JPH02226232A - 方向性結合器型光スイッチ - Google Patents

方向性結合器型光スイッチ

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JPH02226232A
JPH02226232A JP1048861A JP4886189A JPH02226232A JP H02226232 A JPH02226232 A JP H02226232A JP 1048861 A JP1048861 A JP 1048861A JP 4886189 A JP4886189 A JP 4886189A JP H02226232 A JPH02226232 A JP H02226232A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、将来の光通信システムや光情報処理システム
において重要なエレメントとなる半導体光スィッチ、特
に入射光の偏光状態に依存しない方向性結合器型の光ス
ィッチに関する。
(従来の技術) 光スィッチは将来の高速光通信システム、光情報処理シ
ステムのキーエレメントの1つと考えられ、各所で研究
開発が活発化してきている。光スィッチとしては、Li
Nb0a等の誘電体を用いたものと、GaAsやInP
等の化合物半導体を用いたものとが考えられているが、
光アンプ等の他の光素子やFET等の電子回路との集積
化が可能で、小型化、多チャンネル化も容易な半導体光
スィッチへの期待が近年高まりつつある。このような半
導体光スィッチとしては、上記適用分野から考えて、高
速動作、低消費電力動作、低電圧動作、低損失動作、高
集積の容易性等が要求される。
半導体光スィッチの方式としては、これまでに電流注入
に伴うバンドフィリング効果もしくはフリーキャリアプ
ラズマ効果により屈折率変化を用いた全反射型スイッチ
、電界印加に伴う電気光学効果による屈折率変化を利用
した方向性結合器型スイッチ、多重量子井戸に電界を印
加したとき、励起子吸収ピークの移動に伴う屈折率変化
を用いた全反射型スイッチ等が試作検討されているが、
電流注入全反射型は動作速度が遅くまた消費電力が大き
いという難点があり、また多重量子井戸構造全反射型ス
イッチは本質的に低損失化が困難であるという問題点が
ある。
これに対して電気光学効果を用いた方向性結合器型スイ
ッチは、全反射型に比べて素子長は長くなるものの、高
速、低消費電力動作が可能であり、また低損失であると
いう利点も有している。
低損失性に関しては、近年E、 Kaponらによって
波長1.52pmにおいて0.15dB/cmという低
損失光導波路がGaAs/AlGaAs系で実現できる
ことがアプライド・フィジックス・レターズ(Appl
ied Physics Letters)誌第50巻
第23号(1987年)のP1628〜1630におい
て報告されている。GaAsおよびAlGaAsのバン
ドギャップ波長は1.3pm帯および1.5pm帯に比
べて十分に短波長側にあるため、上述のような低損失光
導波路を実現することができる。しかも、電気光学効果
には波長依存性が少ないので、動作波長がバンドギャッ
プから離れていても屈折率変化はバンドギャップ近傍の
場合とそれ程変わらない。したがって、GaAs/Al
GaAs系光導波路は長波長帯方向性結合器型スイッチ
材料として非常に有望である。ところで、従来方向性結
合器型スイッチは素子長が数mmと長いという問題点が
あったが、近年のMBE(Molecular Bea
m Epitaxy)等の結晶成長技術やRIBE(R
eactive Ion Beam Etching)
等の微細加工技術の革新によりこの問題点も解決しつつ
ある。HoTakeuchiらは、第4図にその断面を
示す構造のGaAs/AlGaAs方向性結合器型光ス
イッチにおいて、素子長が980pmと1mmを切る素
子の実現がMBEとRIBEを用いて可能であることを
エレクトロニクス・レターズ(Electronics
 Letters)誌第22巻第23号(1986年)
のP1241〜1243において報告している。
(発明が解決しようとする課題) 前述のようにGaAs/AlGaAs方向性結合器型光
スイッチは長波長帯の光スィッチとして非常に有望であ
るが、入射光の偏光状態によりスイッチング特性が変化
するという問題点を有している。これは、これまで電気
光学効果を用いた半導体方向性結合器型光スイッチとし
ては(100)面方位基板上もしくはそれに等価な面方
位の結晶について検討がなされているが、GaAsやI
nPの結晶構造は閃亜鉛鉱型であるので光学的に等方で
あり、(100)面方位もしくはそれに等価な方位の結
晶を用いた場合、電気光学効果が生ずるのは印加電界の
方向に垂直な方向に電界成分を有する偏光状態の光に対
してのみであるからである。すなわち、第4図にその断
面を示す構造のGaAs/AlGaAs方向性結合器型
光スイッチにおいては、層に平行な方向のみに電界成分
を有する偏光状態の導波光をTEモード、主として層に
垂直な方向に電界成分を有する偏光状態の導波光をTM
モードと定義すると、TEモードに対しては電気光学効
果が生ずるが、TMモードに対しては電気光学効果は全
く生じない。したがって、第4図の構造の方向性結合器
型光スイッチにおいては、TEモードの入射光に対して
はスイッチングは生ずるが、TMモードの入射光に対し
てはスイッチングは生じない。そればかりか、偏光状態
が時間的に変化するような入射光に対しては一定の電圧
を印加しておいても、ある一方の導波路からの出射光パ
ワーは偏光状態の変化に応じて変化してしまい、所望の
スイッチング特性が全く得られないという問題点がある
本発明の目的はTE、 TMの両モードに刻して電気光
学効果が生じる方向性結合器型光スイッチを提供するこ
とにある。
(課題を解決するための手段) 上述のような問題点を解決するために、本発明において
は、(111)面方位の半導体基板上に第1の半導体ク
ラッド層、半導体導波層、第2の半導体クラッド層が少
なくとも積層されており、2本の近接した3次元光導波
路を形成する手段と、前記2本の3次元半導体導波路の
各々へ電界を独立に印加する手段とを具備していること
を特徴とする方向性結合器型光スイッチであり、前記2
本の近接した3次元光導波路において、1本の光導波路
から他方の光導波路へと導波光パワーが移行するのに必
要な長さをTEモード、TMモードに対して各々”TE
I ”TMとするとき、方向性結合器の素子長りが、”
が、LTE≦L≦LTMであることを特徴とする方向性
結合器型光スイッチの構造を採用した。
(作用) 本発明においては、(111)面方位の結晶を基板に用
いるので、電気光学効果の大きさがTEモードとTMモ
ードとでは異なるものの、両モードに対して電気光学効
果が存在し、どのような偏光状態の入射光に対してもス
イッチングを生じさせることがテキる。また、TEモー
ドとTMモードとで方向性結合器の完全結合長(一方の
光導波路から他方の先導波路へと完全に導波光パワーが
移行する長さ)が異なるが、その差がわずかであること
に着目し、2つのモードで完全結合長が多少異なっても
クロストークを小さくできるように、本発明においては
方向性結合器の素子長をLTo≦L≦LTMとしている
(実施例) 以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明によるGaAs/AlGaAs方向性結
合器型光スイッチの実施例を示す斜視図である。′図に
おいては、(111)面n −GaAs基板101上に
形成されたリブ型のGaAs/AlGaAs方向性結合
器型光スイッチが示されている。
まず、第1図に示したGaAs/AlGaAs方向性結
合器型光スイッチの製造方法について簡単に説明する。
(111)面方位のn −GaAs基板101上にn 
−AlGaAs (AIの組成比x = 0.5)クラ
ッド層102を1.5pm程度、i −GaAs導波層
103を0.2pm、 1−AIGaAs(Alの組成
比x=0.5)クラッド層104を0.4pm、p−A
IGaAs(Alの組成比x=0.5)クラッド層10
8を0.6pm、 p −GaAsキャップ層105を
0.2pm、 MBE(Molecular Beam
 Epitaxy)法を用いて順次積層する。その後、
p側電極材料であるTi/Au膜を基板全面に蒸着し、
通常のフォトリソグラフィ法によりこのTi/Au膜を
2本のストライプ形状に加工する。
さらにこのストライプ形状に加工されたTi/Au膜お
よびTi/Au膜上に残されたフォトレジストをマスク
としてRIBE (Reactive Ion Bea
m Etching)法によりストライプ部以外の部分
をp−AlGaAsクラッド層108とi −AlGa
Asクラッド層104の界面に達するまでエツチングに
より除去し、第1図に示すような2本の近接したリブ光
導波路を形成するみその後(111)面n−GaAs基
板101の研磨、n側電極材料であるAuGeNi/A
uNiの蒸着、および電極アロイを行った後、素子を2
mmの長さにへき開して素子製作を終了する。ここで、
リブ光導波路の幅は各々2.511m、導波路間隔は2
.85pmである。
次に第1図に示したGaAs/AlGaAs方向性し結
合器の動作原理について説明する。第1図に示した構造
の方向性結合器型光スイッチにおいては、リブ直下のi
 −GaAs導波層103へ光は3次元的に閉じ込めら
れ、ストライプ状のリブ部に沿って光は伝搬するが、2
本の光導波路の間隔が小さいため、2本の導波路間に結
合が生じる。したがって一方の光導波路へ入射された光
はある一定の長さ伝搬したところで他方の光導波路へと
完全に結合する。この長さは通常完全結合長と呼ばれる
。完全結合長は導液層厚、組成、導波路幅、導波路間隔
などの導波路パラメータに依存するとともに入射光の偏
光状態にも依存する。これは導波路の形状が層に水平な
方向と層に垂直な方向とで異なっているためである。こ
の形状効果は(111)基板を用いる場合のみならず、
(100)基板を用いても当然生じてくる。第1図に示
した方向性結合器型光スイッチの完全結合長の導波路間
隔依存性を第2図に示す。TMモードの完全結合長の方
がTEモードの完全結合長より長く、導波路間隔か広が
るにつれて両者の差は大きくなる傾向にある。しかしな
がら導波路間隔を2.85pmとすると、TEモードに
対する完全結合長LTEは1.72mm、 TMモード
に対する完全結合長”TMは2.46mmであり、両者
とも素子長2mmに近い値とすることができる。したが
って電極間に電圧を印加しないときは、両方のモードの
入射光とも素子出射の際には他方の光導波路へほぼ完全
に結合しており、いわゆる■(クロス)状態が実現され
る。
その際のクロストークCTは次式により計算され、CT
=10X1og(P1/(P、+P2))ここで、 P、=cos (nL/2Lo) P2=sin (nL/2Lo) ただし、 である。
本実施例においては、素子長りをLT8≦L≦LT註し
ているので、TE、TMいずれの場合においてもクロス
ト〜りを一10dB以下とすることができる。以上は電
極間に電圧を印加しない場合であるが、2本のp側電極
のうちの一方とn側電極107間に逆バイアス電圧を印
加すると電気光学効果によす1−GaAs導波層103
とi −AlGaAsクラッド層104の屈折率が変化
する。GaAsは閃亜鉛鉱型結晶であるため(100)
結晶方位を用いるとTEモードに対しては電気光学効果
が生ずるのに対して、TMモードに対しては全く電気光
学効果が生じない。したがって(100)結晶方位を用
いた場合においては、TEモードにおいてはある適当な
逆バイアス電圧印加により2本の光導波路間の透過光波
の位相差がψ和となり、一方の導波路から入射された光
が他方の導波路へは結合しないいわゆる()バー月犬態
が実現されるのに対して、TMモードにおいてはいくら
電圧を印加しても2本の光導波路間の位相差は生じず■
状態のままで■状態は実現できない。したがって(10
0)結晶方位を用いるとスイッチングに偏光依存性が生
じる。
これに対して本発明において用いている(111)結晶
方位においてはTE、 TM両モードに対して電気光学
効果が生ずる。ただし屈折率変化Δnの太きさはTMモ
ードに対してはΔrLrM=(1/’I?j)n8rr
 r、axE、とTMモードに対する屈折率変化の方が
TEモードに対する屈折率変化よりも2倍太きい。ここ
で”effは導波路の実効屈折率、r4□はGaAsの
電気光学定数でr4、=1.5XIOmA7程度、Eは
電界強度である。このように(111)結晶方位におい
てはモード間で電気光学効果の大きさが異なるが、屈折
率変化の小さい方のTEモードにおいてO状態を実現す
るための逆バイアス電圧で素子を駆動すればTMモード
に対してもO状態が実現できることを以下に示す。第3
図は第1図に示した方向性結合器型光スイッチにおいて
p側電極106b側の先導波路から入射光120を入力
したときのスイッチング特性を示す図である。
図において実線はTMモードに対するスイッチング特性
を、破線はTEモードに対するスイッチング特性を示し
ている。第3図より逆バイアス電圧がOvのときには、
前述のように導波光は入射側の光導波路から他方の光導
波路へほぼ完全に移行し■状態が実現されていることが
判る。逆バイアス電圧を増加して行くと、TMモードに
対する電気光学効果の方がTEモードに対する電気光学
効果よりも太きいため、TMモードの方がTEモードよ
りも低電圧で○状態に達する。しかしながら、さらに電
圧を増加してもTMモードは○状態にほぼとどまってい
るので、TEモードが■状態に達する電圧においても、
TMモードはやはりほぼ○状態である。したがって、■
状態を実現する逆バイアス電圧を15Vから24Vの間
のある特定の電圧、例えば21Vと規定しておけば、T
E、 TM両モードに対してクロストーク−10dB以
下の○状態を実現できる。よって本実施例においては(
111)方位の結晶を用いることにより入射光の偏光状
態に依存ぜずOvで■状態、15から24Vの間のある
電圧、たとえば21Vで■状態の方向性結合器型光スイ
ッチを実現できる。
(発明の効果) 以上述べたように、本発明によれば、入射光の偏光状態
に依存しない半導体方向性結合器型光スイッチを実現す
ることができ、単一モードファイバ伝搬光のように偏光
状態が時々刻々変化するような入射光に対しても所望の
スイッチング特性を得ることができるので光通信、光情
報処理の分野において寄与するところ大である。
なお、本発明は上記の実施例に限定されるものではない
。実施例としては、GaAs系方向性結合器型光スイッ
チを取り上げたが、これに限るものではなく、InP系
などの他の半導体材料を用いた方向性結合器型光スイッ
チに対しても本発明は同様に適用可能である。また、方
向性結合器を実現するための導波路構造として実施例に
おいてはリブ型光導波路を例にあげたが、これに限るも
のではなく、埋め込み型等でもよい。また本発明が実施
例で示した素子形状、すなわち各層の厚さや各層の組成
及び導波路寸法等、に限定されるものではないことは言
うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるGaAs/AlGaA
s方向性結合器型光スイッチの構造を示す斜視図、第2
図は一実施例であるGaAs/AlGaAs方向性結合
器型光スイッチの完全結合長の導波路間隔依存性および
その偏光依存性を示す図、第3図は一実施例であるGa
As/AlGaAs方向性結合器型光スイッチのスイッ
チング特性を示す図、第4図は従来例を示す図である。 図において、 101・(111)面n−GaAs基板、102−n−
AIGaAsクラッド層、103・・・i −GaAs
導波層、l−04−i−AIGaAsクラッド層、10
5・p−GaAsキャップ層、106a。 106b−p側電極、107・n側電極、108−p−
AIGaAsクラッド層、120・・・入射光、121
a、 121b・・・出射光、301・(100)面n
 −GaAs基板。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(111)面化合物半導体基板上に第1の半導体
    クラッド層、半導体導波層、第2の半導体クラッド層が
    少なくとも積層されており、該半導体基板上に2本の近
    接した3次元光導波路を形成する手段と、前記2本の3
    次元半導体導波路の各々へ電界を独立に印加する手段と
    を具備していることを特徴とする方向性結合器型光スイ
    ッチ。
  2. (2)2本の近接した3次元導波路において、1本の光
    導波路から他方の光導波路へと導波光パワーが完全に移
    行するのに必要な長さをTEモード、TMモードに対し
    て各々L_T_E、L_T_Mとするとき、方向性結合
    器の素子長Lが、L_T_E≦L≦L_T_Mである請
    求項1記載の方向性結合器型光スイッチ。
JP1048861A 1989-02-28 1989-02-28 方向性結合器型光スイッチ Expired - Lifetime JPH0786624B2 (ja)

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DE69012608T DE69012608T2 (de) 1989-02-28 1990-02-27 Optischer Richtungskupplungsschalter.
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