異なる多重量子井戸
構造の電界による屈折率変化のそれぞれの偏光特性を示
した図である。 図に於いて、1−−−−−−n GaAs基板、’ 2
、4 、5゜7・・・・・・クラッド層、3,22・
・・・・・多重量子井戸構造、6・・・・・・ガイド層
、8,9,23・・・・・・電極、10.21a。 井戸層、12・・・・・・AlAs障壁層、13・・・
・・・第2のG a A s量子井戸層である。 代理人 弁理士 内 原 音 第1図 ”、bう” 第2図 21b 第3図 5皮長入 (nm) 第4図 830 f340 845 F350
.8605皮4駐 入 (ハm)
Claims (1)
- 半導体基板上の互いに交差する光導波路と、前記光導波
路の交差部の中心線上に配された反射部分より構成され
る光の全反射を用いた交差型光スイッチにおいて、前記
反射部分が層厚の異なる2つの量子井戸層をもつ多重量
子井戸構造から構成され、前記多重量子井戸構造の積層
面に対して垂直に電界を印加する手段をもつことを特徴
とする光スイッチ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341587A JPH065349B2 (ja) | 1987-11-09 | 1987-11-09 | 光スイッチ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341587A JPH065349B2 (ja) | 1987-11-09 | 1987-11-09 | 光スイッチ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01124833A true JPH01124833A (ja) | 1989-05-17 |
JPH065349B2 JPH065349B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=17665233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28341587A Expired - Lifetime JPH065349B2 (ja) | 1987-11-09 | 1987-11-09 | 光スイッチ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH065349B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011150340A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 光変調器 |
-
1987
- 1987-11-09 JP JP28341587A patent/JPH065349B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011150340A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 光変調器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH065349B2 (ja) | 1994-01-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |