JPH01121242A - 不飽和アルコールエステルの製造方法 - Google Patents
不飽和アルコールエステルの製造方法Info
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- JPH01121242A JPH01121242A JP63213859A JP21385988A JPH01121242A JP H01121242 A JPH01121242 A JP H01121242A JP 63213859 A JP63213859 A JP 63213859A JP 21385988 A JP21385988 A JP 21385988A JP H01121242 A JPH01121242 A JP H01121242A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/22—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen having three or more carbon atoms in the acid moiety
- C07C69/24—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen having three or more carbon atoms in the acid moiety esterified with monohydroxylic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/297—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by splitting-off hydrogen or functional groups; by hydrogenolysis of functional groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、飽和アルコールからエステルを製造する方法
に関する。さらに明確には、2.2.4−三置換グリコ
ールモノエステルを接触脱水して、不飽和アルコールの
エステルを製造する連続法に関する。
に関する。さらに明確には、2.2.4−三置換グリコ
ールモノエステルを接触脱水して、不飽和アルコールの
エステルを製造する連続法に関する。
[従来技術及び発明が解決しようとする課題]飽和2.
2.4−三置換−1,3−ジオールのモノエステルから
不飽和アルコールのエステルを製造する方法は、以前か
ら知られており、ハーガメイヤ−(Hagemeyer
)らが1968年10月29日イ寸けの米国特許第3
.408.388号にて特許を取得した。
2.4−三置換−1,3−ジオールのモノエステルから
不飽和アルコールのエステルを製造する方法は、以前か
ら知られており、ハーガメイヤ−(Hagemeyer
)らが1968年10月29日イ寸けの米国特許第3
.408.388号にて特許を取得した。
この特許で開示している方法は、グリコールモノエステ
ルを、約り0℃〜約160℃の範囲の温度で、強酸性の
不揮発性触媒に接触させて脱水を起こさせ、そして、対
応する不飽和2.2.4−三置換アルコールのエステル
を生成させることを含む。酸性触媒の有用性は、米国特
許第3.408.388号、第3欄第20〜25行、第
4欄第73〜第5欄13行、及び請求項1の第11欄第
1〜5行で論じられている。この論議において、特許権
者は、第5欄第8〜13行で、適当な触媒に関して「実
際上、酸性硫酸カリウムー−−一等の他の不揮発性化合
物はこの発明の条件下で有効でないが故に、特定の脱水
触媒のグループの要素に幾分限定される。」と明確に述
べている。それゆえ、特許権者は、明らかに自分達の方
法による実験に基づいて、酸性硫酸カリウムが規定した
飽和グリコールモノエステルを脱水して対応する不飽和
2.2.4−三置換アルコールにするための触媒として
不向きであるという積極的な立場をとっている。更に、
この特許の参考資料では、脱水を、実質的に90℃〜1
60℃の温度範囲で、最適範囲として実質的に110℃
〜135℃で行なうべきであるということもまた教示し
ており、規定した広い範囲外で操作することの不利益を
詳細に論議している。同特許は、「脱水温度が160℃
より高いとグリコールモノエステルの脱水はほぼ完全で
あるが、反応の主生成物が不飽和アルコールのエステル
、酸、置換テトラヒドロフラン及び初期の分解又は再配
列反応により形成された他の生成物を含む」ということ
を述べている。特許権者は、160℃より高い温度は避
けるべきで、満足できないものであり、多くの副生成物
をかなりの望まない量でもたらすと産業界にはっきりと
提言している。米国特許第3.408.388号は、以
下に示すように、温度及び生成物の両方に関して、本特
許出願の発明者が見出したことと全く逆のことを教示し
ている。米国特許第3.408、388号中、温度に関
する検討は第5欄第29〜46行で見出される。
ルを、約り0℃〜約160℃の範囲の温度で、強酸性の
不揮発性触媒に接触させて脱水を起こさせ、そして、対
応する不飽和2.2.4−三置換アルコールのエステル
を生成させることを含む。酸性触媒の有用性は、米国特
許第3.408.388号、第3欄第20〜25行、第
4欄第73〜第5欄13行、及び請求項1の第11欄第
1〜5行で論じられている。この論議において、特許権
者は、第5欄第8〜13行で、適当な触媒に関して「実
際上、酸性硫酸カリウムー−−一等の他の不揮発性化合
物はこの発明の条件下で有効でないが故に、特定の脱水
触媒のグループの要素に幾分限定される。」と明確に述
べている。それゆえ、特許権者は、明らかに自分達の方
法による実験に基づいて、酸性硫酸カリウムが規定した
飽和グリコールモノエステルを脱水して対応する不飽和
2.2.4−三置換アルコールにするための触媒として
不向きであるという積極的な立場をとっている。更に、
この特許の参考資料では、脱水を、実質的に90℃〜1
60℃の温度範囲で、最適範囲として実質的に110℃
〜135℃で行なうべきであるということもまた教示し
ており、規定した広い範囲外で操作することの不利益を
詳細に論議している。同特許は、「脱水温度が160℃
より高いとグリコールモノエステルの脱水はほぼ完全で
あるが、反応の主生成物が不飽和アルコールのエステル
、酸、置換テトラヒドロフラン及び初期の分解又は再配
列反応により形成された他の生成物を含む」ということ
を述べている。特許権者は、160℃より高い温度は避
けるべきで、満足できないものであり、多くの副生成物
をかなりの望まない量でもたらすと産業界にはっきりと
提言している。米国特許第3.408.388号は、以
下に示すように、温度及び生成物の両方に関して、本特
許出願の発明者が見出したことと全く逆のことを教示し
ている。米国特許第3.408、388号中、温度に関
する検討は第5欄第29〜46行で見出される。
1972年9月13日付で公表され、ベルドラム・ヨー
マンに発行されそしてBPケミカルス社に譲渡された英
国特許明細書第1.288.615号は、2、2.4−
)リメチルペンタノールー1の製造に関する。その方
法における一工程は、3−ヒドロキシ−2,2,4−)
ジメチルベンチルー1イソブチレートを脱水して2.2
.4−1−リメチルペンテニルイソブチレートにするこ
とを含む。この脱水は、飽和エステルを酸性触媒と接触
させて、水を共沸排除するための共留剤といっしょに、
90℃〜300℃で、5〜50時間、好ましくは12〜
36時間、過熱することにより実行する(第2ページ第
13〜37行)。実施例1(第2ページ第87〜100
行)及び実施例2はこの共沸の操作を説明する。生成物
は得られるが、イソ酪酸2.2.4− )リメチルペン
テニルへの選択率は相対的に低く;実施例1では約83
%、及び実施例2では三つの実験のうちふたつは62%
及び57%の値を示している。これらの選択率は、本出
願人が得れた選択率よりもかなり低い。さらに、本出願
人の方法は、共留剤を必要とせず、反応中の平均接触時
間はより短い。
マンに発行されそしてBPケミカルス社に譲渡された英
国特許明細書第1.288.615号は、2、2.4−
)リメチルペンタノールー1の製造に関する。その方
法における一工程は、3−ヒドロキシ−2,2,4−)
ジメチルベンチルー1イソブチレートを脱水して2.2
.4−1−リメチルペンテニルイソブチレートにするこ
とを含む。この脱水は、飽和エステルを酸性触媒と接触
させて、水を共沸排除するための共留剤といっしょに、
90℃〜300℃で、5〜50時間、好ましくは12〜
36時間、過熱することにより実行する(第2ページ第
13〜37行)。実施例1(第2ページ第87〜100
行)及び実施例2はこの共沸の操作を説明する。生成物
は得られるが、イソ酪酸2.2.4− )リメチルペン
テニルへの選択率は相対的に低く;実施例1では約83
%、及び実施例2では三つの実験のうちふたつは62%
及び57%の値を示している。これらの選択率は、本出
願人が得れた選択率よりもかなり低い。さらに、本出願
人の方法は、共留剤を必要とせず、反応中の平均接触時
間はより短い。
1972年9月20日付けで公表され、ベルドラム・ヨ
ーマンに発行され、そしてBPケミカルス社に譲渡され
た英国特許明細書第1.290.094号は、2,2.
4−トリメチルペンタン−1,3−ジオールな、イソ酪
酸2.2.4−トリメチルペンチルー1と、周期表第1
族、第■族の主族の金属元素の、金属、アルコキシド、
酸化物、または水酸化物の存在下で、トランスエステル
化して2.2.4−トリメチルペンタノール−1を生成
させることに関する。該方法の記述中、イソ酪酸ヒドロ
キシ−2,2,4−トリメチルペンチル−1を、添加し
た2゜2.4−トリメチルペンチルー1.3−ジイソブ
チレート(好ましくは反応中に30重量%より多い含有
量のジイソブチレートエステルを一緒に)との混和物中
で脱水して不飽和イソ酪酸2.2.4− )すメチルペ
ンテニル−1にすることに関する中間的な脱水工程が開
示されている(第2ページ第29行〜87行)。これは
、酸触媒を用いて、120〜200℃で、20〜60時
間、好ましくは30時間の反応時間をかけて成すと述べ
ている(第2ページ第82〜83行)。
ーマンに発行され、そしてBPケミカルス社に譲渡され
た英国特許明細書第1.290.094号は、2,2.
4−トリメチルペンタン−1,3−ジオールな、イソ酪
酸2.2.4−トリメチルペンチルー1と、周期表第1
族、第■族の主族の金属元素の、金属、アルコキシド、
酸化物、または水酸化物の存在下で、トランスエステル
化して2.2.4−トリメチルペンタノール−1を生成
させることに関する。該方法の記述中、イソ酪酸ヒドロ
キシ−2,2,4−トリメチルペンチル−1を、添加し
た2゜2.4−トリメチルペンチルー1.3−ジイソブ
チレート(好ましくは反応中に30重量%より多い含有
量のジイソブチレートエステルを一緒に)との混和物中
で脱水して不飽和イソ酪酸2.2.4− )すメチルペ
ンテニル−1にすることに関する中間的な脱水工程が開
示されている(第2ページ第29行〜87行)。これは
、酸触媒を用いて、120〜200℃で、20〜60時
間、好ましくは30時間の反応時間をかけて成すと述べ
ている(第2ページ第82〜83行)。
該参考資料は、特定の酸触媒の開示を何ら載せておらず
、ジエステルをゆっくり添加することを必要とする(第
2ページ第53〜53行及び第63〜78行)。
、ジエステルをゆっくり添加することを必要とする(第
2ページ第53〜53行及び第63〜78行)。
[課題を解決するための手段]
本発明は、飽和2.2.4−三置換グリコールモノエス
テルを触媒量の不揮発性酸触媒と接触させて約り70℃
〜約270℃の反応器温度で触媒脱水して不飽和2.2
.4−三置換モノエステルを製造する方法である。
テルを触媒量の不揮発性酸触媒と接触させて約り70℃
〜約270℃の反応器温度で触媒脱水して不飽和2.2
.4−三置換モノエステルを製造する方法である。
本発明は、後で示す一般式Iの飽和2.2.4−三置換
グリコールモノエステルを不飽和モノエステルを製造で
きるとこれまで考えられなかった条件下で95%に近い
収率において高い生産速度及び転化率で脱水して、後に
示す一般式■及び■の不飽和2.2.4−三置換モノエ
ステルにする連続法を提供する。本発明の方法において
、飽和2.2.4−三置換グリコールモノエステルを脱
水してそれらの対応する不飽和2.2.4−三置換モノ
エステルにするのに適当でないと従来考えられていた温
度及び触媒を連続法で用い、所望の不飽和生成物を高い
歩留りで得られることを見出した。本発明は、ジエステ
ル又は共留剤を慎重に添加する必要がない。
グリコールモノエステルを不飽和モノエステルを製造で
きるとこれまで考えられなかった条件下で95%に近い
収率において高い生産速度及び転化率で脱水して、後に
示す一般式■及び■の不飽和2.2.4−三置換モノエ
ステルにする連続法を提供する。本発明の方法において
、飽和2.2.4−三置換グリコールモノエステルを脱
水してそれらの対応する不飽和2.2.4−三置換モノ
エステルにするのに適当でないと従来考えられていた温
度及び触媒を連続法で用い、所望の不飽和生成物を高い
歩留りで得られることを見出した。本発明は、ジエステ
ル又は共留剤を慎重に添加する必要がない。
アルデヒドをそれらの対応する飽和2.2.4−三置換
グリコールモノエステルに縮合する際、得られる生成物
は、−11fll的には、下記式■及びV:p ′ を有する二つの異性体の混合物である。
グリコールモノエステルに縮合する際、得られる生成物
は、−11fll的には、下記式■及びV:p ′ を有する二つの異性体の混合物である。
この縮合反応は1周知であり、米国特許第3.091.
632号(ハーガメイヤーら1963年5月28日)、
米国特許第3.291,821号(ベリー(Perry
)ら、1966年12月13日)及び米国特許第3.7
18.689号(マクカーン(MaCain)ら、19
73年2月27日)に完全に収録され、これらの特許は
すべてそれらを製造するための種々の触媒法及びこれら
の化合物の用途を記述している。
632号(ハーガメイヤーら1963年5月28日)、
米国特許第3.291,821号(ベリー(Perry
)ら、1966年12月13日)及び米国特許第3.7
18.689号(マクカーン(MaCain)ら、19
73年2月27日)に完全に収録され、これらの特許は
すべてそれらを製造するための種々の触媒法及びこれら
の化合物の用途を記述している。
これらの飽和化合物についての重要な用途は、酸触媒脱
水反応によって得る不飽和2.2.4−三置換モノエス
テル用の出発原料としてである。■及びVの異性混合物
の脱水は、下記式■及び■:p′ の不飽和2.2.4−三置換モノエステルの混合物を生
じる。
水反応によって得る不飽和2.2.4−三置換モノエス
テル用の出発原料としてである。■及びVの異性混合物
の脱水は、下記式■及び■:p′ の不飽和2.2.4−三置換モノエステルの混合物を生
じる。
しかしながら、もし反応実行する上で注意しなければ、
望まない副生成物を生成してかなりの損失を受は得る。
望まない副生成物を生成してかなりの損失を受は得る。
例えば、化合物■及びVの不均化は下記式のジエステル
: p ′ (式中、両方のR”基は一0CR’基である)及び下記
式のジオール: p ′ を形成するに至り得る。
: p ′ (式中、両方のR”基は一0CR’基である)及び下記
式のジオール: p ′ を形成するに至り得る。
ジエステルは相対的に安定であるけれども、ジオールは
急速に脱水して下記式の不飽和アルコール: p′ になり、それは優先的に環化して下記式の2.2.4゜
4−三置換テトラヒドロフランになる。
急速に脱水して下記式の不飽和アルコール: p′ になり、それは優先的に環化して下記式の2.2.4゜
4−三置換テトラヒドロフランになる。
p′
さらに、反応の間、不飽和アルコールは脱水を受けてC
−8ジエンと他の有機軽質分との複雑な混合物になる。
−8ジエンと他の有機軽質分との複雑な混合物になる。
それゆえ、ジエステル、ジオール、不飽和アルコール、
フラン及び他の副生成物の形成をどんな有意量で回避し
最小にすることは、望ましくは回避する。本発明の方法
は、所望の生成物■及び■に、95%あるいはそれ以上
程に高い転化率を達成するので、高い程度にまで副生成
物の形成を回避する。変数R,R’、R”は、以下に定
義する。
フラン及び他の副生成物の形成をどんな有意量で回避し
最小にすることは、望ましくは回避する。本発明の方法
は、所望の生成物■及び■に、95%あるいはそれ以上
程に高い転化率を達成するので、高い程度にまで副生成
物の形成を回避する。変数R,R’、R”は、以下に定
義する。
開始の間は、望まない副生成物が所望のより高くなり非
能率であることがわかった。しかしながら、反応が進行
するに従い、副生成物の生成が抑止され及び有意に減じ
、その結果、所望の不飽和2、2.4−三置換モノエス
テルに高速度で、90〜95%もしくはそれより高い歩
留り又は選択率で転化する。
能率であることがわかった。しかしながら、反応が進行
するに従い、副生成物の生成が抑止され及び有意に減じ
、その結果、所望の不飽和2、2.4−三置換モノエス
テルに高速度で、90〜95%もしくはそれより高い歩
留り又は選択率で転化する。
本発明において、下記一般式:
の飽和2.2.4−三置換グリコールモノエステルを高
温下で触媒で脱水して下記式: の不飽和2.2.4−三置換モノエステルにする。
温下で触媒で脱水して下記式: の不飽和2.2.4−三置換モノエステルにする。
式Iの亜属は、下記式:
p′
及び
である。
式1〜Vにおいて、R,R’ 、及びR”基は以下の意
味を有する。
味を有する。
Rは、水素又は未置換もしくは置換炭化水素基であり、
該炭化水素基は、 (i)1〜約8個の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭
素原子を有するアルキル基、(it) 5〜6個の炭素
原子の環を有するシクロアルキル基、又は(iff)芳
香族環がフェニルあるいはナフチルのいずれかであるア
リール、アルカリール、又はアラルキル基であり; Roは、Rについて規定した通りのヒドロカルビル基で
あり;及び R”は、(i)水素又は(ii)−OCR’基であり、
但し、式IではR”基のひとつは水素であり及び式1〜
Vにおいて一0CR’基は常に存在することを条件とす
る。
該炭化水素基は、 (i)1〜約8個の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭
素原子を有するアルキル基、(it) 5〜6個の炭素
原子の環を有するシクロアルキル基、又は(iff)芳
香族環がフェニルあるいはナフチルのいずれかであるア
リール、アルカリール、又はアラルキル基であり; Roは、Rについて規定した通りのヒドロカルビル基で
あり;及び R”は、(i)水素又は(ii)−OCR’基であり、
但し、式IではR”基のひとつは水素であり及び式1〜
Vにおいて一0CR’基は常に存在することを条件とす
る。
これらの式の化合物は周知であり、多くは容易に得られ
る。飽和2.2.4−三置換グリコールモノエステルは
米国特許第3,091,632号に記載されている方法
によって、α、α−二置換アセトアルデヒドをトリマー
縮合することによって容易に合成する。飽和2.2.4
−三置換グリコールモノエステルの実例として、 イソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペン
チル、 2−メチル酪酸3−ヒドロキシ−2−エチル−2,4−
ジメチルヘキシル、 2−メチル酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−)リエチ
ルヘキシル、 酢酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル
、 2−メチル酪酸2−エチル−3−ヒドロキシ−2,4−
ジメチルヘキシル、 2−エチルヘキサン酸2−ブチル−2,4−ジエチル−
3−ヒドロキシオクチル、 2−エチル−4−メチルペンタン酸2.4−ジェチル−
3−ヒドロキシ−2−イソブチルヘプチル、 2−エチル酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリエチ
ルヘキシル、 2−シクロへキシルプロピオン酸2−シクロへキシル−
3−ヒドロキシ−2,4−ジメチルヘキシル、 2.2−ジシクロヘキシル酢酸3−ヒドロキシ−2、2
,4−)リシクロへキシルブチル、2−メチル−3−ヒ
ドロキシ−2,4−ジ(p −メチルフェニル)ペンチ
ル2(p−メチルフェニル)プロピオネート、 1−ヒドロキシ−2,2,4−)ツメチルベンチルー3
−インブチレート、 1−ヒドロキシ−2−エチル−2,4−ジメチルへキシ
ル−3(2−メチルブチレート)、1−ヒドロキシ−2
,2,4−トリエチルヘキシル3(2−メチルブチレー
ト)、 1−ヒドロキシ−2,2,4−)ジメチルベンチル3−
アセテートを挙げる。
る。飽和2.2.4−三置換グリコールモノエステルは
米国特許第3,091,632号に記載されている方法
によって、α、α−二置換アセトアルデヒドをトリマー
縮合することによって容易に合成する。飽和2.2.4
−三置換グリコールモノエステルの実例として、 イソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペン
チル、 2−メチル酪酸3−ヒドロキシ−2−エチル−2,4−
ジメチルヘキシル、 2−メチル酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−)リエチ
ルヘキシル、 酢酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル
、 2−メチル酪酸2−エチル−3−ヒドロキシ−2,4−
ジメチルヘキシル、 2−エチルヘキサン酸2−ブチル−2,4−ジエチル−
3−ヒドロキシオクチル、 2−エチル−4−メチルペンタン酸2.4−ジェチル−
3−ヒドロキシ−2−イソブチルヘプチル、 2−エチル酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリエチ
ルヘキシル、 2−シクロへキシルプロピオン酸2−シクロへキシル−
3−ヒドロキシ−2,4−ジメチルヘキシル、 2.2−ジシクロヘキシル酢酸3−ヒドロキシ−2、2
,4−)リシクロへキシルブチル、2−メチル−3−ヒ
ドロキシ−2,4−ジ(p −メチルフェニル)ペンチ
ル2(p−メチルフェニル)プロピオネート、 1−ヒドロキシ−2,2,4−)ツメチルベンチルー3
−インブチレート、 1−ヒドロキシ−2−エチル−2,4−ジメチルへキシ
ル−3(2−メチルブチレート)、1−ヒドロキシ−2
,2,4−トリエチルヘキシル3(2−メチルブチレー
ト)、 1−ヒドロキシ−2,2,4−)ジメチルベンチル3−
アセテートを挙げる。
式■、■及びVの2.2.4−三置換グリコールモノエ
ステルの脱水は、高温化、脱水反応を実施するのに十分
な触媒量の触媒の存在下でたやす〈実施する。
ステルの脱水は、高温化、脱水反応を実施するのに十分
な触媒量の触媒の存在下でたやす〈実施する。
この方法における脱水反応は、反応がまの温度を約り7
0℃〜約270℃、好ましくは約り80℃〜約250℃
にして実施する。反応は、好ましくは連続法で実施し、
反応がまに反応物及び触媒を添加し及びオーバーヘッド
から不飽和エステルを連続して取り出し及び反応水をデ
カントする蒸留器中の操作に適合している。
0℃〜約270℃、好ましくは約り80℃〜約250℃
にして実施する。反応は、好ましくは連続法で実施し、
反応がまに反応物及び触媒を添加し及びオーバーヘッド
から不飽和エステルを連続して取り出し及び反応水をデ
カントする蒸留器中の操作に適合している。
塔の温度は、脱水反応を行なっている反応がま温度、供
給量、圧力及び還流比を変えることによって制御するこ
とができる。蒸留塔の寸法、塔を通過する原料の容積、
冷媒の温度もまた塔の温度に影響を及ぼす。
給量、圧力及び還流比を変えることによって制御するこ
とができる。蒸留塔の寸法、塔を通過する原料の容積、
冷媒の温度もまた塔の温度に影響を及ぼす。
脱水を、触媒量の、実質的に不揮発性の酸触媒を用いて
触媒する。好適な触媒として、弱酸又は強酸を挙げる。
触媒する。好適な触媒として、弱酸又は強酸を挙げる。
これらは当業者に周知であり、ここでは更に進んだ説明
は要しない。しかしながら、好適な酸の典型を更に進ん
で分類をすると、アルカリ金属水素硫酸塩(例えば、硫
酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム)、p−トルエン
スルホン酸(PTSA) 、硫酸、燐酸等を挙げること
ができる。しかしながら、揮発性の生成物と一緒に流出
することによりに、触媒の触媒濃度を維持するには触媒
を償う必要があるかもしれない。本発明の方法の条件下
で、所望の、式■及び■の不飽和2.2.4−三置換モ
ノエステルへの脱水がこのような高い歩留り及び速度で
達成することは、米国特許第3.408.388号の記
述より考えれば全く予期又は予測できなかった。
は要しない。しかしながら、好適な酸の典型を更に進ん
で分類をすると、アルカリ金属水素硫酸塩(例えば、硫
酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム)、p−トルエン
スルホン酸(PTSA) 、硫酸、燐酸等を挙げること
ができる。しかしながら、揮発性の生成物と一緒に流出
することによりに、触媒の触媒濃度を維持するには触媒
を償う必要があるかもしれない。本発明の方法の条件下
で、所望の、式■及び■の不飽和2.2.4−三置換モ
ノエステルへの脱水がこのような高い歩留り及び速度で
達成することは、米国特許第3.408.388号の記
述より考えれば全く予期又は予測できなかった。
米国特許第3.408.388号において、反応条件と
して温度を90℃〜160℃に特定している。この参考
資料は、160℃のより高い脱水温度ではグリコールモ
ノエステルの脱水は殆ど完全であるが、不飽和アルコー
ルのエステルに加えて、酸、置換テトラヒドロフラン及
び他の生成物を形成すると述べている(第5欄第34〜
45行)。また、該資料は、酸性硫酸カリウムが有効で
はなかったと述べている(第5欄第8から13行)。そ
れゆえ、本発明者らが式■及び■の不飽和2.2.4−
三置換モノエステルを、硫酸水素(酸性硫酸)ナトリウ
ム及び硫酸水素(酸性硫酸)カリウム触媒を使用してさ
えも、そのような高い歩留り及び速度で製造できること
を見出したのは驚くことであった。これは、全く予期し
なかったし、先行技術の教示とは逆であった。
して温度を90℃〜160℃に特定している。この参考
資料は、160℃のより高い脱水温度ではグリコールモ
ノエステルの脱水は殆ど完全であるが、不飽和アルコー
ルのエステルに加えて、酸、置換テトラヒドロフラン及
び他の生成物を形成すると述べている(第5欄第34〜
45行)。また、該資料は、酸性硫酸カリウムが有効で
はなかったと述べている(第5欄第8から13行)。そ
れゆえ、本発明者らが式■及び■の不飽和2.2.4−
三置換モノエステルを、硫酸水素(酸性硫酸)ナトリウ
ム及び硫酸水素(酸性硫酸)カリウム触媒を使用してさ
えも、そのような高い歩留り及び速度で製造できること
を見出したのは驚くことであった。これは、全く予期し
なかったし、先行技術の教示とは逆であった。
反応がまに充填する触媒の量は、脱水反応を触媒するの
に十分な量である。この量は、反応器中の飽和2.2.
4−三置換グリコールモノエステルの量を基準として、
約0. OO5〜約5重量%、好ましくは0.05〜1
重量%、もっとも好ましくは、0.1から0.5重量%
である。好ましい触媒は、約0.5重量%より低い濃度
の硫酸水素ナトリウム及び硫酸水素カリウムである。
に十分な量である。この量は、反応器中の飽和2.2.
4−三置換グリコールモノエステルの量を基準として、
約0. OO5〜約5重量%、好ましくは0.05〜1
重量%、もっとも好ましくは、0.1から0.5重量%
である。好ましい触媒は、約0.5重量%より低い濃度
の硫酸水素ナトリウム及び硫酸水素カリウムである。
反応を、約100 mmHg又はより高い圧力で、好ま
しくは、約200 mmHg〜約750 mmHgの圧
力で実施する。圧力は臨界的なものではない。副反応を
最小にするために反応器中での接触時間を出来るだけ短
くするように維持することが好ましい。
しくは、約200 mmHg〜約750 mmHgの圧
力で実施する。圧力は臨界的なものではない。副反応を
最小にするために反応器中での接触時間を出来るだけ短
くするように維持することが好ましい。
しかしながら、これは、採用する、反応器及び塔の寸法
ならびに特定の反応物及び反応条件に応じて変化する。
ならびに特定の反応物及び反応条件に応じて変化する。
一般的には、反応物と不揮発性酸触媒の平均接触時間は
、約0.5時間から又はそれより短い時間から約4,5
時間である。より長い接触時間を採用できるが、意義の
ある利点は無く、望まない反応を招くであろう。
、約0.5時間から又はそれより短い時間から約4,5
時間である。より長い接触時間を採用できるが、意義の
ある利点は無く、望まない反応を招くであろう。
反応は、典型的には、多棚蒸留塔を装備した慣用の蒸留
反応器中で実施する。
反応器中で実施する。
反応器に飽和モノエステル(例えば、2.2.4−三置
換グリコールモノエステル)及び触媒を充填し、減圧下
で所望の温度まで加熱する。系が還流に到達したとき、
メークアップ飽和モノエステルを反応器中の容積を一定
に維持する供給量で反応がまに加え留出物を取り去る。
換グリコールモノエステル)及び触媒を充填し、減圧下
で所望の温度まで加熱する。系が還流に到達したとき、
メークアップ飽和モノエステルを反応器中の容積を一定
に維持する供給量で反応がまに加え留出物を取り去る。
以下に実施例を掲げ、本発明を更に進んで説明する。
[実施例]
K凰■ユ
10棚オールダーシヤー塔と水冷自動還流ヘッドとを装
備した2リツトルの反応がまに、1−ヒドロキシ−2,
2,4−)ジメチルベンチル3−イソブチレートと酪酸
3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルとの
異性体混合物940gと、0.94g(0,1重量%)
の硫酸水素カリウムとを加えた。このイソ酪酸モノヒド
ロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルの異性体混合
物は、以降(A)と呼ぶ。系を150 mmHgにて還
流にもたらし、異性イソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,
4−)−リメチルベンチル(A)を第1表に示す速度で
反応がまに供給した。
備した2リツトルの反応がまに、1−ヒドロキシ−2,
2,4−)ジメチルベンチル3−イソブチレートと酪酸
3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルとの
異性体混合物940gと、0.94g(0,1重量%)
の硫酸水素カリウムとを加えた。このイソ酪酸モノヒド
ロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルの異性体混合
物は、以降(A)と呼ぶ。系を150 mmHgにて還
流にもたらし、異性イソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,
4−)−リメチルベンチル(A)を第1表に示す速度で
反応がまに供給した。
塔を、250〜3oocc/hrの平均供給量及び生成
量でおよそ10時間操作した。反応がまの温度はおよそ
180℃であり、ヘッド温度を115℃に維持するよう
に還流を調整した。二つの2.2゜4−トリメチルペン
チル−1−イソブチレート(B)異性体混合物への生産
効率は、この期間中は85〜91%の範囲にあった。
量でおよそ10時間操作した。反応がまの温度はおよそ
180℃であり、ヘッド温度を115℃に維持するよう
に還流を調整した。二つの2.2゜4−トリメチルペン
チル−1−イソブチレート(B)異性体混合物への生産
効率は、この期間中は85〜91%の範囲にあった。
10時間後、反応がまを元のレベル(470g)の半分
に濃縮して滞留時間を減らし、酸触媒の濃度を増加した
。系を、同じ条件下で更に10時間操作して、比較でき
る結果を得た。実行中、1.5〜5.5%イソ酪酸モノ
ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)を
、有機軽質分及び2゜2、4− )リフチル−1,3−
ベンタンジオール(D)とともにオーバーヘッドから採
取した。
に濃縮して滞留時間を減らし、酸触媒の濃度を増加した
。系を、同じ条件下で更に10時間操作して、比較でき
る結果を得た。実行中、1.5〜5.5%イソ酪酸モノ
ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)を
、有機軽質分及び2゜2、4− )リフチル−1,3−
ベンタンジオール(D)とともにオーバーヘッドから採
取した。
10棚オールダーシヤー塔をその後30棚のオールダー
シャー塔に置き換えて、ジオール(D)の量を減らし、
イソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペン
チル(A)を生成物とともにオバーヘッドから取り出し
た。系を再開し、第1表に示した条件下でおよそ5時間
操作した。結果を第1表に示す。化学量論量の水c〜8
%)を、収集した生成物から分離し、デカントした。
シャー塔に置き換えて、ジオール(D)の量を減らし、
イソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペン
チル(A)を生成物とともにオバーヘッドから取り出し
た。系を再開し、第1表に示した条件下でおよそ5時間
操作した。結果を第1表に示す。化学量論量の水c〜8
%)を、収集した生成物から分離し、デカントした。
反応進行 供給量 圧 力
20−25 240 145 1:426−
30 245 300 2:131−35
330 760 2.5:1釜分析 C:2,2.4−トリメチルペンチル1,3−ジイソブ
チに最初から存在する。
30 245 300 2:131−35
330 760 2.5:1釜分析 C:2,2.4−トリメチルペンチル1,3−ジイソブ
チに最初から存在する。
簾−−」−一一ス
185/104 240 97.5
0 0206/127 245
96.7 0 0246/157
325 95.6 0
031.4 38.6 26.7レート。
注)この化合物の一部は充填した異性混合物(A)中実
流側1は、本発明の方法が以前に反応にぶていると考え
られていた反応がま温度よりも〆反応がま温度で高い効
率であり、以前に米国中、第3.408.388号中で
この反応について非負として開示された材料である硫酸
水素カリウノ触媒として用いることを明白に立証する。
0 0206/127 245
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注)この化合物の一部は充填した異性混合物(A)中実
流側1は、本発明の方法が以前に反応にぶていると考え
られていた反応がま温度よりも〆反応がま温度で高い効
率であり、以前に米国中、第3.408.388号中で
この反応について非負として開示された材料である硫酸
水素カリウノ触媒として用いることを明白に立証する。
罠立側ユ
この実施例では、0.01〜0.05重量%の負・レベ
ルによる本発明の方法の操作を立証する。
ルによる本発明の方法の操作を立証する。
流側1(30棚オールダーシヤー塔)に記載j反応系を
用いてイソ酪酸モノヒドロキシ−2,″;−トリメチル
(A)の異性混合物を反応させt系を第2表の条件下で
およそ5時間操作してり物(B)を生成させた。各時間
で得られた結揖第2表に記載する。
用いてイソ酪酸モノヒドロキシ−2,″;−トリメチル
(A)の異性混合物を反応させt系を第2表の条件下で
およそ5時間操作してり物(B)を生成させた。各時間
で得られた結揖第2表に記載する。
実施例2によると、本発明の方法はより高し度で終始一
貫して有効であり、触媒を相当にイ[触媒濃度で有効に
使用できることがわかる。
貫して有効であり、触媒を相当にイ[触媒濃度で有効に
使用できることがわかる。
夫1jしL二A
この実施例では、酸触媒としてP−トルエンスルホン酸
−水和物を用いる方法の手順を示し、還流比により制御
する通りのヘッド温度に対する生成物組成の感度を説明
する。実施例2に記載した装置により、1000gのイ
ソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−)リメチルペンチ
ル(A)を初期充填し、0.18重量%のPTSA−H
,0を使用して系を操作した。作業の結果を第3表にま
とめた。
−水和物を用いる方法の手順を示し、還流比により制御
する通りのヘッド温度に対する生成物組成の感度を説明
する。実施例2に記載した装置により、1000gのイ
ソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−)リメチルペンチ
ル(A)を初期充填し、0.18重量%のPTSA−H
,0を使用して系を操作した。作業の結果を第3表にま
とめた。
系を出発モノ−エステル(A)と生成物(B)が共に流
出を起こす高いヘッド温度において2−6時間で操作し
た。6−12時間の間では、還流比を増加してヘッド温
度を152℃に低げ、開始剤であるイソ酪酸モノヒドロ
キシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)の流出を
排除した。
出を起こす高いヘッド温度において2−6時間で操作し
た。6−12時間の間では、還流比を増加してヘッド温
度を152℃に低げ、開始剤であるイソ酪酸モノヒドロ
キシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)の流出を
排除した。
L−−−−3−
5成1
2−4 302 590 214/155
52114−6 302 495 2
14/165 6216−12 302 4
00 214/152 41’釜分析 除 見−質−152:4
87.1 9.8 0 0
.80 2:5 76.8 18.6
0 0.45 3:2 9
7.4 0 0 0.715.0
61.6 19.5 1.2実JLf舛】二二
上 この実施例では、実施例3−aで利用した酸触媒を用い
るが、より高いレベルで用いる本発明の方法の操作を示
す。作業の結果を第4表にまとめる。この実施例で用い
る系は、水冷自動還流ヘッドを装備する40棚オールダ
ーシヤー塔及び500ccの反応がまより構成した。系
に、233gのイソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−
トリメチルペンチル(A)と0.40重量%のPTSA
−H2Oとを充填した。−時間口の時間の間における結
果は、開始の間、方法が非効率的であることを立証する
。次の4時間の間、系は安定し及び効率は(B)を製造
する正規の高い歩留りの水準にまで一様に増加する。
52114−6 302 495 2
14/165 6216−12 302 4
00 214/152 41’釜分析 除 見−質−152:4
87.1 9.8 0 0
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61.6 19.5 1.2実JLf舛】二二
上 この実施例では、実施例3−aで利用した酸触媒を用い
るが、より高いレベルで用いる本発明の方法の操作を示
す。作業の結果を第4表にまとめる。この実施例で用い
る系は、水冷自動還流ヘッドを装備する40棚オールダ
ーシヤー塔及び500ccの反応がまより構成した。系
に、233gのイソ酪酸モノヒドロキシ−2,2,4−
トリメチルペンチル(A)と0.40重量%のPTSA
−H2Oとを充填した。−時間口の時間の間における結
果は、開始の間、方法が非効率的であることを立証する
。次の4時間の間、系は安定し及び効率は(B)を製造
する正規の高い歩留りの水準にまで一様に増加する。
第 −A
O−130065193/70−160
5 El−5302225209/161 25F
=285− 5 1:10 67.3 0.9
1.4 0.15 9
5.4 0.7 0.1 0.9夫11し
トニ旦 この実施例では、p−トルエンスルホン酸−水和物等の
弱酸触媒を使用するときに、より低い圧力では反応速度
に悪影響を及ぼすことを示す。1350gのイソ酪酸モ
ノヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルを初期
充填し、実施例2におけるようにして系を操作した。酸
触媒(PTSA・H2O)のレベルを0.10重量%か
ら0.30重量%に変更した。6−25時間の間、系を
300トルで操作したときは、0.10重量%の触媒で
優れた反応速度を維持し、生成物(B)の高い歩留りを
達成した(第5表参照)。圧力を100トルに下げると
、反応がま温度が215℃から188℃に低下し、その
結果、触媒濃度が0.10重量%にて(25−32時間
)反応速度が目覚ましく低下した。酸のレベルを3倍(
0,10から0.30重量%、32−39時間)に増加
してさえも、速度は系を300トルで操作したときに観
測したレベルまで戻らなかった。しかしながら、それで
も所望の生成物(B)を生成した。
5 El−5302225209/161 25F
=285− 5 1:10 67.3 0.9
1.4 0.15 9
5.4 0.7 0.1 0.9夫11し
トニ旦 この実施例では、p−トルエンスルホン酸−水和物等の
弱酸触媒を使用するときに、より低い圧力では反応速度
に悪影響を及ぼすことを示す。1350gのイソ酪酸モ
ノヒドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチルを初期
充填し、実施例2におけるようにして系を操作した。酸
触媒(PTSA・H2O)のレベルを0.10重量%か
ら0.30重量%に変更した。6−25時間の間、系を
300トルで操作したときは、0.10重量%の触媒で
優れた反応速度を維持し、生成物(B)の高い歩留りを
達成した(第5表参照)。圧力を100トルに下げると
、反応がま温度が215℃から188℃に低下し、その
結果、触媒濃度が0.10重量%にて(25−32時間
)反応速度が目覚ましく低下した。酸のレベルを3倍(
0,10から0.30重量%、32−39時間)に増加
してさえも、速度は系を300トルで操作したときに観
測したレベルまで戻らなかった。しかしながら、それで
も所望の生成物(B)を生成した。
第一5
17−25 PTSA(0,10) 300
250 215/]釜分析 25−32 PTSA(0,10) 100
210 188/−32−39PTSA(0,30)
Zoo 215 1gg/130.0
52 11.6145 280
1:3 97.016.3 62.3
17.975 57.0 39
.020−130 195 2:4 92.
3 4.6実速1肌乙 この実施例では、酸触媒として硫酸水素ナトリウム(N
aH3O4)を種々の圧力で用いる本発明の方法の操作
を説明する。実施例2で記載した装置を用いて、100
0gのイソ酪酸モノヒドロキシ−2、2,4−トリメチ
ルペンチル(A)を初期充填し、0.10重量%のNa
H3O4を使用して系を操作した。運転開始(1−3時
間)を除いて、反応効率は試験したすべての圧力(第6
表参照)で高かった(95十%)。大気圧(30−36
時間)でさえ、反応は高い効率及び速度で進行して(B
)を生成した。
250 215/]釜分析 25−32 PTSA(0,10) 100
210 188/−32−39PTSA(0,30)
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52 11.6145 280
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17.975 57.0 39
.020−130 195 2:4 92.
3 4.6実速1肌乙 この実施例では、酸触媒として硫酸水素ナトリウム(N
aH3O4)を種々の圧力で用いる本発明の方法の操作
を説明する。実施例2で記載した装置を用いて、100
0gのイソ酪酸モノヒドロキシ−2、2,4−トリメチ
ルペンチル(A)を初期充填し、0.10重量%のNa
H3O4を使用して系を操作した。運転開始(1−3時
間)を除いて、反応効率は試験したすべての圧力(第6
表参照)で高かった(95十%)。大気圧(30−36
時間)でさえ、反応は高い効率及び速度で進行して(B
)を生成した。
第一−−一旦−
電量
一/hr
釜分析
12−20 150 255 188:/12
F 330釜分析 21−29 302 325 207/148
387釜分析 30−36 760 575 253/177
476釜分析 曳−l−」− y 還流此 B % A % C% D %
2:4 96.7 0 0
0.423.6 44.8 24.6 2:3 96.7 0 0
0.426.4 40.7 25.9 1:1 95.6 0 0
0.316.0 48 28 実JJL旦 この実施例では、より長時間に渡って触媒(NaH3O
4)を用いる本発明の方法の操作を説明する。この実施
例で用いる系は、水冷自動還流ヘッドを装備する40棚
オールダーシヤー塔及び2リツトルの反応がまより構成
した。反応がまに、1500gのイソ酪酸モノヒドロキ
シ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)と0.20
重量%のNaH3O4とを充填した。実験を、70時間
の期間に渡り全部で26.2リツトルを供給して実行し
た。塔を300トルで操作し、(B)を製造する反応速
度及び効率は作業を通じて高かった(第7表参照)。
F 330釜分析 21−29 302 325 207/148
387釜分析 30−36 760 575 253/177
476釜分析 曳−l−」− y 還流此 B % A % C% D %
2:4 96.7 0 0
0.423.6 44.8 24.6 2:3 96.7 0 0
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0.316.0 48 28 実JJL旦 この実施例では、より長時間に渡って触媒(NaH3O
4)を用いる本発明の方法の操作を説明する。この実施
例で用いる系は、水冷自動還流ヘッドを装備する40棚
オールダーシヤー塔及び2リツトルの反応がまより構成
した。反応がまに、1500gのイソ酪酸モノヒドロキ
シ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)と0.20
重量%のNaH3O4とを充填した。実験を、70時間
の期間に渡り全部で26.2リツトルを供給して実行し
た。塔を300トルで操作し、(B)を製造する反応速
度及び効率は作業を通じて高かった(第7表参照)。
種々の間隔で行なった反応がま分析により、観測できる
悪影響を脱水反応に及ぼさないで、反応がまの2.2.
4− )ジメチルペンチル1.3−ジイソブチレートの
含有量が実験を通じてしだいに増加(7,2〜50.8
%)したことがわかった。極微量のジエステルが供給(
A)中に最初から存在し、及び反応中にもまた本発明の
方法により生成することに注意すべきである。
悪影響を脱水反応に及ぼさないで、反応がまの2.2.
4− )ジメチルペンチル1.3−ジイソブチレートの
含有量が実験を通じてしだいに増加(7,2〜50.8
%)したことがわかった。極微量のジエステルが供給(
A)中に最初から存在し、及び反応中にもまた本発明の
方法により生成することに注意すべきである。
ヘ 寸 ω
ocOトCD0OoOω ωω
の へ ω 寸−ト
o ■ ヘ ヘ − − 一〇−■00 (’、トLD■ト ト■ω O■ へ
■己トドCf3a15cI15ドドーー 好己己 m−
−ど■■■■へ ■■■■へ ■■へ ■へ ■■αX
つntΩ 「ルΩO旧 0■ ○ ω
0へDO■ へ■サト ωの ■ ■0ののの
■ のへ寸へ 寸! 寸 寸のトド■ト ト
ωト賃 ■■ 寸 ■■ODりD 唖旧唖旧
の■ D ■■+−1−−CN αへ 一+−1−−−−+−1−−+−1+−1+−T +−
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)0 0000 G)OO0−1−m−へ へ
へへへ −へ へ ヘヘ■■0■ D■唖ω
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Oへ Dω−の ■■ の ト。
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ののω0姫 の■■−楕 寸ト顕 −姫 0■のωの寸
ぐササ■ ■0 ω ω■実m旦 この実施例では、水及び有機軽質分の無い高純度の生成
物を製造する方法の操作を説明する。さらに、93%の
異性イソ酪酸モノヒドロキシ−2゜2.4−トリメチル
ペンチル(A)、2.5%の2.2゜4−トリメチル−
1,3−ペンタジオール及び2.6%の2.2.4−)
ジメチルペンチル1.3−ジイソブチレートからなる粗
製の供給を用いて系をうま〈実施することを示す。ジオ
ール及びジイソ酪酸を加えて触媒反応にいかに有意の影
響を及ぼすかどうかを測定した。この実施例で用いる系
は、2リツトルの反応がま、液体ティクオフアダプター
に結合した30棚及び20棚オールグーシヤー塔ならび
に水冷自動還流ヘッドから構成した。
ぐササ■ ■0 ω ω■実m旦 この実施例では、水及び有機軽質分の無い高純度の生成
物を製造する方法の操作を説明する。さらに、93%の
異性イソ酪酸モノヒドロキシ−2゜2.4−トリメチル
ペンチル(A)、2.5%の2.2゜4−トリメチル−
1,3−ペンタジオール及び2.6%の2.2.4−)
ジメチルペンチル1.3−ジイソブチレートからなる粗
製の供給を用いて系をうま〈実施することを示す。ジオ
ール及びジイソ酪酸を加えて触媒反応にいかに有意の影
響を及ぼすかどうかを測定した。この実施例で用いる系
は、2リツトルの反応がま、液体ティクオフアダプター
に結合した30棚及び20棚オールグーシヤー塔ならび
に水冷自動還流ヘッドから構成した。
粗製原料を2リツトルの反応がま(初期充填量が135
0g)に供給し、塔中央の生成(主として生成物(B)
で構成された)を反応がま上方の30棚から採取し、一
方、有機軽質分及び水をオーバーヘッドから採取した(
反応がま上方の50棚)。酸触媒として0.30重量%
の硫酸水素ナトリウムを用いて300トルで塔を操作し
た。塔中央の生成の組成(98%以上の生成物(B))
は、第8表で示すように優れていた。オーバーヘッドの
生成量は、塔中央の生成量に比べると低かった。
0g)に供給し、塔中央の生成(主として生成物(B)
で構成された)を反応がま上方の30棚から採取し、一
方、有機軽質分及び水をオーバーヘッドから採取した(
反応がま上方の50棚)。酸触媒として0.30重量%
の硫酸水素ナトリウムを用いて300トルで塔を操作し
た。塔中央の生成の組成(98%以上の生成物(B))
は、第8表で示すように優れていた。オーバーヘッドの
生成量は、塔中央の生成量に比べると低かった。
oO
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:1
実Jl肌ユ
この実施例では、バッチモードでの本発明の方法の操作
を示す。この実施例で用いる系は、水冷自動還流ヘッド
を装備する40棚オールダーシヤー塔及び3リツトルの
反応がまより構成した。系に、2kgのイソ酪酸モノヒ
ドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)及び
0.30重量%のNaH3O,を充填した。バッチ反応
からの結果を第9表にまとめる。運転開始(0−2時間
)を除いて、反応効率は高かった(〉90%)。反応の
末期近くでは(14−16時間)、生成物Bは高純度(
99%)でオーバーヘッドに流出した。
を示す。この実施例で用いる系は、水冷自動還流ヘッド
を装備する40棚オールダーシヤー塔及び3リツトルの
反応がまより構成した。系に、2kgのイソ酪酸モノヒ
ドロキシ−2,2,4−トリメチルペンチル(A)及び
0.30重量%のNaH3O,を充填した。バッチ反応
からの結果を第9表にまとめる。運転開始(0−2時間
)を除いて、反応効率は高かった(〉90%)。反応の
末期近くでは(14−16時間)、生成物Bは高純度(
99%)でオーバーヘッドに流出した。
実11引旦
この実施例では、2−メチル酪酸2−エチル−3,4−
ジメチル−3−ヒドロキシ−ヘキシルと2−エチル−2
,4−ジメチル−1−ヒドロキシ−ヘキシル3(2−メ
チルブチレート)(E)との粗製混合原料を用いる本発
明の方法の操作を示す。
ジメチル−3−ヒドロキシ−ヘキシルと2−エチル−2
,4−ジメチル−1−ヒドロキシ−ヘキシル3(2−メ
チルブチレート)(E)との粗製混合原料を用いる本発
明の方法の操作を示す。
この原料は、数パーセントの2−エチル−2,4−ジメ
チル−1,3−ヘキサンジオール(F)及び2−エチル
−2,4−ジメチル−1,3−ヘキサンジオールジ(2
−メチルブチレート)(G)をもまた含ものであった。
チル−1,3−ヘキサンジオール(F)及び2−エチル
−2,4−ジメチル−1,3−ヘキサンジオールジ(2
−メチルブチレート)(G)をもまた含ものであった。
1482gの2−メチル酪酸モノヒドロキシ−2−エチ
ル−2,4−ジメチルヘキシル(E)の初期充填物を3
.2g(0,21%)の硫酸水素ナトリウム触媒と一緒
に実施例1で記載した反応系(30棚オールダーシヤー
塔)において用いた。反応系を34時間操作した。代表
的な結果を第10表に記載する。予期した2−エチル−
2,4−ジメチルへキセニル−1−(2−メチル−ブチ
レート)(H)の混合物に加えて、いくらかの異性2−
エチル−2,4−ジメチル−ヘキセン一1オール(I)
が生成物(H)とともに留出した。この原料の場合、所
望の生成物(H)の歩留りは実施例1〜7よりも低かっ
たが、適用はそれでも米国特許第3.408.388号
にて適用できないとこれまで考えられていた温度及び触
媒の条件で生成物(H)を生成することが可能である。
ル−2,4−ジメチルヘキシル(E)の初期充填物を3
.2g(0,21%)の硫酸水素ナトリウム触媒と一緒
に実施例1で記載した反応系(30棚オールダーシヤー
塔)において用いた。反応系を34時間操作した。代表
的な結果を第10表に記載する。予期した2−エチル−
2,4−ジメチルへキセニル−1−(2−メチル−ブチ
レート)(H)の混合物に加えて、いくらかの異性2−
エチル−2,4−ジメチル−ヘキセン一1オール(I)
が生成物(H)とともに留出した。この原料の場合、所
望の生成物(H)の歩留りは実施例1〜7よりも低かっ
たが、適用はそれでも米国特許第3.408.388号
にて適用できないとこれまで考えられていた温度及び触
媒の条件で生成物(H)を生成することが可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)下記式の飽和2,2,4−三置換グリコールモノ
エステル: ▲数式、化学式、表等があります▼ I を、170℃〜270℃の反応がま温度で、脱水反応を
触媒するのに十分な触媒量の、実質的に不揮発性の酸触
媒に接触させて触媒脱水して、下記式の不飽和2,2,
4−三置換モノエステル: ▲数式、化学式、表等があります▼II 及び ▲数式、化学式、表等があります▼III (上記 I 〜III式中、Rは、水素又はR′基であり;R
′は、(i)1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、
(ii)5〜6個の炭素原子の環を有するシクロアルキ
ル基、又は(iii)芳香環がフェニル又はナフチルで
あるアリール、アルカリール、又はアラルキル基であ り;及びR″は、(i)水素又は(ii)−OCR′基
であり、但し、式 I 中、R″基のひとつは水素であり
並びに式 I 、II及びIII中、 −OCR′基が常に存在する) を製造する方法。 (2)化合物( I )が下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼IV を有し、及びR″が−OCR′基である請求項1に記載
の方法。 (3)化合物( I )が下記式: ▲数式、化学式、表等があります▼V を有し、及びR″が−OCR′基である請求項1に記載
の方法。 (4)R′が1〜4個の炭素原子を有するアルキル基で
ある請求項1に記載の方法。 (5)R及びR′がメチルである請求項1に記載の方法
。 (6)不飽和2,2,4−三置換モノエステルが2−メ
チル酪酸エチルジメチルヘキセン異性体の混合物である
請求項1に記載の方法。 (7)脱水反応を180℃〜250℃の反応がま温度で
実施する請求項1に記載の方法。(8)酸触媒が硫酸水
素ナトリウムである請求項1に記載の方法。 (9)酸触媒が硫酸水素カリウムである請求項1に記載
の方法。 (10)酸触媒がp−トルエンスルホン酸である請求項
1に記載の方法。 (11)酸触媒が硫酸である請求項1に記載の方法。 (12)化合物( I )がイソ酪酸3−ヒドロキシ−2
,2,4−トリメチルペンチルである請求項1に記載の
方法。 (13)上記不飽和2,2,4−三置換モノエステルが
2,2,4−トリメチルペンテニル−1−イソブチレー
トの不飽和異性体の混合物である請求項1に記載の方法
。 (14)飽和2,2,4−三置換グリコールモノエステ
ルがイソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチル
ペンチルであり、及び不飽和2,2,4−三置換モノエ
ステルがイソ酪酸2,2,4−トリメチル−3−ペンテ
ニルとイソ酪酸2,2,4−トリメチル−4−ペンテニ
ルとの混合物である請求項1に記載の方法。 (15)飽和2,2,4−三置換グリコールモノエステ
ルがイソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチル
ペンチルであり、及び不飽和2,2,4−三置換モノエ
ステルがイソ酪酸2,2,4−トリメチル−3−ペンテ
ニルとイソ酪酸2,2,4−トリメチル−4−ペンテニ
ルとの混合物であり、酸触媒が硫酸水素ナトリウムであ
り、反応がま温度が180℃〜250℃である請求項1
に記載の方法。 (16)飽和2,2,4−三置換グリコールモノエステ
ルがイソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチル
ペンチルであり、及び不飽和2,2,4−三置換モノエ
ステルがイソ酪酸2,2,4−トリメチル−3−ペンテ
ニルとイソ酪酸2,2,4−トリメチル−4−ペンテニ
ルとの混合物であり、酸触媒が硫酸水素カリウムであり
、反応がま温度が180℃〜250℃である請求項1に
記載の方法。 (17)飽和2,2,4−三置換グリコールモノエステ
ルがイソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチル
ペンチルであり、及び不飽和2,2,4−三置換モノエ
ステルがイソ酪酸2,2,4−トリメチル−3−ペンテ
ニルとイソ酪酸2,2,4−トリメチル−4−ペンテニ
ルとの混合物であり、酸触媒がp−トルエンスルホン酸
であり、反応がま温度が180℃〜250℃である請求
項1に記載の方法。 (18)飽和2,2,4−三置換グリコールモノエステ
ルがイソ酪酸3−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチル
ペンチルであり、及び不飽和2,2,4−三置換モノエ
ステルがイソ酪酸2,2,4−トリメチル−3−ペンテ
ニルとイソ酪酸2,2,4−トリメチル−4−ペンテニ
ルとの混合物であり、酸触媒が硫酸であり、反応がま温
度が180℃〜250℃である請求項1に記載の方法。
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